WIPO专利WO1991013697A1 Method and apparatus for cleaning

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公开号:WO1991013697A1
申请号:PCT/JP1991/000359
申请日:1991-03-15
公开日:1991-09-19
发明作者:Minoru Inada；Kimiaki Kabuki；Yasutaka Imajo；Noriaki Yagi；Nobuhiro Saitoh
申请人:Kabushiki Kaisha Toshiba；Japan Field Company, Ltd.；
IPC主号:C11D3-00

专利说明:
[0001] 明細書
[0002] 洗浄方法および洗浄装置技術分野
[0003] 本発明は、フロン 113 のようなフロン系溶剤、塩素系溶剤、低級アルコール類に代る非水系洗浄剤を用いた洗浄方法および洗浄装置に関する。背景技術
[0004] 金属部品、メツキ部品、塗装部品、電子部品、半導体部品等の水洗後の乾燥方法としては、フロン 113 に代表されるフロン系溶剤を水切り洗浄剤として用いる方法が一般的である。また、上記したフロン系溶剤や、トリクロロェタン、卜リクロロエチレン、テトラクロロエチレン、四塩化炭素等の有機溶剤は、油汚れ等を除去するための洗浄剤としても幅広く使用されている。
[0005] し力、し、最近、フロンの放出がオゾン層の破壊に繋がり、人体や生物系に深刻な影響を与えることが明らかとなってきたことから、オゾン破壊係数の高いフロン 12やフロン 113 等は、世界的な規模で段階的に使用を削減し、将来的には全廃する方向に進んでいる。また、トリクロロエチレンやテトラクロロエチレン等の塩素系有機溶剤も、土壌や地下水等の汚染を引起こす等の環境問題にからんで、使用規制が強化される方向に進んでいる。このような状況下にあって、現状のフ口ン系溶剤よりオゾン破壊係数の低いフロン系物質が開発されつつあり、既にェ業的生産が一部で進められているが、これらとてもオゾン層の破壊が皆無ではないことから、好ましい代替洗浄剤とは目されていない。
[0006] そこで、上述したような有機溶剤系による脱脂洗浄剤の代替品として、環境破壊や環境汚染を引起こすことがない、界面活性剤や親水性溶剤等を用いた水系の洗浄剤が見直され始めている。しかし、このような洗浄剤では、浸透力が弱く、例えば部品細部へ侵入した汚れや中粘度から高粘度のこびりついた油汚れに対しては充分な洗浄力を発揮することができないという問題がある。
[0007] また、有機溶剤系による水切り洗浄剤の代替品として、各種界面活性剤を用いた洗浄剤等が検討されているが、フロン系溶剤に匹敵するような水切り効果は得られていないのが現状である。また、上述した有機溶剤系洗浄剤を水切り洗浄剤として使用した場合、洗浄剤の比重が大きくなり、油脂はもちろんのこと水も洗浄剤の上に浮上してしまい、油と水とは互いに接触した形で洗浄剤から分離される。このように互いに接触している油と水については、これらを別々に取り出すことが困難であり、また油と水それぞれの廃棄方法が異なることから、廃液処理の点で問題が生じている。また、界面活性剤等を用いた洗浄剤は、水との相溶性が高いために、これら洗浄剤を分離精製して、再使用することは非常に困難である 0
[0008] —方、従来の洗浄剤を使用した洗浄装置においては、浸漬洗浄、気化洗浄、シャヮー洗浄等の各種洗浄工程を一括する機構を採用し、洗浄効率を高めることも行われているが、あくまでも単一種類の洗浄剤を使用することが前提となっている。これは、複数の洗浄剤を一連の洗净工程内で使用すると、洗浄剤の回収 ·再使用が困難となることによる。このことは、例えば単独では発揮し得ない洗浄効果を、複数の洗浄剤を用いることによつて実現しょうとした場合に大きな障害となる。
[0009] 上述したように、水切り洗浄剤を含む従来の洗浄剤のうち、フロン系溶剤等の有機溶剤系洗浄剤は、環境破壊を引き起こすという重大な欠点を有していた。また、これら有機溶剤系の代替品として検討されている現状の洗浄剤は、十分な効杲が得られないという問題を有していた。一方、従来の洗浄方法や洗浄装置では、洗浄剤の再利用や、除去した水や汚れ物質の廃棄の点で難点があった。さらに、洗浄剤を効率よく再利用しょうとすると、異なる複数の洗浄剤を使用することが困難となるという難点を有していた。
[0010] 本発明は、上述したような従来の洗浄方法および洗浄装置が抱えている課題に対処するためになされたものであり、本発明の目的は、複数の洗浄剤を使用するにあたって、洗浄剤の再利用を可能とした洗浄方法および洗浄装置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、被洗浄物から除去した水や汚れ物質を効率よく廃棄することを可能にした洗浄方法および洗浄装置を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、フロン系溶剤等を使用した洗浄に匹敵する、洗浄性、水置換性、乾燥性等が得られる洗浄方法および洗浄装置を提供することを目的とするものである。発明の開示
[0011] すなわち、本発明の洗浄方法は、基礎洗浄剤に洗浄性能向上剤を添加した洗浄剤で被洗浄物を洗浄する第 1の洗浄工程と、この第 1の洗浄工程を経た前記被洗浄物を前記基礎洗浄剤で洗浄する第 2の洗浄工程とを有することを特徵としている。
[0012] 本発明の第 1の洗浄工程に使用される洗浄剤としては、例えば水分の分離を可能とするような水切り洗浄剤や、油脂汚れの除去に使用される脱脂洗浄剤等が例示される。ここで用いられる基礎洗浄剤としては、例えば有機ゲイ素系洗浄剤やイソパラフィン系洗浄剤等の非水系洗浄剤が挙げられる。ただし、これら以外にも目的に応じて各種の洗浄剤を使用することが可能である。洗浄性能向上剤としては、例えば上記非水系洗浄剤に添加することによって、洗浄性能や水切り性能を付与 ·向上させる界面活性剤や親水性溶剤等が例示される。また、本発明の第 2の洗浄工程は、基本的には上記基礎洗浄剤を用いたすすぎ洗浄工程となる。上記非水系洗浄剤として挙げた有機ゲイ素系洗浄剤としては、
[0013] 一般式：
[0014] (式中、 Rは同一または異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基を、 1は 0 〜 5の整数を示す）
[0015] で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン
[0016] および
[0017] 一般式：
[0018] (式中、 Rは同一または異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基を、 m は 3 〜 7の整数を示す）
[0019] で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれた少なくとも 1種の低分子量ポリオルガノシロキサンから実質的になるものが例示される。
[0020] 上記低分子量ポリオルガノシロキサンは、これら単独で、金属部品、電子部品、半導体部品、塗装部品等の各種被洗浄物の細部に対する優れた浸透力や揮発性を有し、かつ防锖性を付与すると共に、水との良好な置換性を示し、かつ 60て以下の温風での揮散、乾燥性を有するものである。なお、上記（I) 式で表される直鎖状構造を有するポリジオルガノシロキサンと、上記（Π) 式で表される環状構造を有するポリジオルガノシロキサンとは、共用することも可能である。
[0021] 上記（I) 式および（Π) 式中の Rは、置換または非置換の 1価の炭化水素基であり、例えばメチル基、ェチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、フュニル基等の 1価の非置換炭化水素基や、トリフルォロメチル基等の 1価の置換炭化水素基等が例示されるが、系の安定性、揮発性の維持等からメチル基が最も好ましい。上記低分子量ボリオルガノシロキサンとしては、環状構造を有するものが好ましく、さらにォクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンおよびこれらの混合物が好適である。
[0022] また、上記した低分子量ポリオルガノシロキサンは、分子構造を適当に選択することによって、その洗浄剤の比重 Ddgを下記の（A) 式もしくは（B)式を満足させることができる。
[0023] Wdg>Ddg (A)
[0024] Wdg Ddg>Odg (B)
[0025] (式中、 Ddgは基礎洗浄剤の比重を、 Wdgは水の比重を、 Odgは対象とする油脂系汚れの比重を示す）
[0026] 例えば、（B) 式を満足させることによって、水と油脂系汚れとを分離することが可能となり、洗浄剤の浄化および排液処理が容易となる。
[0027] 上記したイソパラフィン系洗浄剤としては、例えば炭素数が 1〜30の範囲の揮発性イソパラフィンから実質的になるものが挙げられ、特に c₃ 〜 c₁₅の留分を主体とするイソパラフィンが洗浄性能の点から好ましい。このようなイソバラフィン系洗净剤は、上記揮発性イソパラフィンの 1種または 2種以上の混合物として使用される。これらイソパラフィンは、揮発性を有すると共に、無害、無臭であり、上記した低分子量ポリオルガノシロキサンと同様な効果を示すものである ₍ なお、上記基礎洗浄剤として掲げた有機ゲイ素系洗浄剤とイソパラフィン系洗浄剤とは、それぞれ単独で使用可能であることはもちろんのこと、これらを混合して基礎洗浄剤として用いることも可能である。例えば、有機ゲイ素系洗浄剤に ' イソパラフィン系洗浄剤を配合すると、凝固点を大幅に低下させるという効果が
[0028] . 得られ、寒冷地での使用を容易にすると共に、洗浄性能の向上も図れる。
[0029] 上記したような基礎洗浄剤に添加配合する洗浄性能向上剤としては、前述したように界面活性剤や親水性溶剤等が例示される。界面活性剤は、活性を発揮する化学構造により、カチオン系、ァニオン系、ノニオン系、両性系およびこれらの複合系に分類されるが、本発明においてはそれらのいずれをも使用することが可能である。これら界面活性剤は、特に洗浄性の向上に寄与するものである。
[0030] これら界面活性剤のうち、本発明において好ましく用いられるものとしては、ポリォキシアルキレンアルキルエーテルスルホン酸塩、リン酸エステル等のァニオン系界面活性剤、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル等のノニォン系界面活性剤、ィミダゾリン誘導体等の両性界面活性剤、アルキルァミン塩、アルキル第 4級ァンモニゥム塩等のカチオン系界面活性剤等が例示され、その他には単一物質で存在することは少ないが、天然物から抽出されるテルペン系化合物や高級脂肪酸ェステル等が挙げられる。また、上述したような各種化合物の化学構造の一部をフッ素原子やゲイ素原子で置き換えた合成ィ匕合物を用いることも可能である。
[0031] また、親水性溶剤としては、上記基礎洗浄剤に対して相溶性を有するものが用いられ、特に引火点が 40°C以上のものが実用上好適である。このような親水性溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノェチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルェ一テル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジ , エチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールとその誘導体等が例示され、基礎洗浄剤との相溶性、人体への安全性等の点からジエチレングリコールモノブチルエーテルが特に好ましい。これら化合物は、低分子量ポリオルガノシロキサン等との共存下で揮発性が向上するために、この配合品のみでの水置換、乾燥も可能である。また、基礎洗净剤の種類や用途によっては、ェチルアルコ一ルのような低級アルコールゃァセトン等を使用することも可能である。さらに、
[0032] 1 - 0+CH₂ CH₂ ~ Η₂ CH₂ 0 ^Η
[0033] (式中、 Rは炭素数 1〜12の 1価の炭化水素基を示し、 ηおよび ρはそれぞれ 0 〜10の整数で、かつ η+ρ≥1 を満足する）
[0034] で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、基礎洗浄剤としてィソパラフィン系洗浄剤を使用する際に好適である。
[0035] 上述した基礎洗浄剤および洗浄性能向上剤は、基本的には第 1の洗浄工程では基礎洗浄剤に洗浄性能向上剤を添加したものとして、また第 2の洗浄工程では基礎洗浄剤単独で使用するものとするが、用途や後工程によっては変更が可能である。上記基礎洗浄剤と洗浄性能向上剤とは、用途に応じて各種の組み合せによつて使用することが可能であり、例えば脱脂洗浄剤として使用する際には、基礎洗浄剤に界面活性剤または親水性溶剤、あるいはこれら両者を配合したものが好適である。基礎洗浄剤としてイソパラフィン系洗浄剤を使用する場合には、それ単独で使用することも可能である。また、有機ゲイ素系洗浄剤とイソパラフィン系洗浄剤との混合物を基礎洗浄剤として用い、これに上記したような洗浄性能向上剤を配合して用いることも可能である。水切り洗浄剤として使用する際には、基礎洗浄剤単独で使用することも可能であるが、界面活性剤や親水性溶剤を添加したものが好ましい。特に、親水性溶剤が好適である。また、すすぎ洗浄剤は、基本的には基礎洗浄剤単独で用いるが、親水性溶剤を添加することも可能である。後工程によっては微量の界面活性剤を添加することが可能である。なお、第 1 の洗浄工程における基礎洗浄剤と、第 2の洗浄工程における基礎洗浄^ yとは、必ずしも一致させる必要はなく、例えば第 1の洗浄工程で有機ゲイ素系洗浄剤を使用し、第 2の洗浄工程でィソパラフィン系洗浄剤を使用するようなことも可能である 0
[0036] また、基礎洗浄剤と洗浄性能向上剤とは、上述したような各種の組み合せによつて使用することが可能であるが、それぞれの溶解性を考慮して混合することが好ましい。例えば、溶解度因子（以下、 SP値と称する）の差が 4以下となるように組み合せることが好ましい。また、 SP値の差が大きい液体どおしを混合する際には、中間的な SP値を有する液体を混合媒体として配合してもよい。
[0037] 上述した界面活性剤の配合比は、特に限定されるものではないが、脱脂洗浄剤として使用する際には、基礎洗浄剤 100重量部に対して 50重量部以下が好ましく、さらに好ましくは 20重量部以下である。また、水切り洗浄剤として使用する際には、基礎洗浄剤 100重量部に対して 20重量部以下が好ましく、さらに好ましくは 3重量部以下である。一方、親水性溶剤の配合比も、特に限定されるものではないが、脱脂洗浄剤として使用する際には、基礎洗浄剤 100重量部に対して 50000 重量部以下が好ましく、さらに好ましくは 10000重量部以下である。また、水切り洗浄剤として使用する際には、基礎洗浄剤 100重量部に対して 100重量部以下が好ましく、さらに好ましくは 50重量部以下である。
[0038] 本発明の洗浄方法においては、上述したような洗净工程の後に、乾燥処理を施すことによって洗浄工程が終了する。この乾燥処理工程としては、 60。C以下というような比較的低温での温風乾燥でも十分な効果が得られる。また、温風乾燥に代えて、イソプロピルアルコール（以下、 I P Aと記す）等の蒸気洗浄剤による蒸気乾燥を行ってもよい。蒸気乾燥によれば、乾燥仕上げをより良好にすることができ、精密洗浄等に好適である。また、本発明の対象となる被洗浄物としては、金属、セラミックス、プラスチック等であり、さらに具体的には金属部品、表面処理部品、電子部品、半導体部品、電気部品、精密機械部品、光学部品、ガラス部品、セラミックス部品等である。
[0039] ところで、本発明の洗浄方法を上記じた蒸気洗浄（乾燥）と組み合わせて使用する場合には、前述したような脱脂洗浄剤もしくは水切り洗浄剤による洗浄工程の後に、基礎洗浄剤によるすすぎ洗浄を行うことなく、直接蒸気洗浄を施すことも可能である。すなわち、基礎洗浄剤に洗浄性能向上剤を添加した洗浄剤で被洗浄物を洗浄する工程と、この洗浄工程を経た被洗浄物を蒸気乾燥する工程とで、全洗浄工程を構成することも可能である。また、蒸気洗浄と組み合わせて使用することを前提として、被洗净物表面の除去対象によっては、基礎洗浄剤単独による洗浄のみとすることも可能である。これらによる基礎洗'净剤と洗浄性能向上剤との組み合わせ、あるいは基礎洗浄剤の使用例は、上述したとおりである。
[0040] 次に、本発明の洗浄装置について説明する。本発明における第 1の洗浄装置は、例えば上述した非水系洗浄剤等の基礎洗浄剤に、洗浄性能向上剤を添加した洗浄剤による第 1の洗浄手段と、上記基礎洗浄剤による第 2の洗浄手段とを具備することを特徵としている。また、第 2の洗浄手段の後には、温風乾燥や蒸気乾燥による乾燥手段が設けられる。そして、上記第 1および第 2の洗浄手段から回収した基礎洗浄剤と洗浄性能向上剤との混合物から、基礎洗浄剤のみを分離回収する手段を設けることにより、複数の洗浄剤を使用しているにも拘らず、洗浄剤を効率よく回収♦再利用することが可能となる _c また、分離回収された基礎洗浄剤は、再供給手段によって第 1の洗浄手段または第 2の洗浄手段に再供給される。
[0041] また、第 2の洗浄装置は、水分および油脂系汚れが付着した被洗浄物を洗浄する装置において、水分の比重より小さく、かつ前記油脂系汚れの比重より大きい比重を有する非水系洗浄剤を含む洗浄剤による洗浄手段と、前記洗浄剤中に取り込まれ、前記洗浄剤の下方に沈降分離された水分を除去する手段と、前記洗浄剤中に取り込まれ、前記洗浄剤の上方に浮上分離された前記油脂系汚れを除去する手段とを具備することを特徵としている。これら洗浄装置に使用される非水系洗浄剤は、前述した通りであり、沈降分離された水分の除去手段や、浮上分離された油脂系汚れの除去手段によって、被洗浄物から分離した水や油脂系汚れを効率よく、かつ個々に廃棄することができる。なお、上記洗浄手段としては、浸漬槽や吹付け槽等が例示され、また超音波、揺動、機械的撹拌等を併用することが可能である。図面の簡単な説明 - 第 1図は本発明の一実施例の洗浄装置の構成を示す図であり、第 2図は本発明の他の洗浄装置の構成を示す図である。発明を実施するための形態
[0042] 以下、本発明を実施例によってより詳細に説明する。
[0043] 第 1図は、本発明の一実施例の洗浄装置の構成を示す図である。同図に示す洗净装置は、大別して洗浄 ·水置換工程 Aと、清浄化 ·水切り工程 Bと、洗浄剤再生機構 Cとから構成されている。第 1の工程となる洗浄 ·水置換工程 Aには、沈降分離機能とオーバーフロー分離機能とを合せ持つ第 1の洗浄槽 1および第 2の洗浄槽 2と液切り槽 3とが設けられている。
[0044] 上記第 1の洗浄槽 1および第 2の洗浄槽 2は、沈降分離機能とオーバーフロー分離機能とを合せ持つものであるが、これは被洗浄物 Xに付着しているものの種類によって選択すればよく、沈降分離機能単独、オーバーフロー分離機能単独でも被洗浄物によっては十分に機能する。また、第 1の工程における洗浄槽は、洗浄時間や洗浄品質等によって、単槽ゃ多槽連結槽から選択すればよく、多槽連結槽における槽数等も同様である。
[0045] この実施例においては、 2槽の多槽連結槽を使用しており、第 1の洗浄槽 1および第 2の洗浄槽 2間は、ドレン配管 2 aとオーバーフロー管 2 bとにより連結されている。また、第 1の洗浄槽 1や第 2の洗浄槽には、必要に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、プラッシング等が併用され、これらにより洗浄性能がより向上される。
[0046] 上記第 1および第 2の洗浄槽 1、 2には、前述した有機ケィ素系洗浄剤やイソパラフィン系洗浄剤、およびこれらの混合物等からなる基礎洗浄剤に、界面活性剤を添加した水切り洗浄剤がそれぞれ収容されている。この界面活性剤を含む水切り洗浄剤は、その比重が水より小さく、かつ油脂系汚れより大きく設 -定されている。したがって、被洗浄物 Xにより持ち込まれた水 Yは、第 1および第 2の洗浄槽 1、 2に収容された洗浄剤の下方にそれぞれ沈降分離される。また、油脂系汚れ Zは、第 1および第 2の洗浄槽 1、 2に収容された洗浄剤の上方にそれぞれ浮上分離される。
[0047] 第 2の洗浄槽 2で沈降分離された水 Yは、ドレン配管 2 aによつて間欠的に第 1の洗浄槽 1側に排出される。また、第 1の洗净槽 1で沈降分離された水 Yは、ドレン配管 4によって間欠的に後述する洗浄剤再生機構 Cへと排出される。また、液切り槽 3に設けられたドレン配管 3 aも、洗浄剤再生機構 Cと接銃されている _t また、第 1の洗浄槽 1および第 2の洗浄槽 2で浮上分離された油脂系の汚れ Zは、順次オーバーフローし、第 1の洗浄槽 1に設けられたオーバーフロー管 5から系外に排出される。第 1の洗浄槽 1および第 2の洗浄槽 2に収容された水切り洗浄剤は、循環用配管 6 aによって第 1の洗浄槽 1から抜き取られ、フィルタ 6によって洗浄剤 D ! 中の固体物、水粒子、未溶解物質等が除去された後、第 2の洗浄槽 2内に還流される。このフィルタ 6を介した循環によって、洗浄剤は常時浄化されており、洗浄工程上での下流側となる洗浄槽 2の洗浄剤がより清浄な状態を維持することが可能とされている。
[0048] 例えば、洗浄剤中に水滴として混入している水分は、上記フィルタ 6によつて容易に分離除去される。上記フィルタ 6は、洗浄 ·水切り対象の材料や内容によって種々選択されるが、例えば 0.1〜20 ίζ ιη 程度のポアサイズを有するミク口ポーラスなセラミックスフィルタ、ガラスフィルタ、有機高分子系のフィル夕、さらにはこれらの複合系フィルタ等が好ましく使用される。
[0049] また、第 2の工程となる清浄化♦水切り工程 Βには、第 3の洗浄槽 7とシャヮーリンス槽 8とが設けられている。シャワーリンス槽 8の下方には、バッファタンク 9が設けられており、このバッファタンク 9および第 3の洗浄槽 7間は、ドレン配管 9 aとオーバーフロー管 9 bとにより連結されている。この第 3の洗浄槽 7にも、必要に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッシング等が併用される。
[0050] 上記第 3の洗浄槽 7には、上記第 1の工程 Aで使用した基礎洗浄剤のみの洗浄剤! ₂ が収容されている。なお、基礎洗浄剤の具体的な種類は、上記第 1の工程 Aで使用した非水系洗浄剤と同一とされている。この洗浄剤 D ₂ は、その比重が水より小さく、かつ油脂系の汚れより大きく設定されている。したがって、第 1 の工程 Aにおける洗浄槽と同様に、水 Yは洗浄剤 D ₂ の下方に沈降分離され、また油脂系の汚れ Zは洗浄剤 D ₂ の上方に浮上分離される。第 3の洗浄槽 7で沈降分離された水 Yは、ドレン配管 1 0によって間欠的に洗浄剤再生機構 Cへと排出される。また第 3の洗浄槽 7で浮上分離された油脂系の汚れ Zは、オーバ一フロー管 1 1から系外に排出される。
[0051] また、第 3の洗浄槽 7内に収容された洗浄剤 D ₂ は、常時フィルタ 1 2を介して循環されており、このフィルタ 1 2によって洗浄剤 D ₂ 中の固体物、水粒子、未溶解物質等が除去される。次に、上記洗净装置における洗浄剤の回収 ·再使用について説明する。
[0052] 上述したように、第 1、第 2、第 3の洗浄槽 1、 2、 7および液切り槽 3に設けられた各ドレン配管 4、 3 a、 1 0は、洗浄剤再生機構 Cに接続されている。各洗浄槽に収容された洗浄剤または D ₂ は、フィルタ 6、 1 2によって常時浄化されているが、洗浄剤の汚れがひどくなつた際には、各ドレン配管 4、 1 0 によつて洗浄剤再生機構 Cに送水ポンプ 1 3によって送られて分溜精製される。また、液切り槽 3に溜まった洗浄剤も間欠的に洗浄剤再生機構 Cに送られる。洗浄剤再生機構 Cでは、まず濾過器 1 4により液体と固体との分離が行われ、固体分は廃棄され、液体のみ蒸留器 1 5へ送られる。この蒸留器 1 5では洗浄剤中の各成分、水、油脂系汚れ等の沸点の差を利用して分離が行われる。また、蒸留器 1 5にて残留した水分等は、デカン夕 1 6によってさらに分離される。なお、蒸留器 1 5に導入する前に、予めコアレッサ等で水分の分離除去を行ってもよい。
[0053] ここで、上記洗浄装置で使用している洗浄剤において、水切り洗浄剤は、基礎洗浄剤のみの洗净剤 D ₂ に界面活性剤を添加したものであるため、洗浄剤 D 1 および洗浄剤 D ₂ それぞれから基礎洗浄剤、すなわち洗浄剤 D ₂ を分離抽出することができ、洗浄剤 D ₂ が再生される。また、この再生された洗浄剤 D ₂ 以外の成分、すなわち界面活性剤や水分等は廃棄される。この再生された洗浄剤 D ₂ は、配管 1 7によりシャワーリンス槽 8、第 3の洗浄槽 7、もしくは第 2の洗浄槽 2に洗浄剤を供給する配合器 1 8へと送られる。
[0054] シャワーリンス槽 8では、上記再生洗浄剤 D ₂ もしくは洗浄剤供辁配管 1 9から送られてきた新規な洗浄剤 D ₂ によって、不純物を含まない洗浄剤 D ₂ のみでシャワー洗浄が行われる。また、配合器 1 8では、再生もしくは新規の洗浄剤 D 2 と、界面活性剤供給配管 2 0から送られてきた新規な界面活性剤、 .もしくは界面活性剤が事前に濃厚に配合された洗浄剤とが混合され、新たに洗浄剤が調合される。この洗浄剤は、必要に応じて第 2の洗浄槽 2に供給される。
[0055] 上記構成を有する洗浄装置における洗浄工程は、例えば以下に示す通りである _c 被洗浄物 Xに水分 Yおよび油脂系汚れ Zが付着している場合、まず第 1の工程 Aの第 1の洗浄槽 1および第 2の洗浄槽 2に順に浸漬され、油脂系汚れ Zの除去と水分 Yと水切り洗-净剤との置換が行われる。この後、液切り槽 3上で被洗浄物 X表面に付着している洗浄剤 Eh が除去される。
[0056] 次に、第 2の工程 _Bへと送られて、第 3の洗浄槽 7で被洗浄物 X表面に残存している界面活性剤が除去されると共に、水切りが行われた後、シャワーリンス槽 8により不純物を含まない洗浄剤 D ₂ のみでシャワー洗浄が行われて、表面の最終的な浄化と水切りが行われる。
[0057] この後、図示を省略した温風乾燥器により乾燥処理が施されて洗浄工程が終了する。また、この温風乾燥に代えて、 I P A等による蒸気乾燥（洗浄）を行ってもよい。
[0058] ところで、本発明者らは、蒸気洗浄（乾燥）を行う場合、この系において次の点が特に有効であることにきづいた。すなわち、 ①蒸気洗浄剤と前工程から持ち込まれる液との相溶性、 ②蒸気洗浄剤の蒸発潜熱および蒸気洗浄剤と前工程から持ち込まれる液との蒸発潜熱の差、 ③沸点を考慮しなければならない点である。上記①については、分子どうしの水素結合や極性基の相互作用をさらに考慮しなければならない場合もあるが、しかしながら前工程から持ち込まれる液との SP 値の差が 4以下の蒸気洗浄剤を用いることが特に有効な要因となることが分かつた。蒸気洗浄は、被洗浄物表面で結露した蒸気洗浄剤中に、被洗浄物に付着している液体を溶かし、洗い流すことによって行われるためであり、蒸気洗浄剤と前工程から持ち込まれる液との SP値の差が 4を超えると、十分な置換性が得られなくなる。より好ましい SP値の差は 3以下であり、さらに好ましくは 2以下である。また、 ②については、前工程から持ち込まれる液との蒸発潜熱の差が 5倍以下の蒸気洗浄剤を用いることが好ましい。つまり、蒸発潜熱の差が 5倍を超えると、蒸発速度が大きく異なることから、蒸発潜熱の大きい液体が被洗浄物上に残り、シミ等として残存する可能性が大きくなる。より好ましい蒸発潜熱の差は 3倍以下であり、さらに好ましくは 2倍以下である。なお、上記蒸発潜熱の差を満足する際には、蒸気洗浄剤の蒸発潜熱はより小さいことが好ましい。この蒸発潜熱の値自体としては、 200eal /g以下が好ましく、より好ましくは 100cal /g以下であり、さらに好ましくは 50cal /g以下である。本発明の系においては、上記①および② を満足させることが特に重要である。
[0059] また、 ③については、蒸気洗浄剤の沸点は、蒸気洗浄時の被洗浄物表面の温度より高いことが必要ある。好ましい沸点の値としては、被洗浄物表面の温度より 20で以上高い値であり、より好ましくは被洗浄物表面の温度より 30で以上高い値であり、さらに好ましくは 50て以上高い値である。ただし、この沸点と被洗浄物表面の温度との差は、被洗浄物表面の温度によって制御することも可能である。すなわち、蒸気洗浄工程の前に被洗浄物表面の温度を低下させればよい。この③ の条件を満足させることにより、より良好な状態が得られる。
[0060] ここで、本発明におけるすすぎ洗浄工程においては、有機ゲイ素系洗浄剤ゃィソパラフィン系洗浄剤が用いられる。有機ゲイ素系洗浄剤は、 SP値が約 7、蒸発潜熱が約 35ca l /g 程度である。イソパラフィン系洗浄剤は、 SP値が約 6〜 8、蒸発潜熱が約 50~ 90cal /g程度である。これらの値を考慮すると、上述した I P A (SP値 = 11、蒸発潜熱- 161cal /g、沸点 = 82°C ) は、上記①〜③の条件を全て満足しており、本発明の洗浄工程後における蒸気洗浄剤として適していることが分力、る。
[0061] なお、本発明で用いられる蒸気洗浄剤としては、基本的には上記①および②の条件を満足するものであればよく、より好ましくは③の条件をも満足するものである。このような条件を満足するものであれば、上記 I P A以外にも使用することが可能であり、例えば
[0062] —般式： C_n F _{2 n+}2
[0063] (式中、 nは 4〜12の整数を示す）
[0064] で表されるようなペルフルォロ化合物や、さらに構造式： [ Ί^
[0065] 0 C₄ F ₉、 0 C₃ F ₇、（C₅ F _u) ₃ N、（C₄ F ₉ ) ₃ N、
[0066] OCFg (式中、 qおよび sは任意
[0067] の整数を示す）
[0068] 等で表されるペルフルォロ化合物を用いることも可能である。これらペルフルォロ化合物は、 SP S P値が 5〜 6程度、蒸発潜熱が 20cal /g程度であり、また沸点は 50 〜 200 程度まで各種のものがあり、上記①〜③の条件を全て満足するものである。実際の洗浄にあたっては、 50°C〜 150で程度の沸点を有するものが好ましい。なお、ペルフルォロ化合物は、ほとんどの有機溶剤と相溶性を示さないため、従来はパーティクルを除去するため以外の蒸気洗浄剤として使用することができなかったが、本発明においては、有機ゲイ素系洗浄剤やイソバラフィン系洗浄剤をすすぎ ^¾浄剤として使用しており、これらと相溶性を示す（SP値の差力く 4以下）ため、蒸気洗浄剤として使用することができる。
[0069] また、上述した I P Aやペルフルォロ化合物等の蒸気洗浄剤は、それ単独で用いなければならないものではなく、例えばこれらの混合物として、あるいは前述した有機ゲイ素系洗浄剤ゃィソパラフィン系洗浄剤、さらにはァセトン等の他の有機溶剤を配合した組成物として用いることも可能である。なお、配合する有機溶剤として、フロン系溶剤や塩素系溶剤等を必ずしも排除するものでない。これは、もちろん環境汚染の点からいえば用いない方がよいが、その全廃の途中過程としては有用である。このように、混合物を蒸気洗浄剤として使用する際には、混合するものどうしの SP値や蒸発潜熱を、上記①ぉよび②の条件を満足させることが好ましい。それぞれの数値は、上述した値と同様である。また、中間的な SP 値や蒸発潜熱を有する有機溶剤を介在させることも有効である。
[0070] さらに、上記ペルフルォロ化合物に、前述した有機ゲイ素系洗浄剤および/またはイソバラフイン系洗浄剤と、 I P A、エタノール、メタノール、アセトン、ジォキサン等の有機溶剤とを配合した組成物は、一液にて脱脂洗浄から乾燥まで行うことが可能な、非常に有用な一液型洗浄組成物である。この一液型洗浄組成物の配合比としては、上記ペルフルォロ化合物 100重量部に対して、有機ゲイ素系洗浄剤およびまたはイソパラフィン系洗浄剤を 0 . 01〜； 1000重量部、他の有機溶剤を 0 . 01〜： 1000重量部とすることが好ましい。これらのより好ましい配合比は、それぞれ 0. 1〜 100重量部の範囲である。この一液型洗浄組成物は、脱脂洗浄力および水切り性を示し、かつ同一組成で蒸気洗浄も可能であるため、一液にて脱脂洗浄から乾燥まで行うことができる。
[0071] なお、上記洗浄装置では、水切り洗浄を対象として説明したが、使用する洗浄剤の種類を変更することによって、脱脂洗浄に使用することも可能である。
[0072] 上記した洗浄装置によれば、約 50〜60°Cの温風乾燥により、約 5分程度で乾燥が可能である。なお、従来法による湯洗後に温風乾燥を行う方法では、 120 °C〜 150 °Cという高温にしても、 15分程度の乾燥時間が必要である。そして温風乾燥後、ワークの温度が高くないため、そのまま次工程に送ることができる等、乾燥後のワーク冷却用スペースおよび冷却時間が不必要となり、大幅な生産性の向上が達成される。また、単に乾燥時間が短いだけではなく、一度に洗浄処理する口ット内の水切り乾燥ムラもなくなり、品質も大幅に向上する。さらに、被洗浄物の洗浄ムラに起因するクラック発生による不良も皆無となり、品質水準を大幅に向上することができる。
[0073] また、上記構成の洗浄装置においては、洗浄剤として、その比重が水より小さくかつ油脂系汚れより大きいものを使用していることから、油脂層と水層の間に比重差により洗浄剤の層が入り、油脂層と水層とが直接接触することが避けられ、油脂と水とを完全に分離することが可能となり、それぞれに応じた廃棄処理を効率よく行うことが可能となる。なお、油水完全分離後、油と水をそれぞれ洗浄剤より除去するが、除去された油脂および水中に微量の洗浄剤が混入する可能性が残る。しかし、油脂中に混入した洗浄剤は、廃油焼却時に洗浄剤も容易に燧焼し、焼却することに問題は生じない。また、水中に混入した洗浄剤については、フィルタゃ蒸溜器等により容易に水と分離するので問題とならない。
[0074] そして、上記構成を有する洗浄装置を用いることにより、洗浄剤を効率よく、かつ有効に使用することができると共に、複数の洗浄剤の使用も可能となる。これは、洗浄剤の使用量を大幅に削減することに槃がり、ランニングコストの大幅な低減に寄与する。また、 I P A蒸気乾燥の前工程として、本発明の洗浄装置を用いることにより、再生 I P A内に水分が混入することが防止され、また I P A と上記水切り洗浄剤との沸点の差が大きいことから、 I P Aのみの蒸気洗浄が可能となる。なお、水と I P Aとは沸点が近いために、水分を除去することが困難であり、ウォーターマーク等の原因となっている。
[0075] 次に、本発明の他の実施例について説明する。第 2図は、本発明の他の実施例の洗浄装置の構成を示す図である。同図に示す洗浄装置は、大別して洗浄工程 D と、すすぎ洗浄工程 Eと、乾燥工程 Fと、洗浄剤再生機構 Gとから構成されている。第 1の工程となる洗浄工程 Dには、第 1の洗浄槽 2 1および第 2の洗浄槽 2 2と、液切り槽 2 3とが設けられている。なお、洗浄工程 Dにおける洗浄槽は、洗浄時間や洗浄品質等によって、単槽ゃ多槽連結槽から選択すればよく、多槽連結槽における槽数等も同様である。また、第 1の洗浄槽 2 1や第 2の洗浄槽 2 2 には、必要に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッシング等が併用され、これらにより洗浄性能がより向上される。
[0076] 上記第 1および第 2の洗浄槽 2 1、 2 2には、前述した有機ゲイ素系洗浄剤やイソバラフィン系洗浄剤、およびこれらの混合物等からなる基礎洗浄剤に、親水性溶剤を添加した脱脂洗浄剤 D ₃ がそれぞれ収容されている。この親水性溶剤を含む洗浄剤 D ₃ は、親水性溶剤により付与された洗浄能力によって、被洗浄物 X により持ち込まれた油脂系汚れを洗浄剤 D ₃ 中に溶解するものである。なお、第 1の洗浄槽 2 1だけでは、被洗浄物 Xに付着した汚れの溶解除去が不十分な場合に、第 2の洗浄槽 2 2でさらに洗浄を行うようにしてもよい。
[0077] また、第 1の洗浄槽 2 1と第 2の洗浄槽 2 2に収容された洗浄剤 D ₃ 、および液切り槽 2 3に持ち込まれた洗浄剤 D ₃ は、それぞれの槽に接続されたドレン配管 2 1 a、 2 2 a . 2 3 aによって、洗浄剤再生機構 Gに送られる。また、第 1 の洗浄槽 2 1および第 2の洗浄槽 2 2には、それぞれフィルタ 2 4、 2 5が接続されており、洗净剤 D ₃ 中の固体物、未溶解物質等が除去された後に、それぞれの槽内に還流される。上記フィルタ 2 4、 2 5は、洗浄対象の材料や内容によつて種々選択されるが、例えば 0.1〜20 ^ m 程度のポアサイズを有するミクロポ一ラスなセラミックスフィルタ、ガラスフィルタ、有機高分子系のフィルタ、さらにはこれらの複合系フィルタ等が好ましく使用される。
[0078] また、第 2の工程となるすすぎ洗浄工程 Eには、第 3の洗浄槽 2 6とシャワーリンス槽 2 7とが設けられている。第 3の洗浄槽 2 6には、上記第 1の工程 Dで使用した基礎洗浄剤のみの洗浄剤 D ₄ が収容されている。シャワーリンス槽 2 7 の下方には、バッファタンク 2 8が設けられており、これらバッファタンク 2 8 および第 3の洗浄槽 2 6は、それぞれドレン配管 2 8 a、 2 6 aにより洗浄剤再生機構 Gと接続されている。この第 3の洗浄槽 2 6にも、必要に応じて超音波、揺動、機械的撹拌、洗浄剤加温、ブラッシング等が併用される。第 3の洗浄槽 2 6内に収容された洗浄剤 D ₄ は、常時フィルタ 2 9を介して循環されており、このフィルタ 2 9によって洗浄剤 D ₄ 中の固体物、未溶解物質等が除去される。さらに、第 3の工程となる乾燥工程 Fには、蒸気洗浄（乾燥）槽 3 0が設けられている。この蒸気洗浄槽 3 0内には、蒸気洗浄剤 3 1例えば前述した I P Aやペルフルォロ化合物、さらにはこれらの混合物等の液体が収容されており、これらがヒータ 3 2によって加熱されて蒸気 3 3となる。このような蒸気洗浄槽 3 0 においては、被洗浄物 Xの表面で蒸気 3 3が結露し、液化した蒸気洗浄剤 3 1中に、すすぎ洗浄工程 Eから持ち込まれた洗浄剤 D ₄ が溶け込んで洗い流される。さらに、被洗浄物 Xは、上部の冷却チラ一 3 4の近傍にて必要時間保持され、表面に残留付着した蒸気洗浄剤 3 1を揮散させ、被洗浄物 Xの乾燥が終了する。なお、上記洗浄装置における洗浄剤の回収 ·再使用の機構については、前述した実施例と同様である。
[0079] 次に、前述したような洗浄装置を用いた具体的な洗浄例およびその評価結果について説明する。
[0080] 実施例 1〜8
[0081] まず、脱脂洗浄の例について述べる。第 1の洗浄工程における洗浄剤として、ォクタメチルシクロテトラシロキサン（SP値- 7) 50重量部とジエチレングリコ一ルモノブチルエーテル（SP値》8) 50重量部との混合物、および揮発性イソパラフイン（SP値- 7) 50重量部とジエチレングリコールモノブチルエーテル 50重量部との混合物を、また第 2の洗浄工程におけすすぎ洗浄剤として、ォクタメチルシクロテトラシロキサンを用意した。また、蒸気洗浄剤としては、第 1表に示す各種のものをそれぞれ用意した。なお、第 1表に示した蒸気洗浄剤（比較例を含む）中の組成分の SP値、蒸発潜熱および沸点は、以下の通りである。実施例による蒸気洗浄剤は、ォクタメチルシクロテトラシロキサンの SP値および蒸発潜熱を考慮して選択したものである。
[0082] (以下余白)
[0083]
[0084] これらの洗浄剤を使用して、ロジン系フラックス ·スパークルフラックス P0-F - 4600 (商品名、千住金属工業㈱製：チップ混載基板用、 SP値 _約 10) を用いたプリント基板の洗浄を行った。洗浄条件は、第 1の洗浄工程では 45°C、 3分間超音波洗浄とし、すすぎ洗浄は 2分間とした。そして、このようにして洗浄した後のプリント基板を各蒸気洗浄剤によって蒸気洗浄し、乾燥に要した時間を測定した。同様に 50てによる温風乾燥についても、乾燥時間を測定した。また、乾燥後のプリント基板表面のイオン残渣量 NaC l / i nch² ) を、 MI L - P-55110Cおよび MI L-P-28809Aに準拠して、オメガメータ一（日本アルファメタルズ㈱製）を用いて測定した。さらに、フラックスの残渣を肉眼および顕微鏡下で観察し、長径 0. 05 随以上の汚れの有無を確認した。また、実用性能を総合的に判断し、極めて良好なものに◎、良好なものに〇、やや甘いものに△、不良なものに Xを付した。これらの結果を第 1表に各洗浄剤の組成比と併せて示す。
[0085] (以下余白）
[0086] 第 1表の結果から明らかなように、実施例 1〜 8では十分な脱脂洗浄力が得られていると共に、蒸気洗浄（乾燥）においても極めて良好な結果がえられている _c これは、すすぎ洗浄剤と蒸気洗浄剤の SP値の差を 4〜 2としたためである。これに対して、 SP値の差が 5以上ある各比較例では、満足な洗浄力が得られないことが分かる。
[0087] 実施例 9〜 1 2
[0088] 次に、水切り洗浄の例について述べる。水切り洗浄剤として、ォクタメチルシクロテトラシロキサン 99. 5重量部とポリオキシエチレンォレイルエーテル（SP値 -8) 0. 5重量部との混合物、および揮発性イソパラフィン（SP値 ·7) 99. 0重量部とステアリン酸ナトリウム 1. 0重量部との混合物を用意した。また、蒸気洗浄剤としては、第 2表に示す各種のものをそれぞれ用意した。
[0089] これらの洗浄剤を使用して、ミニチュアベアリング（ステンレス製）の水切り洗浄を行った。洗浄試験は、 2個のミニチュアベアリングを水に浸漬した後、常温の水切り洗浄剤中に 1分間浸漬（含む揺動）し、次いで蒸気洗浄を行うことにより実施した。この後、所定量の脱水エタノール中にベアリングを移し、残留水分を吸収させ、カールフィッシャー法により定量した。そして、水分除去率を以下の式から算出した。
[0090] 水分除去率 = ( Β - A ) / Β X 100
[0091] (式中、 Αは上記カールフィッシヤー法により定量した値（g)、 Bはブランク試験（水中への投入工程を除く）後の定量値（g)である）
[0092] また、乾燥後の外観を以下の基準により評価した。
[0093] X ：目視で乾燥ジミが観察された場合。
[0094] 〇：目視で乾燥ジミが観察されなかった場合。
[0095] ◎ : さらに、走査型電子顕微鏡により 50 m 以上のシミが観察されなかった
[0096] ·¾口
[0097] 以上の測定結果を第 2表に示す。
[0098] (以下余白）第 2 表輸議
[0099] (11$) 睡 ¾ ^末
[0100] IPA そ ©I 才ク夕メチルシク π へキサメチルペルフルォロ賺の漏謹
[0101] 删テトラシロキサンジシロキサン m % (謹）鑭 9 ォクタメチルシク π ― ― ― ― ― ◎ 99.8 ◎ テトラシロキサン
[0102] '、 10 99.5
[0103] ジエチレングリコール 0.5 ― 2.0 ― ◎ 99.3 ◎ モノブチルエ-テル
[0104] 0.5
[0105] 、- 11 inインパラフィンアセトン 0.5 2.0 ◎ 99.1 ◎
[0106] 99.0
[0107] 、- 12 ステアリング Cs F t8
[0108] ナトリウム 1.0 100 ◎ 99.5 ◎ 聽フロン 113/ フロン 113/
[0109] M mm ◎ 99.1
[0110] 100 100 第 2表に示す測定結果から明らかなように、各実施例によれば、特にすすぎ洗浄を行わなくとも、十分な水切り性が得られている。
[0111] 実施例 1 3〜 1 5
[0112] 次に、仕上げ洗浄（パーティクルの除去）の例について述べる。仕上げ洗浄剤として、ォクタメチルシクロテトラシロキサンおよび揮発性イソパラフィンを用意した。また、蒸気洗浄剤としては、第 3表に示す各種のものをそれぞれ用意した。
[0113] これらの洗浄剤を使用して、 C C Dカバ一ガラスの仕上げ洗浄を行った。洗浄試験は、 45°Cの仕上げ洗浄剤中で C C Dカバーガラスを超音波洗浄した後、蒸気洗浄によって乾燥仕上げを行うことにより実施した。そして、乾燥後の外観評価および表面ダスト量の測定を行った。乾燥後の外観は、上記実施例 9と同様にして評価した。また、表面のダスト量（0 . 5 m 以上）は、レーザー法によるパーティクルチヱッカ · 1ίΜ-1000 (東京光学機械㈱製）を用いて測定した。
[0114] 以上の測定結果を第 3表に示す。
[0115] (以下余白）
[0116] 第 3 表
[0117] 1:
[0118] CF3 第 3表に示す測定結果から明らかなように、各実施例においては十分なパーテイクルコントロールが成されていることが分かる。
[0119] 実施例 1 6〜 1 9
[0120] 第 4表に示すように、揮発性イソバラフィンに各種の有機溶剤を添加して脱脂洗浄剤を調製した。また、すすぎ洗浄剤として揮発性イソバラフィンを用意した ₍ これらの洗浄剤を用いて、実施例 1と同様にしてフラックス付きプリント基板の洗浄を行い、 50°Cの温風乾燥による乾燥評価を実施例 1と同様にして行った。また、鋼板上にスピンドル油を塗布し、 150°Cの加熱炉で 48時間の焼き付けを行つて、試験片を作製した。この試験片に付着した油脂の洗浄（超音波洗净）を、上記脱脂洗浄剤を用いて行い、その洗浄に要した時間を測定した。数値が小さいほど、洗浄力が高いことを示す。それらの結果を第 4表に示す。
[0121] (以下余白）
[0122] 筇 4 表
[0123] 有接溶剤揮発性ケロシンその他フロン 113/ 乾燥時問イオン残澄
[0124] インバラフイン m 油鼸净時間炭化水素エタル共 ί!系 (沙） ( t gNaCl /i n² ) (白纖）実關 16 エチルアルコール
[0125] 98 40 1 1 ® 92
[0126] 、、 17 ジエチレングリコール
[0127] モパチルエ-テル 50 ― ― ― 180 9 ® 60
[0128] 50
[0129] 、、 18 d—リモネン
[0130] 30
[0131] エチルアルコール 60 一 ― ― 120 7
[0132] 10 ◎ 45
[0133] ； 19 a ビネン
[0134] 30
[0135] I PA 60 ― 一一 130 5
[0136] 10 ◎ 40 删 6 ― 100 ― ― 820 40 X 150
[0137] - 7 イソフロビル
[0138] ― ― ― ベンゼン ― >2 , 000 42 X 166
[0139] 1UU
[0140] 、、 8 エチルアルコールジァミルベン
[0141] 2 セ'ン 98 >2. 000 14 〇 135
[0142] 、、 9 ジエチレングリコ-ル n -デカン
[0143] モノブチルエーテル 70 630 15 X 162 30
[0144] -、 10 100 20 11 ◎ 60
[0145] 第 4表から明らかなように、イソパラフィンを主成分とする洗浄剤で洗浄した後、揮発性イソパラフィンによりリンスした場合（実施例 1 6〜1 9 ) には、温風により短時間で乾燥を行うことができた。また、イオン残渣も低く、白色残渣も見られなかった。さらに、油脂洗浄速度も速く、洗浄性能の点ではフロン 113/ エタン共沸系と同等以上の性能を示した。これに対し、イソプロピルベンゼン、ジァミルベンゼン等のアルキルベンゼンおよび n-デカン、ケロシン等の直鎖状パラフィンを用いて、洗浄、リンスを行った場合（比較例 6〜 1 0 ) では、温風による乾燥性が悪く、あるいは 30分での乾燥は不可であった。このため、イオン残渣も多く、洗浄しきれずに残留したフラックス成分（白色残渣）も多く見られた C 実施例 2 0
[0146] 揮発性イソパラフィンを仕上げ洗浄剤として用いて、実施例 1 3と同様にして C C Dカバーガラスの仕上げ洗浄を行い、実施例 1 3と同様にして洗浄特性および乾燥特性を評価した。なお、乾燥は 50°Cの温風乾燥とした。その結果を第 5表に示す。
[0147] (以下余白）
[0148] 第 5 表
[0149] ゴミ除去 I程に用いた溶剤 ^後の外観残澄ダスト量
[0150] (/0.5in² ) 実翻 20 揮発性ィ '/パラフィン ◎ 100 比較例 11 ケ uシン乾く乾ジミ発生 720
[0151] X
[0152] 12 ィ '/プロビルベンゼン 30分乾燥せず 2.000
[0153] X
[0154] 、、 13 ジァミルベンゼン X 2,600
[0155] 、、 14 n-デカン〇 350
[0156] 、、 15 フロン 113/ ◎ 90
[0157] 工タノ-ル共縣第 5表から明らかなように、揮発性イソパラフィンを用いた仕上げ洗浄では、洗浄後に乾燥ジミもなく、ダストに関してもフロン 113 と同等以上の十分な洗浄性を示した。これに対し、各比較例では乾燥性が低いため、乾燥ジミが多く見られ、また乾燥中に付着したダスト量も非常に多くなっていた。
[0158] 実施例 2 1〜 2 4
[0159] 第 6表に示す脱脂洗浄剤、すすぎ洗浄剤、蒸気洗浄剤をそれぞれ用いて、実施例 1と同様にしてフラックス付きプリント基板の洗浄を行い、実施例 1と同様にして洗浄特性および乾燥特性を評価した。なお、脱脂洗浄およびすすぎ洗浄の条件は、 45て、 5分間超音波洗浄とした。その結果を第 6表に示す。
[0160] (以下余白）
[0161] 第 6 表
[0162]
[0163] 第 6表から明らかなように、イソパラフィンを主成分とする洗浄剤および蒸気洗浄剤を用い、基板洗浄を行った結果、 15秒〜 20秒で乾燥可能で、イオン残渣も少なく、残留フラックス（白色残渣）も見られなかった。そして、フロン 113/ェタノール共沸系と同等以上の性能を示した。
[0164] 実施例 2 5〜 2 7
[0165] 第 7表に示す水切り洗浄剤および蒸気洗浄剤を用いて、実施例 9と同様にしてミニチュアべアリングの水切り洗浄を行い、実施例 9と同様にして洗浄特性および乾燥特性を評価した。なお、水切り洗浄は、 45°Cでの浸漬摇動を 1分間行った _c その結果を第 7表に示す。 .
[0166] (以下余白）
[0167] 第 7 表
[0168] 工程 (洗净纖成、重量部）評齙果
[0169] {ΧΖίΜ'ノ，， * sつ
[0170] /パフ/イノ、 MM
[0171] リ Ττンエチレン !/ 3千ンアンケロシン 4 /ノ 0ヒル 'ノア；ル n— フロノ 113/ mm 水分ォレイエルエーテルブチルフニルベンゼンペンゼンデカン界面活性剤系
[0172] エーテル
[0173] 実^ 25
[0174] 99.5 0.5 ― ― ― ― ― ® 9 26
[0175] 99.5 ― 0.5 一一 ― ― G¾ Fi8 ◎ 9
[0176] 、、 27
[0177] 99.0 1.0 一 ― ― ― 1 ◎ 9 誦 21 水分残留
[0178] ― ― ― 100 一 ― 一 ― C¾ Fi¾ X
[0179] 、' 22
[0180] 0.5 99,5 X
[0181] 23
[0182] 1.0 99.0 X ί 24
[0183] 0.5 99.5 Cs F 18 X
[0184] ^ 25
[0185] 100 ◎ 9
[0186] 実施例 28〜29
[0187] 第 8表に示す仕上げ洗浄剤および蒸気洗浄剤を用いて、実施例 13と同様にして C CDカバーガラスの仕上げ洗浄を行い、実施例 13と同様にして洗浄特性および乾燥特性を評価した。その結果を第 8表に示す。
[0188] (以下余白）
[0189] 第 8 表
[0190] 実施例 3 0
[0191] 第 1の洗浄工程における洗浄剤として、へキサメチルジシロキサン（SP値 - 7) 50重量部とエタノール（SP値" 13) 50重量部との混合物を、また第 2の洗浄工程におけるすすぎ洗浄剤として、ォクタメチルシクロテトラシロキサンを用意した。また、蒸気洗浄剤としては、 C。 F ₁₈を用意した。これらを用いて、実施例 1と同様にして洗浄特性および乾燥特性を評価したところ、実施例 1と同様な良好な結果が得られた。
[0192] この実施例における洗浄剤、すなわちへキサメチルジシロキサンとエタノールとは、 SP値が 5以上であるが、極性基の相互作用によって相溶性を示すために、上記したような結果が得られたものである。
[0193] 実施例 3 1
[0194] ペルフルォロ化合物として C₆ F ₁₄ 100重量部に、有機ゲイ素系洗浄剤としてへキサメチルジシロキサンを 25重量部、および有機溶剤としてアセトンを 3重量部配合し、一液型洗浄剤を調製した。一方、銅板にシリコーン系プレス油 YF33
[0195] (商品名、東芝シリコーン（株）製）を塗布し、 100°Cで焼き付けたものを試料片として用意した。そして、この試料片を上記一液型洗浄剤を用いて洗浄した。洗浄条件は、 40で、 3分間超音波洗浄とし、この後、同一洗浄剤で蒸気洗浄を施した。
[0196] このようにして洗浄した鋼板表面を ATIRで分析したところ、シリコーンに相当するピークは出現せず、シリコーン残渣は存在しないことを確認した。産業上の利用可能性
[0197] 本発明の洗浄方法によれば、従来から使用されているフロン系に匹敵する脱脂洗浄性や水置換性、さらには乾燥性が得られると共に、環境破壊や環境汚染の心配がないことから、各種の問題を抱えるフロン系溶剤等を用いた洗浄方法の代替洗浄法として有用である。また、複数の洗浄剤を使用しても洗浄剤の再利用が可能となると共に、被洗浄物から除去した水や汚れ物質を効率よく廃棄することが可能となるため、洗浄の省資源化等にも大きく寄与する。

权利要求:
Claims 請求の範囲
1 . 基礎洗浄剤に洗浄性能向上剤を添加した洗浄剤で被洗浄物を洗浄する第 1の洗浄工程と、
この第 1の洗浄工程を経た前記被洗浄物を前記基礎洗浄剤で洗浄する第 2の洗浄工程と
を有することを特徵とする洗浄方法。
2. 請求項 1記載の洗浄方法において、
前記基礎洗浄剤が非水系洗浄剤であり、かつ前記洗浄性能向上剤が界面活性剤および Zまたは親水性溶剤であることを特徵とする洗浄方法。
3. 請求項 2記載の洗浄方法において、
前記非水系洗浄剤が、有機ゲイ素系洗浄剤およびイソパラフィン系洗浄剤から選ばれた少なくとも 1種であることを特徵とする洗浄方法。
4 . 請求項 3記載の洗浄方法において、
前記有機ゲイ素系洗浄剤は、一般式 . ( j )
(式中、 Rは同一または相異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基、 1は 0 〜 5の整数を示す）
で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン
および
一般式：
(式中、 Rは同一または相異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基、 m は 3 〜 7の整数を示す）
で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれた少なくとも 1種の低分子量ポリオルガノシロキサンから実質的になることを特徵とする洗浄方法。
5. 請求項 3記載の洗浄方法において、
前記有機ゲイ素系洗浄剤は、その比重 D dgが、水の比重を Wdg、油脂系汚れの比重を O dgとした場合に、 Wdg〉D dg〉O dgを満足することを特徵とする洗浄方
6. 請求項 3記載の洗浄方法において、
前記イソパラフィン系洗浄剤は、炭素数 1〜30の揮発性イソパラフィンから実質的になることを特徵とする洗浄方法。
7. 請求項 1記載の洗浄方法において、
前記第 1の洗浄工程は、脱脂洗浄工程であることを特徵とする洗浄方法。
S . 請求項 1記載の洗浄方法において、
前記第 1の洗浄工程は、水切り洗浄工程であることを特徵とする洗浄方法。
9 . 請求項 1記載の洗浄方法において、
前記第 2の洗浄工程を経た前記被洗浄物に対し、 60 以下の温風で乾燥処理を施すことを特徵とする洗浄方法。
1 0 . 請求項 1記載の洗浄方法において、
前記第 2の洗浄工程を経た前記被洗浄物に対し、蒸気乾燥を施すことを特徵とする洗浄方法。
1 1 . 請求項 1 0記載の洗浄方法において、
前記蒸気乾燥に用いる蒸気洗浄剤は、前記第 2の洗浄工程で用いた洗浄剤との溶解度因子（SP値）の差が 4以下で、かつ蒸発潜熱の差が 5倍以下であることを特徴とする洗浄方法。
1 2. 請求項 1 1記載の洗浄方法において、
前記蒸気乾燥に用いる蒸気洗浄剤は、沸点が前記被洗浄物表面の温度より 20 C 以上高いことを特徵とする洗浄方法。
1 3. 基礎洗浄剤に洗浄能向上剤を添加した洗浄剤による第 1の洗浄手段と、前記基礎洗浄剤による第 2の洗浄手段と
を具備することを特徵とする洗浄装置。
1 4. 請求項 1 3記載の洗浄装置において、
前記基礎洗浄剤と洗浄性能向上剤とから前記基礎洗浄剤のみを分離回収する手段と、
この分離回収された S礎洗浄剤を第 1の洗浄手段または第 2の洗浄手段に再供給する手段と
をさらに具備することを特徵とする洗浄装置。
1 5. 請求項 1 3記載の洗浄装置において、
前記基礎洗浄剤は、その比重 D dgが、水の比重を Wdg、油脂系汚れの比重を 0 dgとした場合に、 Wdg > D dg > O dgを満足し、かつ、第 1の洗浄手段および第 2 の洗浄手段は、前記洗浄剤中に混入した水および油脂系汚れをそれぞれ個別に除去する手段をさらに具備することを特徵とする洗浄装置。
1 6. 水分および油脂系汚れが付着した被洗浄物を洗浄する装置において、水分の比重より小さく、かつ前記油脂系汚れの比重より大きい比重を有する非水系洗浄剤を含む洗浄剤による洗浄手段と、
前記洗浄剤中に取り込まれ、前記洗浄剤の下方に沈降分離された水分を除去する手段と、
前記洗浄剤中に取り込まれ、前記洗浄剤の上方に浮上分離された前記油脂系汚れを除去する手段と
を具備することを特徴とする洗浄装置。
1 7 . 有機ゲイ素系洗浄剤およびイソパラフィン系洗浄剤から選ばれた少なくとも 1種を含む洗浄剤で、被洗浄物を洗浄する工程と、 - この洗浄工程を経た前記被洗浄物に対し、乾燥処理を施す工程と
を有することを特徵とする洗浄方法。
1 8. 請求項 1 7記載の洗浄方法において、
前記洗浄剤は、界面活性剤および/または親水性溶剤を含有することを特徴とする洗浄方法。
1 9. 請求項 1 7記載の洗浄方法において、
前記有機ゲイ素系洗浄剤は、
一般式： ( I ) (式中、 Rは同一または相異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基、 1は 0 〜 5の整数を示す）
で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン
および
一般式：
(式中、 βは同一または相異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基、 m は 3 〜 7の整数を示す）
で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれた少なくとも 1種の低分子量ポリオルガノシロキサンから実質的になることを特徵とする洗浄方法。
2 0 . 請求項 1 7記載の洗浄方法において、
前記イソパラフィン系洗浄剤は、炭素数 1〜30の揮発性イソパラフィンから実質的になることを特徴とする洗浄方法。
2 1 . 請求項 1 7記載の洗浄方法において、
前記乾燥工程は、 60で以下の温風乾燥により行うことを特徵とする洗浄方法。
2 2. 請求項 1 7記載の洗浄方法において、
前記乾燥工程は、蒸気乾燥により行うことを特徵とする洗浄方法。
2 3. 請求項 2 2記載の洗浄方法において、
前記蒸気乾燥に用いる蒸気洗浄剤は、前記第 2の洗浄工程で用いた洗浄剤との溶解度因子（S P値）の差が 4以下で、蒸発潜熱の差が 5倍以下であることを特徵とする洗浄方法。
2 4 . 請求項 2 3記載の洗浄方法において、
前記蒸気乾燥に用いる蒸気洗浄剤は、沸点が前記被洗浄物表面の温度より 2(TC 以上高いことを特徵とする洗浄方法。
2 5. 請求項 2 2記載の洗浄方法において、
前記蒸気乾燥に用いる蒸気洗浄剤は、ィソプロピルアルコールおよびペルフルォロ化合物から選ばれた少なくとも 1種を含むことを特徴とする洗浄方法。
2 6. ペルフルォロ化合物 100重量部と、有機ゲイ素系洗浄剤および Zまたはィソパラフィン系洗浄剤 0.01〜1000重量部と、有機溶剤 0.01〜1000重量部とを含有することを特徴とする一液型洗浄組成物。

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1991-09-19| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AU CA JP KR SU US |

1991-09-19| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LU NL SE |

1992-03-11| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1991906198 Country of ref document: EP |

1997-06-25| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1991906198 Country of ref document: EP |

优先权:

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