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    公开号:WO1992014744A1
    申请号:PCT/JP1992/000170
    申请日:1992-02-19
    公开日:1992-09-03
    发明作者:Katsuya Matsumoto；Takashi Ebata；Hajime Matsushita
    申请人:Japan Tobacco Inc.；
    IPC主号:C07H3-00
    专利说明:
    [0001] 明 細 書
    [0002] D—ァロサンの製造方法
    [0003] 技 術 分 野
    [0004] この発明は、 レポグルコセノ ンから、 天然には希にしか存 在しない希少糖の誘導体である D—ァロサンを製造する方法 に関する。
    [0005] 背 景 技 術
    [0006] 近年、 医薬品、 農薬などのフアイ ンケ ミ カル分野において, 生理活性物質と して有用な機能を有するォリ ゴ糖ゃポ リサッ 力ライ ドなどの糖鎖をはじめとする含糖化合物が注目されて いる。 含糖化合物の研究においてそれを合成することは極め て重要であるが、 現在、 構成単位 （出発原料） と しての単糖 の多く は、 D —グルコース、 D —マンノ ース、 D —ガラ ク ト ース等の天然に多く存在し入手の容易な糖に由来するもので ある。 しかしながら、 今後、 より有用な機能を発現する含糖 化合物を合成しょう とする場合には、 天然糖のみならず様々 な単糖を供給することが必要となる。 これに加えて、 上述の ような事情により、 供給される単糖は出発原料と して有効な 構造を有していることが望ま しい。 したがって、 天然には希 にしか存在せず入手が困難な希少糖を、 利用価値の高い構造 を有する糖誘導体の形態で合成する製造法の開発が求められ ている。
    [0007] 上述の希少糖の一つと して D —ァロースがあり、 その 1 , 6 - ア ンヒ ドロ糖と して下記一般式 （IV ) で表わされる D —ァロ サンがある。
    [0008]
    [0009] H 0 0 H
    [0010] D—ァロサンは水酸基の立体配置が D—ァロースと同じで あり、 1位及び 6位の水酸基同士でアンヒ ドロ結合をするこ とによりァセタール構造を有しているため、 1位、 5位およ び 6位の水酸基が既に位置選択的に保護されている。 このた め D—ァ口サンの構造は、 含糖化合物の出発原料と しては、 D -ァロースそのものより も、 水酸基の位置選択的な保 S基 の導入工程の短縮化、 簡易さの点において有効な構造である。
    [0011] D—ァロース、 D—ァロサンを構成成分とする含糖化合物 は、 抗炎症剤、 抗腫瘍剤、 貧血治療薬、 抗生物質と しての用 途が考えられる。
    [0012] D—ァロサンの製造法についてはこれまで種々の方法が試 みられている。 ^えば、 キリアニ · フィ ッ シャー合成法によ り D— リボースから D—ァロースを経て合成する方法
    [0013] ( J. P r ί ί t 2nd . K. R ί c h t m y e r ヽ J. Am. Chem. Soc. s 1Ί、 1 0ό ( 1955) ) 、 ト ウモロコ シのデンプンを熱分解して 1, アン ヒ ドロ - -D -グルコ ビラ ノ ース （ D—グルコサン） を 、 次にその 3位の ^配置の水酸 Sを酸化し、 その後還元して 配置の水酸基とすることにより！）ーァロサンを得る方法
    [0014] (K. Heyns 、 J. Weyer 、 H. Paulsen 、 Chem. Ber、 100、 2317 ( 1967 ) ) が知られている。
    [0015] しかしながら、 前者は中間体の D—ァロースを得る工程が 立体選択的な反応でないために、 D—ァロ ースの C -2ェピマ 一であるアル ト口配置の D—アル ト 口ン酸が生成する。 この ため、 これを分別し、 結晶化して除去しなければならず、 収 率も低い。 また、 中間体の D—ァロースから酸触媒下で 1, 6- アンヒ ドロ結合を形成させて D—ァロサンを得る工程におい ては、 酸性水溶液中では D—ァロサンと原料の D—ァロース が約 14： 86の比で平衡となるため、 原料がより多く 回収され る。 このため総収率が悪く 、 5工程で 2.4%程度である （最 後の工程で原料回収分を考慮にいれても 12%である） 。
    [0016] 後者においては、 初めの D—グルコサンを得る工程と次の D—ダルコサンの 3位の 配置の水酸基を酸化する工程の収 率が低く 、 それぞれ 25%と 14〜19%である。 また、 最後の 3 位のカルボ二ル基を還元する工程も立体選択的でなく 、 水酸 基がひ配置に還元された D—ァロサンの他に、 水酸基が；9配 置に還元された D—グルコサン （すなわち原料） も生成して しまい、 この工程での収率も 30%と低い。 このため総収率は、 5工程で 1.1%程度と非常に低い。
    [0017] 発 明 の 開 示
    [0018] この発明は、 D—ァロサンを選択的かつ高収率で得るこ と ができる製造方法を提供することを目的とする。
    [0019] 本発明者は、 上記目的を達成するため鋭意研究を重ねた結 果、 セルロースの熱分解物と して知られるレボダルコセノ ン (Carbohydrate Research 、 58 ( 1977) 、 78-87 ) を出発物 質とし、 水酸基をカルボニル基の還元や二重結合への酸化的 付加反応によって導入して、 立体選択的で、 かつ従来の製造 法より収率良く D—ァロサンを得る経路を見出した。
    [0020] 即ち、 この発明の D—ァ σサンの製造方法は、
    [0021] ( a ) 下記一般式 （ I ) で表わされる レボグルコセノ ンの 2位のカルボ二ル基を還元して 配置の水酸基とすることに より、 下記一般式 （Π) で表わされる化合物を得る工程と、
    [0022]
    [0023] (Π )
    [0024] ( b ) 工程 （ a ) で得られた一般式 （It) で表わされる化 合物における 2位の； 3配置の水酸基を α配置に反転して、 下 記一般式 （Π) で表わされる化合物を得る工程と、
    [0025]
    [0026] (こ こで Rはァ シル基を示す。 ）
    [0027] ( c ) 工程 （b ) で得られた一般式 （ΙΠ) で表わされる化 合物の 3位および 4位に水酸基をシス - ひ配置に付加させる 工程と、
    [0028] ( d ) 一般式 （m) で表わされる化合物における 2位の水 酸基の保護基を脱離させて、 下記一般式 （W) で表される D ーァロサ ンを得る工程とを具備することを特徴とする。
    [0029]
    [0030] H〇 0 H 発明を実施するための最良の形態
    [0031] 以下、 この発明による D—ァロサンの製造方法を各工程を 追って具体的に説明する。
    [0032] まず、 工程 （ a ) において、 一般式 （ I ) で表わされるレ ボグルコセノ ンの 2位のカルボ二ル基を還元して水酸基と し、 還元物である一般式 （H) で表わされる化合物を得る。 この 反応は通常用いられる還元法により行なう ことができ、 例え ば、 レボグルコセノ ンを、 適当な溶媒中において、 水素化リ チウムアルミニウムや水素化ホウ素ナ ト リ ゥムなどと反応さ せればよい。 この工程の収率は、 通常 70%以上である。 この 反応においては、 適当な溶媒と して通常の有機溶媒や水など を用いることができるが、 特に限定されるものではない。
    [0033] 続く工程 （b ) においては、 工程 （ a ) で得られた一般式 (Π) で表わされる化合物の 2位の 配置の水酸基を α配置 へと反転させる。 この反転の方法と しては、 光延法 （O. Mi is unobu 、 Synthesis 、 1 (19S1) ) 、 またはメ シル化と酢酸 セシウムを用いる方法 （W. B. Kruizinga 、 B. St ri j t veen R. . Kel logg . J. Org. C em. 、 46、 4321 ( 1981) ； Y. Toris2waN H. Okabe 、 S. Ikegami 、 Chem. Let t.. 1555 ( 1984) ) を好適 に用いることができる。 光延法は、 酸化剤と してのジェチル 了ゾジカルボキシレ— トおよび還元剤としての ト リ フエニル ホスフィ ンの存在下で、 カルボン酸等の比較的強い酸性化合 物を用いて水酸基の置換を行なう ものである。 この置換が水 酸基の反対側から起こり、 結果的に水酸基の反転が起こる (同時に、 水 gxSは保護された形になっている） 。 また、 メ シル化と酢酸セシゥムを用いる方法は、 ピリ ジンのような適 当な溶媒中で塩化メ シル等を作用させて 2位の水酸基をメ シ ル化し、 次いで酢酸セシウムと反応させることにより水酸基 を反転させる。 これらの手法を一般式 （ Π ) で表わされる化 合物に適用することにより、 一般式 （ΙΠ ) で表わされる化合 物に変換することができる。 なお、 光延法により反転した場 合には、 一般式 （ΠΙ ) における保證基 Rは、 通常保護基と し て用いられるァシル基であればどのような基であつてもよく 、 特に限定されるものではない。 この工程の収率は、 通常 76 % 以上である。
    [0034] 続く工程 （ c ) においては、 工程 （ b ) で得られた化合物 の 3位と 4位にわたる二重結合を酸化し、 2つの水酸基を cr 配置にシス一付加させる。 この酸化は、 例えば、 適当な溶媒 中において、 四酸化オス ミ ウムや過マンガン酸カ リ ウム等の 酸化剤を用いて行なう ことができる。 こ こで用いられる溶媒 と しては、 通常の有機溶媒や水あるいはそれらの混合溶媒を 好適に用いることができる力《、 特に限定されるものではない。 なお、 四酸化オス ミ ウムを触媒量用いる場合は、 共酸化剤と して、 N-メチルモルホ リ ン Ν·-ォキサイ ド、 塩素酸アル力 リ 金属塩、 塩素酸アルカ リ土類金属塩等を用いることができる。 最後に、 工程 （ d ) において、 2位の水酸基に導入されて いる保護基を脱離させて、 一般式 （W ) で表わされる D—ァ 口サンを得る。 この際の反応条件は、 通常ァシル基の除去に おいて用い得る全ての条件を用いることができる。 例えば、 水酸化ナ ト リ ゥムゃ水酸化力 リ ゥム等のアル力 リ水酸化物、 炭酸ナ ト リ ウムや炭酸カ リ ウム等のアル力 リ炭酸塩、 ナ ト リ ゥムメ トキシ ドゃカ リ ゥムブトキシ ド等の金属アルコキシ ド、 またはアンモニア水等を用いて塩基性条件下で行なう ことが できる。 一方、 1, 6-アンヒ ドロ結合が切断されないような酸 性条件下で行なう こともできる。 この工程の収率は、 通常 60
    [0035] %以上である。
    [0036] なお、 生成物である一般式 （IV) で表わされる D —ァロサ ンは、 酸性水溶液中にて 1, 6-ァンヒ ドロ結合を酸加水分解す るこ とにより、 D —ァロースへと導く こ とができる （U. P, Singh 、 R. K. Brown 、 Can. J. Chem. 、 49、 1179 ( 1971) ) ) 。 以下、 実施例により この発明を更に詳細に説明する。
    [0037] なお、 この実施例においては、 融点は MR K光電式自動融 点測定装置、 比旋光度は SCO DIP-370. I Rは SCO FT/ IS-5000 、 N MRは Bruker AM-300を利用して測定した。
    [0038] 実施例 1
    [0039] (工程 1 ) 1, 6_ アンヒ ドロ- 3, 4- ジデォキシ -/S -D - ス レオ -へキソ -3- エノ ビラノ ース （化合物 （Π ) ) の合成 水素化リチウムアルミニウム 2. 42 s (63. 8ミ リモル） を 乾燥エーテル 200 mJ2 に添加し、 窒素封入下氷水浴中で冷却 しな力《ら、 レボグルコセノ ン 7. 9S g (63. 3ミ リ モル） を乾 燥エーテル 130 mj に溶解した溶液を滴下した。 滴下後、 室 温で 1時間撹拌し、 さらに水 4. 6ϋ g ( 256ミ リモル） を滴 下した。 得られた反応液にメ タノールを添加して不溶物をろ 別し、 減圧下でろ液から溶媒を留去した。 溶媒留去後の残渣 シ リ カゲルカラムク ロマ トグラフ （へキサン- ジェチルェ 一テル- 1 : 1 〜 1 : 2 ) にて精製し、 その後へキサン- ジ ェチルエーテル混合溶媒 （混合比 ； 4 : 1 ) を用いて再結晶 する こ とにより、 1, 6-ァ ン ヒ ドロ - 3, 4- ジデ才キシ - β -D
    [0040] -ス レオ -へキソ -3- エノ ビラノ ース （化合物 （ Π ) )
    [0041] 5. 70 g (収率 70. 3%) を得た。
    [0042] 融点 ： 65. 6〜66. VC
    [0043] 25 30.3。 （ c =】， 00、 C H C 3 )
    [0044] I R 3412 (br) 、 3050 (w)
    [0045] D12 X 、 1425 (m) 、
    [0046] 1259 (m) 1180 (m) 、 1125 ( s ) 、 1071 ( s ) 、 1046 ( s )
    [0047] 1 H N MR ( C D C j 3 T M Sからの ppm)
    [0048] 0 H 2. 10 (1H、 d、 J = 12. 0 Hz ) 、
    [0049] 1位 5. 52 (1H. b )
    [0050] 2位 4. 34 (1H、 m) 、
    [0051] 3位 5. 72 (1H、 ddd 、 J = 2. 2s 2. 2、 9. 9 Hz) 、 4位 6. 12 (1H、 dd、 J = . 2 s 9. 9 Hz ) 、
    [0052] 5位 4. 67 (1H、 ddヽ J = 4. 1、 4. 2 Hz ) 、
    [0053] 6位 3. 74 -3. 78 ( 1 H、 dd, J = 4. K 6. 6 Hz ) 、
    [0054] 3. 84 (1H、 d、 J = 6. 6 Hz )
    [0055] (工程 2 ) 1 , 6 - ア ン ヒ ド口 -3, 4 - ジデォキシ -2 - 0 -
    [0056] ( 3, 5 -ジニ ト ロべンゾィノレ） - β - D -エ リ ス口 -へキソ - 3 - エノ ビラ ノースの合成
    [0057] 1, 6-アンヒ ドロ - 3, 4 _ ジデォキシ - β -D -ス レオ -へキ ソ -3- エノ ビラ ノ ース 1. 92 g ( 15. 0ミ リ モル） 、 ト リ フエ ニルホスフィ ン 7. 87 g (30. 0ミ リ モル） および 3, 5- ジニ 0
    [0058] 2
    [0059] トロ安息香酸 6.36 g (30, 0ミ リモル） を乾燥 TH F 24m に添加し、 さらに窒素封入下で氷水浴中において、 ジェチル ァゾジカルボキシレー ト 5.23 s (30.0ミ リモル） を乾燥 T H F 24 mi に溶解した溶液を除々に滴下した。 室温で 20時 間撹拌した後、 減圧下で反応液から溶媒を留去し、 残渣から シリカゲルカラムクロマ トグラフ （溶離液 ； ク ロロホルム） にて副生成物の 卜 リフエニルホスフィ ンォキサイ ドを除去し た。 次いで、 得られた溶出液から減圧下で溶媒を留去し、 残 渣をシリカゲルカラム *ク ロマ 卜グラフ （へキサン- 酢酸ェチ ル == 4 ： 1 〜 3 ： 1 ) にて精製した後、 へキサン- ジェチル エーテル- クロロホルム混合溶媒 （混合比 ； 1 ： 1 ： 1 ) を 用いて再結晶することにより、 1, 6-アンヒ ドロ- 3, 4- ジデォ キシ -2- 0 - (3, 5-ジニトロべンゾィル） - β -D -エリス 口 -へキソ -3- エノ ビラノース 3.71 s (収率 76.7%) を得 た。
    [0060] 融点 ： 154.2〜 155.3°C
    [0061] D -181.2° ( c = 0.303s C H C j 3 )
    [0062] I R 3106 (m) , 2896 (w) 、 1736 ( s ) 、
    [0063] 1630 (m) 、 1543 ( s ) 、 1462 (w) 、 1348 ( s ) 、 1270 ( s ) 1166 (m) 、 996 (m) 、 915 (m) 、 874 (m) 、 822 (w) 、 801 (w) 、 774 (w) 、 719 ( s )
    [0064] 1 H N MR ( C D Cj 3 、 TM Sからの ppm) ：
    [0065] 3, 5-ジニ トロベンゾィルの C H ; 9. 19-9.26 (3H、 m)、 1位 ； 5.72 (1H、 b ) 、 2位 5. 07 ( 1H, d s J = 3. 8 Hz ) ,
    [0066] 3位 5.92 (1H, ddd 、 J = 2.0、 3.8、 9.9 Hz) 4位 6. 47 ( 1 H、 dd、 J = 4. 7 9. 9 Hz ) 、 5位 4. 87 ( 1 H、 d d J = 4. 7 s 4. 7 Hz ) 、 6位 3.76- 3.82 ( 2H、 m)
    [0067] (工程 3 )
    [0068] 上記工程 2で得られた 1, 6-アンヒ ドロ- 3, 4- ジデォキシ -2 - 0 - ( 3, 5 -ジニ ト ロべンゾィノレ） - β -D -エ リ ス口 一へ キソ -3- エノ ビラノース 0. 58 g ( 1. 79ミ リモル） 、 四酸化 オス ミ ウム 0. 05 g (0. 20ミ リ モル） および N-メ チルモルホ リ ン N-ォキサイ ド 0. 42 g (3. 59ミ リモル） をアセ ト ン一 水混合溶媒 （混合比 ； 8 : 1 ) 9mi に溶解し、 室温にて 20 時間撹拌した。 この反応液に 45%ピロ亜硫酸ナ ト リ ゥム水溶 液 5. 4mi を添加して'减圧下で溶媒を留去し、 残渣に熱エタ ノ ールおよび熱ク ロ口ホルムを加えて洗浄した。 その後、 ろ 別してろ液より溶媒を減圧下で留去した。
    [0069] (工程 4 ) 1, 6- ア ンヒ ドロ - 3 -D -ァロ ビラノース ( D—ァロサン ； 化合物 （IV) ) の合成
    [0070] (工程 3 ) で得られた残渣に、 メ タノール 120mj および 25%ア ンモニア水溶液 18 πιΰ を加え、 12時間室温にて撹拌 した。 溶媒を減圧下で留去した後、 残渣に水を加え、 ジェチ ルエーテルを用いて不純物を抽出除去した。 次いで、 これを アンバーライ 卜 IR-120B (水素陽イオン型） 陽イオ ン交換樹 脂およびアンバーライ ト A-410 (水酸イオン型） 陰イオン 交換樹脂を通すことにより精製し、 反応液から溶媒を减圧下 で留去して残渣を 2-プロパノールを用いて再結晶することに より、 1,ら-了ンヒ ドロ - β -D -ァロ ビラノース （D—ァロ サン ； 化合物 （IV) ) 0.12 ε (収率 39, Wo) を得た。
    [0071] 融点 ： 174〜 176。C
    [0072] i a l 25 -76.5° ( c = 0, 20 、 H2 0)
    [0073] I R ) 、 1338 (w)
    [0074] m ma9Yx 3400 (br 、 1224 ( ) 、
    [0075] 1133 ( s ) s 1108 ( s ) 、 1029 (w) 、 998 (w) 、 971 ( s ) 、 946 (m) 、 15 (m) 、 857 (m) 、 779 (m) 、 652 (m)
    [0076] H N MR (D 2 0、 D 0 ( 0 D ; 4.60 ppm ) 力、ら
    [0077] CO m) ：
    [0078] 1位 ； 5.32 (1H、 d、 = 2.5 Hz ) 、
    [0079] 2位、 3位、 4位および 6位 ； 3.54-3.70 (4H、 m) 、 5位 ； 4, 50 (lHs dd、 J = 2.6s 5.4 Hz ) 13 C NMR (D 0、 1, 4-ジォキサン （67.4 ppm) から の m) ：
    [0080] 101.？ 、 76.9、 70.4、 70.3、 65.5、 63.7
    [0081] 実施例 2
    [0082] この実施例は実施例 1の変形冽であり、 （工程 2) におい てカルボン酸と して安息香酸を用いたものである。 （工程 1 ) 、 （工程 3) および （工程 4) は実施例 1と同様に行なった。
    [0083] (工程 2 ) 1, 6- アンヒ ドロ -2- 0 - ベンゾィル -3, 4- ジ デォキシ - β -D -エリ ス口 -へキソ -3- エノ ビラ ノ ースの 合成
    [0084] 1, 6-アンヒ ドロ - 3, 4- ジデォキシ - ø -D -スレオ -へキ ソ -3- エノ ビラノース 2. 56 g (20.0ミ リモル） 、 ト リ フエ ニルホスフィ ン 10, 49g (40. 0ミ リモル） および安息香酸
    [0085] 4.88 g (40.0ミ リモル） を乾燥 T H F 32 m j に添加し、 ジェチルァゾジカルボキシレー ト 6.97 g (40.0ミ リモル） を乾燥 T H F 32 mi に溶解した溶液を、 窒素封入下で氷水 浴中において除々に滴下した。 この反応液を室温で 23時間撹 拌した後、 減圧下で溶媒を留去した。 得られた残渣からシ リ 力ゲルカラムクロマ トグラフ （溶離液 ； ク ロ口ホルム） を用 いて副生成物の ト リ フエニルホスフィ ン才キサイ ドを除去し、 さらに減圧下で溶媒を留去した。 この残渣をシリ カゲルカラ 厶ク ロマ トグラフ （へキサン -酢酸ェチル = 5 : 1 〜 4 : 1 ) を用いて精製し、 へキサン -ジェチルエーテル混合溶媒 （混 合比 ； 1 ： 1 ) で再結晶するこ とにより、 1, 6-アンヒ ドロ
    [0086] -3, 4- ジデォキシ -2- 0 - ベンゾィル - β -D -エリ ス口 - へキソ -3- エノ ビラノース 3.4S g (収率 74.9%) を得た。 融点 ： 59.6 〜 61. 2 V
    [0087] [ a ] 25 D -249. 1。 （ c = 0.31 、 C H C i 3 )
    [0088] I R m… 2900 (w) 、 1717 ( s ) 、 1601 ( w) 、
    [0089] 1456 (m) 、 1319 (m) 、 1247 ( s ) 、 1168 ( w) 、 1102 ( s ) 、 1071 (m) 、 1023 ( s ) 、 988 ( s ) , 905 ( s ) 、 872 ( s ) 、 801 (m) 、 710 ( s ) 1 H N M R ( C D C つ 、 T M S力、らの ppra) ：
    [0090] ベンゾィルの C H ； 7. 1-7.47 (2H、 m) 、
    [0091] 7. 55-7. 60 (1H、 m) 、 8.07-8. 11 (2H、 m ) 、 1位 ； 5.6S (1H、 b ) 、 2位 ； 5. 01 (lfi、 m) 、
    [0092] 3位 ； 5. 91 (1H、 ddd 、 J = 1. 9、 3. 8、 9. 8 Hz) 、
    [0093] 4位 ； 6. 38 (1H、 ddd 、 J = 1. 1、 4. 7、 9. 8 Hz) 、
    [0094] 5位 ； 4. 81 (1H、 ddd J = 0. 7、 4. 7、 4. 7 Hz) 、
    [0095] 6位 ； 3. 73- 3. 80 (2H、 m)
    [0096] 実施例 3
    [0097] この実施例は実施例 1 の変形例であり、 （工程 2 ) におい てカルボン酸と して酢酸を用いたものである。 （工程 1 ) 、 (工程 3 ) および （工程 4 ) は実施例 1 と同様に行なった。
    [0098] (工程 2 ) 2- 0 - ァセチル -1, 6- アンヒ ドロ- 3. 4- ジデ 才キシ - β -D -エリ ス口 -へキソ -3- エノ ビラノ ースの合 成
    [0099] 1, 6-ァンヒ ドロ- 3, 4- ジデォキシ - β -D -スレオ -へキ ソ -3- エノ ビラノース 4, 15 g (32. 4ミ リモル） 、 ト リ フエ ニルホスフィ ン 17. 20 g (65. 6ミ リモル） および酢酸 3. 94 g (65. 6ミ リモル） を乾燥 T H F 30 m j に添加し、 この混 合液にジェチルァゾジカルボキシ レー ト 11. 42 g (65. 6ミ リ モル） を乾燥 T H F 50 mj に溶解した溶液を、 窒素封入下 で氷水浴中において除々に滴下した。 この反応液を室温で 24 時間撹拌し、 氷水冷下において 1 %炭酸水素ナ ト リ ゥム水溶 液で中和した後、 T H Fを減圧下で留去し、 残渣をジェチル エーテルを用いて抽出した。 抽出液を硫酸マグネシゥムで乾 燥し、 ジェチルエーテルを減圧下で留去して、 得られた残渣 から シ リ カゲルカラムク ロマ トグラフ （溶離液 ； ク ロ口ホル ム） を用いて副生成物の ト リ フ エニルホスフィ ンォキサイ ド を除去した。 さらに減圧下で溶媒を留去した後、 残猹をシ リ 力ゲルカラムク ロマ トグラフ （へキサン -酢酸ェチル = 5 : 1 〜 3 : 1 ) を用いて精製し、 減圧蒸留 （2 niniHg) する こ とにより、 2- 0 -ァセチル -1, 6- ア ン ヒ ドロ - 3, 4- ジデォ キシ - β -D -エ リ ス口 - へキソ _3- エノ ビラノース 2. 82 g (51. 2% ) を得た。
    [0100] 沸点 ： 93 〜 94。C (2 niinHg)
    [0101] [ a ] 25 D -257. 0。 （ c = 1. 01 、 C H C ）
    [0102] I R m 9 Y 1746 ( s )
    [0103] m 、 1234 (m) 、 1127 ( m ) 、 1027 (m)
    [0104] 1 H N M R ( C D C ^ 3 、 T M Sからの p pro) ：
    [0105] C H 3 C 0 ; 2. 11 (3H、 s ) 、
    [0106] 1位 ； 5. 55 ( 1H、 b ) 、
    [0107] 2位および 5位 ； 4. 75-4. 78 (2H、 m) 、
    [0108] 3位 5. 79 ( 1H、 ddd 、 J = 1. 9、 3. 8、 9. 8 Hz) 、 4位 6. 33 ( 1H、 ddd 、 J = 1. 1、 4. 7、 9. 8 Hz) 、 6位 3. 69 - 3. 75 ( 2H、 m )
    [0109] 実施例 4
    [0110] この実施例は実施例 1 の変形例であり、 （工程 2 ) におい て、 1, 6-ア ン ヒ ドロ - 3, 4- ジデォキシ - β -D -ス レオ -へ キソ -3- エノ ビラノ ースの 2位の水酸基をメ シル化と酢酸セ シゥムによって α配置に反転する ものである。 （工程 1 ) 、
    [0111] (工程 3 ) および （工程 4 ) は実施例 1 と同様に行なった。
    [0112] (工程 2 )
    [0113] a ) 1, 6- アン ヒ ドロ - 3, 4 - ジデォキシ _ 2 - 0 - メ シル - β -D -ス レオ -へキソ -3- エノ ピラノ一スの合成
    [0114] 1, 6-アンヒ ドロ- 3, 4- ジデォキシ - β -D -スレオ -へキ ソ -3- エノ ビラノース 0.25 g (1.98ミ リモル） をピリ ジン 2mj に溶解し、 この溶液に、 氷水冷下において、 メ シルク 口ライ ド 0.34 g (3.00ミ リ モル） を滴下した。 この溶液を
    [0115] 0°Cで 3, 5時間撹拌し、 冷蔵庫で一晩保存した後、 氷冷下に て 1規定塩酸に添加してジェチルエーテルを用いて抽出した。 得られたジェチルエーテル溶液を炭酸水素ナ ト リ ゥム水溶液、 次いで塩化ナ ト リ ウム水溶液で洗浄し、 硫酸マグネシゥムを 用いて乾燥させた。 次いで、 減圧下において溶媒を留去し、 残渣をへキサン -ジェチルエーテル -酢酸ェチル混合溶媒
    [0116] (混合比 ； 5 : 5： 2) を用いて再結晶することにより、
    [0117] 1, 6-ァンヒ ドロ- 3, 4- ジデキシ- 2- 0 - メ シノレ - β -D -ス レオ -へキソ -3- エノ ビラノース 0, 26 s (収率 62.6%) を 得た。
    [0118] lE N MR (C D Cj 3 、 TMSからの ppm) ：
    [0119] C H 3 S O ; 3.13 (3H、 s ) 、
    [0120] 1位 ； 5.44 (111、 b ) 、
    [0121] 2位および 3位 ； 5.69-5, 74 (2B、 m) 、
    [0122] 4位 ； 6.29 (1H、 ddd 、 J = 1.3、 4.3. 10.4Hz) 5位 ； 4.72 Π11、 dd, J = 4.2. 4.3 Hz ) 、
    [0123] 6位 ； 3.84 (1H、 ddd 、 J = 1, 3、 4.2、 6.7 Hz) 、
    [0124] 4.00 ΠΗ、 d、 6.7 Hz )
    [0125] b ) 2-0 - 了セチル _1, 6- アンヒ ドロ -3, 4- ジデォキシ - β -D -エリ ス口 -へキソ -3- エノ ビラノ ースの合成 上記メ シル化合物 0. 21 ( 1. GOミ リモル） 、 酢酸セ シゥ ム無水物 0. 58 g (3. 00ミ リ モル） および 18-ク ラ ウ ン- 6- エーテル 0. 26 g ( 1. 00ミ リモル） をジメ チルホルムア ミ ド 10 mQ に添加し、 120°Cで 19時間加熱撹拌した。 放冷後反 応液をク 口口ホルムで洗浄し、 減圧下で溶媒を留去した後、 残渣をシ リ カゲルカラムク ロマ トグラフ （へキサン -酢酸ェ チル = 4 : 1 〜 3 : 1 ) を用いて精製する こ とにより、 2- 0 - ァセチル -1, 6- ア ンヒ ドロ - 3, 4- ジデォキシ - β -D -ェ リ ス口 -へキソ -3- エノ ビラノ ース 0. 12 g (収率 68. 8%) を得た。 .
    [0126] lE N M R ( C D C j 3 、 T M Sからの ppm) ：
    [0127] C H 3 C O ; 2. 03 ΠΗ、 s ) 、
    [0128] 1位 ； 5. 46 ( 1H、 b ) 、
    [0129] 2位および 5位 ； 4. 67-4. 69 (2H、 b ) 、
    [0130] 3位 5. 70 ( 1H、 ddd 、 J = 1. 8、 3. 6、 10. 1Hz) 、 4位 6. 26 ( 1H、 dds J = 1. 1、 4. 8、 10. 1Hz) 、 6位 3. 62- 3. 69 ( 2H、 m )
    [0131] 実施例 5
    [0132] この実施例は実施例 1の変形例であり、 （工程 2 ) におい てカルボン酸と して 4 -ニ ト ロ安息香酸を用いた ものである。 (工程 1 ) 、 （工程 3 ) および （工程 4 ) は実施例 1 と同様 に行なつた。
    [0133] (工程 2 ) 1, 6-ァ ン ヒ ドロ -3, 4-ジデォキシ -2-0_ (4- ニ ト ロべンゾィノレ） - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-エノ ピ ラ ノ ースの合成 8
    [0134] 1, 6-アンヒ ドロ- 3, 4- ジデォキシ - β -D -スレオ -へキ ソ -3- エノ ビラノース 2, 56 g (20. 0ミ リモル） 、 ト リ フエ二 ルホスフィ ン 10. 49 g (40. 0ミ リモル） および 4-ニ ト ロ安息 香酸 6, 69 g (40. 0ミ リモル） を乾燥- T H F 32 m S に添加し、 この混合液に、 ジェチルァゾジカルボキシレ一 ト 6. 97 g (40. 0ミ リモル） を乾燥 T H F 32 mj に溶解した溶液を、 窒素封入下氷水浴中において、 除々に滴下した。 室温にて 41 時間撹拌後、 減圧下にて反応液から溶媒を留去し、 シリカゲ ルクロマ トグラフ （溶離液 ； クロ口ホルム） を用いて残渣か ら副生成物の ト リ フヱニルホスフィ ンォキサイ ドを除去した。 その後、 溶媒を減圧下で留去し、 残渣をシリ力ゲルク ロマ ト グラフ （へキサン -酢酸ェチル = 5 ： 1 ) を用いて精製し、 1, 6-アンヒ ドロ -3, 4-ジデォキシ -2-0- (4-ニ トロべンゾィ ル） - ^ - D -エリ ス口 -へキソ -3_エノ ビラノ ース 4. 16 g (収率 75. 1%) を得た。 さ らに、 この生成物を、 へキサン- ジェチルエーテル- クロ口ホルム混合溶媒 （混合比 ；
    [0135] 1 ： 1 ： 1) を用いて再結晶した。
    [0136] 融点 ： 128. 8〜130. 0 V
    [0137] 24
    [0138] l ] 234。 C c = 1, 00、 C H C J つ ）
    [0139] I R 3428 ( w) 、 3112 (w) 、 2958 (w) 、
    [0140] 2906 (w) 、 234S ( ) 、 1949 ( w) 、 1719 ( s ) 、 1601 (m) 、 1520 ( s ) 1412 ( w) 、 1396 ( w) 、
    [0141] 1352 ( s ) 、 1323 ( s ) 1270 ( s ) 、 1166 (m) 、
    [0142] 1116 ( s ) 、 1】02 ( s ) 1019 ( s ) 、 992 (m) 、
    [0143] 973 (m) 903 (m ) 880 ( s ) . 859 (m ) 、 801 ( m) 、 783 ( m ) 、 717 ( s ) 、 576 ( w) 、
    [0144] 484 (w)
    [0145] }H N M R ( C D C j 3 、 T M S力、らの P pm) •
    [0146] ベンゾィルの C H ； 8.24-8.31 (4H、 m ) 、
    [0147] 1位 ； 5.69 (1H、 b ) 、
    [0148] 2位 ； 5.03 (1H、 d、 J = 3.9 Hz ) 、
    [0149] 3位 ； 5.91 (1H、 ddd 、 J = 2.0、 3.9s 9.8 Hz)
    [0150] 4位 ； 6.42 ( 1H、 ddd 、 J = 1.1、 4.7、 9.8 Hz)
    [0151] 5位 ； 4.42-4.85 (1H、 m ) 、
    [0152] 6位 ； 3.74-3.81 (2H、 m )
    [0153] 実施例 6
    [0154] この実施例は実施 1 の変形例であり、 （工程 2 ) におい てカルボン酸と して 3, 5-ジク ロロ安息香酸を用いた ものであ る。 （工程 1 ) 、 （工程 3 ) および （工程 4 ) は実施例 1 と 同様に行なつた。
    [0155] (工程 2 ) 1, 6-ア ン ヒ ドロ -2-0- (3, 5-ジク ロ口べンゾ ィル） -3, 4-ジデォキシ - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-ェ ノ ビラ ノ ースの合成
    [0156] 1, 6-ア ン ヒ ドロ - 3, 4- ジデォキシ - β -D -ス レオ -へキ ソ -3- エノ ビラ ノ ース 1. 28 g ( 10. 0ミ リ モル） 、 ト リ フ エ二 ルホスフィ ン 5. 25 g ( 20. 0ミ リ モル） および 3, 5-ジク ロ ロ安 息香酸 3. 80 g (20. 0ミ リモル） を乾燥 T H F 16 m j に添加 し、 この混合液に、 ジェチルァゾジカルボキシ レー ト 3. 48 g (20. 0ミ リモル） を乾燥 T H F 16 mil に溶解した溶液を、 窒素封入下で氷水浴中において除々に滴下した。 室温にて 41 時間撹拌後、 減圧下にて反応液から溶媒を留去し、 シ リ カゲ ルカラムク ロマ トグラフ （溶離液 ； ク ロ口ホルム） を用いて 残渣から副生成物の ト リ フ ヱニルホスフ ィ ンォキサイ ドを除 去した。 その後、 溶媒を減圧下で留去し、 残澄をシリ カゲル カラムク ロマ トグラフ （へキサン -酢酸ェチル = 6 : 1 ) を 用いて精製し、 1, 6-ァンヒ ドロ -2-0- (3, 5-ジク ロロベンゾ ィル） -3, 4-ジデォキシ - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-ェ ノ ビラノ ース 2.34g (収率 77.7%) を得た。 さ らに、 この生 成物を、 へキサン- ジェチルェ—テル- ク ロ口ホルム混合溶 媒を用いて再結晶した。
    [0157] 融点 ： 102.5〜103. 1 V
    [0158] 194。 ( c = 1, 00、 C E CQ 3 )
    [0159] I R … ma 3072 (w) 、 2974 ( w) 、 2890 ( w) 、
    [0160] 2364 (w) ヽ 2344 (w) 、 1717 ( s ) 、 1572 C s )
    [0161] 1437 (m) 、 1396 (w) 、 1352 (w) 、 1323 (w) 、
    [0162] 1263 ( s ) 、 1145 (m) 、 1127 (m) 、 1104 (m) 、
    [0163] 10S1 (w) 1023 ( s ) 、 1002 ( s ) 、 969 (m) 、
    [0164] 909 ( s ) 、 884 ( s ) 、 S68 ( s ) 、 803 ( s ) .
    [0165] 762 ( s ) 719 (w) 、 704 ( w) 、 659 (w) 、
    [0166] 574 ( w) 、 47S C w) 、 IS (w)
    [0167] ]H N M R ( C D C J 3 , T M Sからの P pm)
    [0168] ベンゾィルの C H 7.94 -7.95 ( 2H、 m)
    [0169] V.55- 7.56 ( 1 H、 m)
    [0170] 1位 ； 5.66 (1H. b ) 、
    [0171] 2位 ； 4.9S (1H. d、 J = 3. S Hz ) . 2
    [0172] 3位 5.88 (1H, dddd, J = 0.7, 2.0, 3.8, 9.8Hz) 、 4位 6.40 (1H、 dd、 J = 4.7 9.8 Hz ) 、 5位 4.81-4.84 (1H、 m) 、
    [0173] 6位 3.73- 3.80 ( 2H、 m)
    [0174] 実施例 7
    [0175] この実施例は実施例 1の変形例であり、 （工程 2) におい てカルボン酸と して 4-ク ロ口安息香酸を用いた ものである。 (工程 1 ) 、 （工程 3) および （工程 4) は実施例 1 と同様 に行なった。
    [0176] (工程 2) 1, 6-ア ンヒ ドロ -2-0- (4-ク ロ 口べンゾィル） -3, 4-ジデォキシ - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-エノ ビラ ノ ―スの合成
    [0177] 1, 6 -ア ンヒ ドロ - 3, 4- ジデォキシ - β -D -ス レオ -へキ ソ -3- エノ ビラノ ース I.28 g (10.0ミ リモル） 、 ト リ フエ二 ルホスフ ィ ン 5.25g (20.0ミ リ モル） および 4-ク ロ 口安息香 酸 3.13g (20.0ミ リモル） を乾燥 TH F 16 m j に添加し、 この混合液に、 ジェチルァゾジカルボキシ レー ト 3.48 g
    [0178] (20.0ミ リモル） を乾燥 TH F 16 mi に溶解した溶液を、 窒素封入下で氷水浴中において除々に滴下した。 室温にて 22 時間撹拌後、 減圧下にて反応液から溶媒を留去し、 シ リ カゲ ルカラムク ロマ ト グラフ （溶離液 ； ク ロ口ホルム） を用いて 残渣から副生成物の 卜 リ フヱニルホスフィ ンォキサイ ドを除 去した。 その後、 溶媒を減圧下で留去し、 残渣をシ リ カゲル カラムク ロマ トグラフ （へキサン -ク ロ ロホルム - 4 : 1 ) を用いて精製し、 1, 6-ア ン ヒ ドロ -2-0- (4-ク ロ口べン ゾィ ル） -3, 4 -ジデォキシ - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-エノ ビラノ ー 2ス 2. 25g (収率 84. 3%) を得た。
    [0179] 4
    [0180] n 1. 56
    [0181] P
    [0182] [ α ] -235° ( c = 1. 08 C H 3 )
    [0183] I R 4082 (w) , 3422 ( w) 3096 (w)
    [0184] 3054 (w) 2570 (w) 2370 ( w) 2100 ( w )
    [0185] 1928 (w) 1721 ( s ) 1597 ( s ) 14 Q 1 (' s o
    [0186] 1404 (m) 1350 Cm) 1323 (m) I 1 it J 7 i
    [0187] 1172 (m) 1104 ( s ) 1048 (m) 1017 ( s ) .
    [0188] 996 C s ) 969 ( s ) 936 (m) 07 ( s )
    [0189] S78 C s ) . S51 Cm) 801 C s ) 760 ( s ) .
    [0190] 723 (m) 70S (m) 6S5 (m) 629 (w)
    [0191] 598 (w) 576 (w) 528 ( s ) 78 ( s ) .
    [0192] 453 (w)
    [0193] lE NMR ( C D Cj 3 T M S力、らの ppm)
    [0194] ベンゾィルの C H ; 7. 99 -8. 04 ( 2H. m )
    [0195] 7. 39-7.44 ( 2H m )
    [0196] 1位 ； 5. 54 (1H b )
    [0197] 2位 ； . 99 (1H m)
    [0198] 3位 5.89 (1H ddd J = 1. 9 3. 9 9.8 Hz)
    [0199] 4位 , 6. 38 (1H ddd J = 1. K 4. 7 9. 8 Hz)
    [0200] 5位 ； 4. 80- 4. 83 (1H m )
    [0201] 6位 ； 3. 73- 3. 79 (2H m)
    [0202] 実施例 8
    [0203] この実施例は実施例 1の変形^であり、 （工程 2) におい てカルボン酸と して 3, 5-ジメ トキシ安息香酸を用いたもので ある。 （工程 1 ) 、 （工程 3) および （工程 4) は実施例 1 と同様に行なつた。
    [0204] (工程 2) 1, 6-ア ンヒ ドロ - 3, 4- ジデォキシ -2-0 - (3, 5-ジメ トキシベンゾィル） - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-エノ ビラノ ースの合成
    [0205] 1, 6-ア ンヒ ドロ - β -D -ス レオ -へキソ -3- エノ ビラノ ース 1.28 g (10.0ミ リ モル） 、 ト リ フエニルホスフィ ン 5, 25 g (20.0ミ リ モル） および 3, 5-ジメ トキシ安息香酸 3.64 g (20.0ミ リモル） を乾燥 TH F 16 H に添加し、 この混合 液に、 ジェチルァゾジカルボキシ レー ト 3.48 g ( 20. (3ミ リ モ ル） を乾燥 TH F 16 τηΰ に溶解した溶液を、 窒素封入下で 氷水浴中において除々に滴下した。 室温にて 45時間撹拌後、 減圧下にて反応液から溶媒を留去し、 シ リ カゲルカラムク ロ マ ト グラフ （溶離液 ； ク ロ口ホルム） を用いて残渣から副生 成物の ト リ フエニルホスフィ ン才キサイ ドを除去した。 その 後、 溶媒を '减圧下で留去し、 残渣をシリ カゲルカラムク ロマ 卜グラフ （へキサン -酢酸ェチル = 5： 1 ) を用いて精製し、 1, 6-ア ン ヒ ドロ -3, 4-ジデォキシ -2-0- (3, 5-ジメ トキシべ ンゾィル） - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-エノ ビラ ノ ース 2.45 (収率 83.7%) を得た。 さ らに、 この生成物を、 へキ サン -ジェチルエーテル混合溶媒を用いて再結晶した。
    [0206] 融点 ： 55.7 〜 60.5 °C
    [0207] [ α ] 2l D -167° ( c = 1.03、 C H C 1 3 )
    [0208] I R ^ 1 mΠ„Y 3052 ( w) 、 3010 ( w) 、 2984 (m) 、 2960 (m) 、 2900 (m) 、 2844 ( w) 1713 ( s ) .
    [0209] 1601 ( s ) s 1473 ( s ) 1429 (m ) 1357 ( s ) ,
    [0210] 1323 (m) 、 1305 ( s ) 、 1228 ( s ) 、 1209 ( s ) .
    [0211] 1162 ( s ) , 1125 (m) 、 1100 (m) 、 1071 (m) 、
    [0212] 1046 ( s ) . 1019 ( s ) 、 1000 ( s ) 、 975 (m) 、
    [0213] 92S (w) 、 905 (m ) 874 ( s ) 、 835 (m) 、
    [0214] 801 (m) 、 75S ( s ) 723 (m) 、 706 (m) 、
    [0215] 669 (m) 、 596 (w) 576 (w) 、 542 (w) 、
    [0216] 497 (w) 、 478 (m ) 439 (w)
    [0217] 1 H N M R ( C D C 1 3 、 T M S力、らの P pm)
    [0218] ベンゾィルの C H ; 7. 22 (2H、 d、 J = 2. 4 Hz ) 、
    [0219] 6. 66 ( IH、 dd、 J = 2. 4、 2. 4 Hz ) s
    [0220] 1位 • 5. 68 (1H、 b ) 、
    [0221] 2位 4. 98 (1H、 d、 J = 3. 8 Hz ) 、
    [0222] 3位 ， 5. 90 ( 1 H、 ddd 、 J = 1. 9 3 8, 9 8 Hz) 、
    [0223] 4位 ； 6. 38 ( 1H、 ddd J = 1. 2、 4 7、 9. S Hz) 、
    [0224] 5位 ； 4. 80- 4. S3 ( 1H、 m ) 、
    [0225] 6位 ； 3. 72- 3. 88 (2H、 m)
    [0226] 実施例
    [0227] この実施例は実施例 1 の変形例であり、 （工程 2 ) におい てカルボン酸と して 4-メ トキシ安息香酸を用いたものである。 (工程 1 ) 、 （工程 3 ) および （工程 4 ) は実施例 1 と同様 にィ了なった。
    [0228] (工程 2 ) 1, 6-ァンヒ ドロ - 3, 4- ジデォキシ -2-0- (4- メ トキシベンゾィル） - β -D -エリ ス口 -へキソ -3-エノ ビラノ 一スの合成
    [0229] 1, 6-ァ ン ヒ ドロ - β -D -ス レオ -へキソ -3- エノ ビラ ノ —ス 1. 28 g ( 10. 0ミ リ モル） 、 ト リ フ エニルホスフィ ン 5. 25 g (20. 0ミ リモル） および 4-メ トキシ安息香酸 3. 04 g (20. 0 ミ リモル） を乾燥 T H F 16 mj に添加し、 この混合液に、 ジェチルァゾジカルボキシレー ト 3. 48 g ( 20. 0ミ リモル） を 乾燥 T H F 16 m J に溶解した溶液を、 窒素封入下で氷水浴 中において、 除々に滴下した。 室温にて 41時間撹拧 :後、 '减圧 下にて反応液から溶媒を留去し、 シ リ カゲルカラムク ロマ ト グラフ （溶離液 ； ク 口口ホルム） を用いて残渣から副生成物 の ト リ フエニルホスフィ ンォキサイ ドを除去した。 その後、 溶媒を減圧下で留去し、 残渣をシ リ カゲル力ラムク ロマ トグ ラフ （へキサン -酢酸ェチル = 5 ： 1 ) を用いて精製し、 1, 6-ア ン ヒ ドロ -3, 4-ジデォキシ -2-0- (4 -メ トキシベンゾ ィル） - β -D -エ リ ス口 -へキソ -3-エノ ビラノ ース 2. 06 g (収率 78. 5%) を得た。 さ らに、 この生成物を、 へキサン -ジェチルエーテル混合溶媒を用いて再結晶した。
    [0230] 融点 ： 58. 5 〜 64. 5 。C
    [0231] [ a ] 2 -240° ( c = 0. 99、 C H C 1 3 )
    [0232] I R Y 2984 ( w) 、 2890 ( w) 、 2840 ( w) 、
    [0233] 2348 ( w) 1709 ( s ) 、 1607 ( s ) 1578 ( w) 、
    [0234] 1514 (m ) 1460 ( w) 、 1423 ( w) 1398 ( w) 、
    [0235] 1354 ( w) 132S ( m ) 、 1267 ( s ) 1170 ( s ) 、
    [0236] 1127 (m ) 1100 ( s ) 、 1050 ( w) 1023 ( s ) 、
    [0237] 994 ( s ) 967 ( m ) 、 930 ( w) 907 ( m ) 、 874 (m) 、 845 (m) 、 801 (m) 、 770 (m) 721 (m) 、 696 (m) 、 634 (w) 、 619 (w) 594 ( ) 、 565 ( w) 、 512 ( w) 、 482 (m)
    [0238] 1 H NMR (C D C 1 3 、 TM Sからの ppm)
    [0239] ベンゾィルの C H ； 8.01-S. 08 (2H、 m) 、
    [0240] 6.90-6.97 ( 2H、 m ) 、
    [0241] 1位 ； 5.69 (1H、 b ) 、
    [0242] 2位 ； 5, 00 (1H、 m) 、
    [0243] 3位 ； 5.91 (1Hヽ ddd J = 1.9、 3.9、 9.8 Hz) 4位 ； 6.38 (1H、 ddd J = 0.6、 4.7、 9.8 Hz) 5位 ； 82 (1H、 ddd J = 0.6、 4.1、 4.7 Hz) 6位 ； 3.74-3.81 (2H、 m)
    [0244] 以上のように、 この発明の D—ァロサンの製造方法による と、 天然には希にしか存在せず入手が困難であるとされてい る希少糖の 1種である D—ァロサンを、 従来の合成法と比較 して少ない工程数で立体選択的かつ高い収率で得ることが可 能となる。 近年、 医薬品、 農薬などのフアイ ンケ ミ カル分野 でォ リゴ糖やポリサッカライ ドなどの糖鎖をはじめとする生 理活性物質と しての含糖化合物が注目されているが、 この発 明により、 含糖化合物の一構成単位と して D -ァロース部分 構造を導入する際などに、 その合成原料と しての D—ァロサ ンを供耠することがより容易となり、 その合成研究の範 11を 広げることが可能となる。
    权利要求:
    Claims 求 の 範 囲
    1. C a ) 下記一般式 （ I ) で表わされる レボグルコセノ ン の 2位のカルボ二ル基を還元して /3配置の水酸基とすること により、 下記一般式 （Π) で表わされる化合物を得る工程と
    fa青
    ( b ) 工程 （ a ) で^られた一般式 （H ) で表わされる化 合物における 2位の 3配 iSの水 基を α配匿に反 して、 下 記一般式 （ΠΙ) で表わされる化^物を' るェ ¾と、 2 S
    (こ こで Rはァシル基を示す。 ）
    ( c ) 工程 （b ) で得られた一般式 （ffl) で表わされる化 合物の 3位および 4位に水酸基をシス- "配置に付加させる 工程と、
    ( d ) —般式 （ΙΠ) で表わされる化合物における 2位の水 酸基の保護基を脱離させて、 下記一般式 （W) で表される D ーァロサンを得る工程とを具備することを特徴とする D—ァ 口サンの製造方法。
    H 0 0 H
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    EP0530367A1|1993-03-10|
    EP0530367A4|1994-01-19|
    JPH04316593A|1992-11-06|
    US5457192A|1995-10-10|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1992-09-03| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): US |
    1992-09-03| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): DE FR GB |
    1992-10-21| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1992905299 Country of ref document: EP |
    1993-03-10| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1992905299 Country of ref document: EP |
    1995-06-20| WWW| Wipo information: withdrawn in national office|Ref document number: 1992905299 Country of ref document: EP |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    JP3/77380||1991-02-21||
    JP7738091||1991-02-21||
    JP3/162604||1991-07-03||
    JP3162604A|JPH04316593A|1991-02-21|1991-07-03|Production of d-allosan|KR1019930702254A| KR100247654B1|1991-01-31|1992-01-28|트랙킹 조정 회로|
    US07/937,847| US5457192A|1991-02-21|1992-02-19|Method of manufacturing D-allosan|
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