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    公开号:WO1990001713A1
    申请号:PCT/JP1989/000784
    申请日:1989-07-29
    公开日:1990-02-22
    发明作者:Tenri Isoda；Masahiro Nishida；Takao Hashimoto；Kanji Suyama；Keiji Kishi；Yoshihide Inako；Yosuke Matsukawa
    申请人:Nissha Printing Co., Ltd.；
    IPC主号:G03F7-00
    专利说明:
    [0001] 明 細 書 - カラーフィルターの製造方法
    [0002] 【技術分野】
    [0003] この発明は、 各種物性に俊れた力ラーフィルターを効率よく製造 する方法に関するものである。
    [0004] 【背景技術】
    [0005] 従来、 液晶表示装置などの各種表示装置に用いられるカラーフィ ル夕一としては、 次のようなものがあった。
    [0006] 1 . 染色性に後れた高分子膜を透明基板上に形成し、 次いで高分 子膜をフォ ト リ ソグラフィ 一法により ターン化し、 これを染色し たもの。
    [0007] 2 . 染色性に後れた高分子膜を透明基扳上に形成し、 高分子膜を カラーフィルターのパターンに染色したもの c
    [0008] 3 . 顔料を分散させた高分子膜を透明基板上にフォ ト リ ソ法によ りパターン化して形成したもの。
    [0009] 4 . I T Oなどの透明導電膜をパターン化して透明基板上に形成 し、 その上に電着塗料を付着させたもの。 .
    [0010] 5 . 顔科または染科を分散させた高分子膜を透明基板上に印刷法 によりパターン化して形成したもの。
    [0011] しかし、 上記したカラーフィルターには、 それぞれ次のような欠 点を有するものであった。
    [0012] つまり、 1 . のカラーフィルタ一は、 透明基扳上に形成された高 分子腠もパターン化し、 それを染色したものであるので、 カラーフィ ルタ一表面の平滑性と強度が不足するものである。
    [0013] また、 2 . のカラーフィルタ一は、 高分子膜をパターン化せず、 同一平面を色分けして部分的に染色するので平滑性に侵れるものの、 高分子材科を使用しているため表面強度が不足しており、 また各色 のぺターンが同--の高分子膜に染色されているので、 染色のプリ一 ドゃマイグレーショ ンが発生するものである。
    [0014] また、 3 . のカラーフィルタ一は、 1 . と同様に透明基板上に形 成された高分子膜が着色されたものであるので、 カラーフィルター 表面の平滑性と強寖が不足するものである。 また、 顔料粒子による 尤の ixsしが問題となる。
    [0015] また、 4 . のカラーフィルタ一は、 パターン化された透明導電膜 が必要なものであり、 また電着塗料の上にさらに I T Oなどの透明 電極を形成する場合が多いので製造工程が多くなり、 ま 電着塗料 をパターン化して付着させるものであるのでカラーフィ ルタ一表面 の平滑性が劣るものである。
    [0016] また、 5 . のカラーフィルタ一は、 透明基板上に高分子膜をパ夕 ーン化して形成されたものであるのでカラーフ ィルター表面の平滑 性が低いものである。
    [0017] この発明は以上のような問題点を解決し、 各種物性に優れたカラ ーフ ィ ルターを効率よく製造する方法を提供するこ とを目的とする。 【発明の開示】
    [0018] この発明は、 以上の目的を達成するために、 次のように構成した。 すなわち、 この発明のカラーフィルターの製造方法は、 透明基板上 に無機活性膜層を形成し、 次に無機活性膜層に第 i色を染色し、 次 に第 2色を染色する部分以外にレジス トを形成し、 次に脱色処理を 行ない、 次に無機活性嫫 aに第 2色を染色し、 次にレジス ト.を剥離 し、 次に第 3色を染色する部分以外にレジス トを形成し、 次に脱色 処理を行ない、 次に無機活性膜展に第 3色を染色し、 次にレジスト を剥離するように構成したものである。
    [0019] 【図面の簡単な説明】
    [0020] 第 1図および第 2図はこの発明のカラーフィルターの製造工程を 示す断面図である。
    [0021] 【発明を実施するための改良の形態】
    [0022] 図面を参照しながらこの発明をさらに詳しく説明する。
    [0023] 第 1図おょぴ第 2図中、 1は透明基扳、 2は無機活性膜展、 3は レジストをそれぞれ示す。
    [0024] まず、 透明基板 1の表面に無機活性膜展 2を形成する（第 1図 a参 照）。
    [0025] 透明基扳 1 としては、 液晶ディスプレイなどの各種表示装置に用 いられるものでよく、 通常はガラス板または合成樹脂板や合成樹脂 フィルムを用いることができる。 ガラス板の中でも、 たとえばソー ダライムガラス、 アルミ ノ シリゲー トガラス、 ボロンシリケー トガ ラス、 バリゥムホウケィ酸ガラスなどの透明なガラスを用いるとよ このような透明基扳 1上に、 多孔性無機物 ¾からなる無機活性膜 屑 2も形成する。 無機活性胰届 2も形成する方法としては、 以下に 示すゾルゲル法の利用が逸している β すなわち、
    [0026] M(ORi)m(OR*)nXpYQ ··· I
    [0027] (ただし、 ί式中、 Μはマグネシウム、 カルシウム、 ジルコニウム、 チタニウム、 ハフニウム、 ゲルマニウム、 イツ トウ リム、 アルミ二 ゥム、 ガリウム、 スズ、 ゲイ索からなる群より選ばれた少なく とも —つの元索を示す。 R »および R 2はそれぞれ水桨原干、 アルキル基、 ァシル基を示し、 それらは同一であっても異なっていてもよい。 Xお よび Yはそれぞれ水索原子、 塲紫原子または水酸基を示し、 それら は同一であっても異なっていてもよい。 m、 n、 pおよび qは 0〜8の 整钕でありかつ m+n+P+Qは Mの原子価に等しい）で衷わされる化 合物の水性液を加水^解し、 さらに解膠して得たゾルを透明基板 1 に塗布し、 焼成することにより得られるものである。 一般式 Iで示 される化合物の例としては、 テトラェチルシリゲー ト、 アルミユウ ム トリイソプロポキシ ド、 チタンテトラブトキシ ド、 ジルコニウム テトラブトキシ ドあるいはこれらの部分加水分解物などがある。 ま た、 水性欲は必要暈の水、 および塩酸、 硫酸、 硝酸、 s 酸などの加 水分解の触媒、 およびアルコールを含むものである。 このゾルを透 明基扳 1上に塗布する方法には、 バーコ一ティ ング法、 ロールコーティ ング法スピンコーティ ング法、 ディ ツビング法などの方法がある。 上記したようなゾルを透明基板 1上に塗布したのち乾燥し、 3 0 0 〜6 0 0ての温度で娆成することにより無機活性膜靥 2を得ること ができる。 無機活性膜展 2の厚さは、 1 ~ 2 0 zi m程度とするとよ 次いで、 無機活性瘐展 2を染料によって第 1色を染色する（第 1 図 b參照）。 染料としては、 酸性染料、 酸性媒染染料、 アルミニウム 用染料、 直接染料、 油溶性染料などを使用するとよい。 染色する色 は、 カラーフィルターの赤（R ) '緑（G )，費（B )のいずれでもよい, ここでは説明の便宜上、 赤に染色する。
    [0028] 次に、 染色された無機活性膜 ® 2の第 2色を染色する部分以外に、 つまり第 2色を綠とすると、 緑に着色したい部分以外にレジス ト 3 a を形成する（第 1図 c参照）。 レジス トは、 所望のカラーフィルター のパターンに形成するとよい。 また、 得ようとするパターンの精度 やコス トなどに ¾じて、 フ ォ トレジス トゃ印刷レジス トなど適当な レジス トも使用するとよい。
    [0029] 次に、 レジス ト 3 &で¾われていない部分の染料を脱色する（第 1 図 d参照）。 脱色処理としては、 碑酸や次亜塩索酸ナトリウムあるい は硫酸なども使用するとよい。 脱色処理を行うことにより、 レジス ト 3 aで覆われていない部分の無機活性膜攆 2は再び透明となり、 レジス トで覆われている郞分のみが赤に着色されたことになる。
    [0030] 次いで、 無機活性膜 Λ 2に第 2色を染色する（第 1図 e参照）。 こ こで緑に染色することにする。 先に染色した部分、 つまり ^の郎分 はレジス ト 3 aで現われているので、 その他の郎分が緑に染色され る 0 統いて、 レジス ト 3 aを剥離する（第 1図 f参照）。
    [0031] 次に、 無攒活性胰 W 2の第 3色を染色する部分以外、 つまり第 3 色を青とすると、 青に着色したい部分以外にレジス ト 3 bを前記と 同様の手段で形成する（第 1図 g参照）。
    [0032] 次に、 レジスト 3 bで ¾われていない部分の染料を脱色する（第 1 図 h参照）。 この脱色処理も行ゔことにより'、 無機活性膜眉 2のレジ スト 3 bで菝われていない第 1色の赤で染色された部分は再び透明 となる。
    [0033] 続いて同様の工程も裸り返して、 無機活性膜展 2に第 3色である 脊を染色する（第 1図 i参照）。
    [0034] 最後に、 レジス ト 3 bを剥離してカラーフィルターが完成する（第
    [0035] 1図 3'参照）。
    [0036] このような方法によって R G B 3色のカラーフィルターを作製す ると、 緑と青も形成する 2回のみパターユングが必要であり、 赤を 着色する際にレジスト形成やマスキングやエッチングなどのパター ニングは必要ない。 しかも、 脱色されるのは第 1色の染料のみであ り、 第 1色として脱色されやすい染料を使用することにより.、 確実 に脱色を行なうことができる。
    [0037] また、 カラーフィルターにブラツクマスクを必要とする場合は、 化学メ ツキ法や染色法によってブラックマスクを形成することがで きる。 ブラックマスクの形成工程は、 第 1〜3色の染色工程の前で もよく、 第 1〜3色のいずれかの染色工程の後でもよい。 特に、 .第 1色を染色した後、 ブラックマスクを形成し、 その後第 2〜3色を 染色する方法も採用した場合、 ブラックマスクが第 2色、 第 3色 染色する際のァラィメ ン トマークとして利用できるため好適である。 尚、 本明钿窨中では便宜上、 ブラッ クマスクを第 3色の染色ェ揑の 後に化学メ ツキ法で形成する場合について锐明する。
    [0038] まず、 透明基板 1上に無機活性膜展 2を形成し（第 2図 a参照）、 無機活性膜屈 2に第 1色も染色する（第 2図 b参照）。
    [0039] 次いで、 無機活性胰眉 2の第 2色を染色する部分以外にレジス ト 3 aを形成する（第 2図 c参照）。 この際、 ブラ ッ クマスクを开さ成した い部分にもレジス ト 3 aを形成する。 ®εいて晚色処理を行ない（第 2図 d参照）、 無機活性膜屑 2に第 2 色を染色し（第 2図 e参照）、 レジスト 3 aを剥離する（第 2図 f参照）。 次に、 無機活性膜展の第 3色を染色する郎分以外にレジス ト 3 b を形成する（第 2図 g参照）。 この際、 ブラックマスクを形成しおい 部分にもレジス ト 3 bを形成する。
    [0040] 統いて脱色処理を行ない（第 2図 h参照）、 無機活性膜雇 2に第 3 色も染色し（第 2図 i参照）、 レジス ト 3 bも剥離する（第 2図 j参照）。 次いで、 ブラックマスクを形成する部分以外にレジス ト 3 eを形 成する（第 2図 k参照）。
    [0041] 銃いて脱色処理を行なう。 ここで、 無機活性膜層 2のブラックマ スクも形成したい部分のみが脱色され、 R G Bの 3色に染色された 部分はレジス ト 3 eで Sわれている。
    [0042] 次に、 この透明基扳 1を化学メ ツキして R G Bの各.色の間隙にヅ ラツ クマスクも形成する（第 2図 1参照）。
    [0043] 化学メ キは、 飼より黄なる金属で行なうとよい。 銅より貢なる 金属としては、 金、 銀、 パラジウム、 白金、 ロジウム、 ルテニウム がある。 こ こで、 鏑より黄なる金厲を用いる理由は、 メ ツキ後、 金 属光沢を呈している部分の除去が容易で、 かつ除去後、 下地の黒色 部の化学澳度が 3.0以上を示すからである
    [0044] 化学メ ツキは公知の方法を用いて行うことができ、 たとえば「無 霜解メ ツキ』（神戸徳蔵著）によれば、 銀メ ツキ浴として以下に示す
    [0045] 1液と 2液を 1 ： 1 に混合したものを用いることができる
    [0046] 1液
    [0047] 硝酸銀 2 0 g ァンモニァ水 適量 水 1 0 0 0 πιβ
    [0048] 2液
    [0049] 酒石酸ナ ト リ ウムカ リ ウム l O OgZS O O 水を加えて 全量 7 0 0 mfi 上記の銀メ ツキ浴に RG Bの 3色が着色された透明基板 1を 3 0 秒〜 5分閭浸演した後引き上げ、 金属光沢部を除去することにより カラーフィルターの各色の間隙にのみブラックマスクを化学メ ッキ を行う：とができる。
    [0050] 金属光沢郎を除去するには、 たとえば、 布 ·羝 · ゴムベラなどの 柔らかいものを用いて無機活性膜展 2の表面上に折出した金属光沢 部を拭き取ればよい。 この操作により、 金属光沢郞のみが剥離し、 下の無機活性膜展 2の中に含浸した黒色部分は影饗を受けずに残る。 このようにして形成されたブラ、ジクマスクは、 透明基板のどちら側 からみても完全な黒色であり、 金属光沢はいつさい呈しておらず、 ブラックマスクとして崁通のものである。 また、 得られたブラック マスクの断面を光学顕後镜で绸ぺた結果、 無機活性膜雇 2の表面か ら最深部の透明基扳 1 との界面まで黒色が浸透していた。
    [0051] 最後に、 レジスト 3 cを剥離してブラックマスクが形成された力 ラーフィルターが完成する（第 2図 m参照）。
    [0052] また、 上記の銀メ ツキのかわりに、 パラジウム-スズ敏媒を使用 したニッケルメ ッキを行なっても、 ブラツクマスクを形成すること ができる。 このニッケルメ ツキ法の場合、 通常以下の工程で行なわ れる。 (1 )ブラッ クマスクを形成する Φ分以外にレジス トを形成する工程。
    [0053] (無機活性膜展が染色されている場合は脱色処理を行なう工程。 ）
    [0054] (2)無機活性胰展に触媒液を吸着させる工程。
    [0055] (3)触媒波を活性化させる工程。
    [0056] (4)金属を、 メ ツキする工程。
    [0057] (5)レジス トを剥離する工程。
    [0058] このようにするこ とによって、 活性化された触媒液が吸着された部 分のみに金属がメ キされる。 この工程中のレジス トを剥離するェ 程（5)は第 2工程の触媒狭の吸着の直後に行ってもよい。 この方法 の場合、 ブラックマスクを形成する部分の無機活性膜雇 2を脱色し なくてもメ ツキを行なうことができる。 また、 この方法では金属光 沢部分を除去しなくても実 ¾上問題ない。
    [0059] 最後に、 レジス ト 3 cを剥離してブラックマスクが形成された力 ラーフィルタ一が完成する（第 2図 m参照）0
    [0060] また、 化学メ キ法のかわりに、 R GBの各色の間隙を黒色に染 色してブラックマスクを形成してもよい。 また、 染色法でブラッ ク マスクを作製するには、 ブラックマスクをいちばん最初に形成し、 その後 R G Bを着色するようにしてもよい。 つまり、 染色法によれ ば、 染色.' レジスト形成 ·脱色の工程を镍り返すことにより、 R G Bと黒の 4色を任意の順序で着色することができるのである。
    [0061] 以上述べたように、 化学メツキ法や染色法によってブラックマス クを作製する際、 レジストによるバターニングは 3回のみであり.、 少ない工程で製造することができる。
    [0062] 上述の工程の場合、 いずれにおいても ジストの形成と脱色処理 が別々の工程となっているが、 ある特定の場合、 即ちレジストがァ ルカリ現像液で現像されるフォ トレジストであり、 第 1色の染料が アル力リで分解または消色するものである場合には、 レジス トのァ ルカリ現像と同時に第 1色に染色された郁分の脱色が行なわれる。 換言すれば、 2工程の処理が 1工程で同時に行なわれるので、 工程 が省略され便利である。 このようなアル力リ現像液としては水酸化 ナトリウム、 水酸化カリウム、 その他市販のアルカリ現像液が挙げ られる。 この態様に於いては、 第 1色の染料のみがアルカリで分解 または消色するものであることを要し、 他の色およびブラッ クマス クはそうである必要はない。
    [0063] 着色を終えた無機活性膜届 2上に必要によりオーバーコー ト揮を 設けてもよい。 オーバーコー ト眉は、 ァクリル系樹脂、 メラミ ン 系樹脂、 エポキシ系樹脂、 シリコン系樹脂、 不飽和ポリエステル系榭 樹脂、 イソシァネー ト系樹脂、 ポリイミ ド、 ポリ シロキサン、 紫外 線硬化性樹脂などの硬質で透明性に俊れた榭脂をコー ト して形成す ることができる。 また、 ゲイ酸リチウムやゲイ酸ナ トリ ウムなどの 無機材料をコー トしてもよい。
    [0064] また、 オーバーコート展を設けるかわりに、 S 酸ニッケル水溶液 などに染色された透明基板を浸演し、 次いで乾燥♦加熱することに よって無機活性膜餍の活性をなく し、 染料を無機活性膜層 2に定着 させるようにしてもよい。
    [0065] なお、 上記した R G Bの各色を染料する順番は説明の都合上便宜 的に定めたものであり、 上記した順番に限定されない。
    [0066] 【実施例】 実施例 1
    [0067] 厚さ 1 .1腿の 明ガラス基扳上に、 ゾルゲル法により厚さ 5〜 1 0 jtz mのアルミナ Sを形成した ό
    [0068] 次いで、 青色染料 C. I， Acid Blue 1 1 2浴に浴温約 § 0 eCにて約 1 0分藺浸演し、 アルミナ層の全面を青色に染色し、 水洗 後乾燥した。
    [0069] 次いで、 フォ トレジス トも禄色に染色する部分以外に形成し、 3 0 %硝酸に室温で 3 0秒浸浼し、 アルミナ餍のフォ トレジス トでお おわれていない部分の青色染料を脱色した。
    [0070] 銃いて、 緑色染料 C. I . Acid Green 4 1浴に浴温約 4 0て にて約 1 0分閭浸渣し、 アルミナ展の脱色した部分を緑色に染色し, 水洗 ·乾燥後フオ ト レジス トをアセ ト ンに'より除去した。
    [0071] 次いで、 フォ ト レジス トを赤色に染色する部分以外に形成し、 3 0 %硝酸に室温で 3 0秒浸 ¾し、 アルミナ展のフォ ト レジストでお おわれていない郎分の青色染科を脱色した。
    [0072] 銃いて、 赤色染料 C. I . Acid Red 1 3浴に浴温約4 0 に て約 1 0分間'浸演し、 アルミナ展の脱色した郎分を赤色に染色し、 水洗後乾燥した。
    [0073] 次いで、 フォ トレジス トをァセトンで剥離した後、 熟硬化性メラ ミ ン樹脂を厚さ 0 . 5 ~ 1 . 0 # fflでコーティ ングしてオーバーコー ト展を形成してカラーフィルターを完成した。
    [0074] 実施例 2
    [0075] 実施例 1 と同様に透明ガラス基扳上にアルミナ展を形成し、 青♦ 緑 ·赤の各色で染色した。
    [0076] さらにフォ トレジス トをブラックマスクを設けたい部分以外に形 成し、 3 0 %硝酸に室温で 3 0秒藺浸演し、 アルミナ展のフオ トレ ジス ト^おおわれていない部分の染料を脱色した。
    [0077] 次いで、 以下に示す 1液と 2液とを 1 ： 1 に混合した液中に透明 ガラス基扳を 2分間浸演し、 アルミナ厣の脱色された部分にブラッ クマスクを形成した。 その後、 水中で金厲光沢部を布で拭き取って 除去し、 水洗後乾燥した。 1液：
    [0078] 硝酸銀 2 Og ァンモニァ水 適量 水 1 0 0 0 ιηέ
    [0079] 2液：
    [0080] 酒石酸ナトリウムカリウム 1 0 0gZ3 0 Οοιβ 水を加えて 全量 7 0 0 mi 次いで、 フォ ト レジス トをアセ ト ンで剥離した後、 熱硬化性メ ラ ン樹脂を厚さ 0.5〜 1 でコーティ ングしてオーバーコー ト層を形成してカラ フィルターを完成した <
    [0081] 実施例 3
    [0082] 実施例 2と同様に透明ガラス基板上にアルミナ層を形成し、 青 綠♦赤の各色で染色し、 次いでブラックマスクを設けたい部分の染 料を脱色した
    [0083] 次いで、 黒色染料 C . I . Acid Black 1 0 7浴に浴温 4 CTC にて約 3 0分間浸演し、 アルミナ展の脱色された部分を黒色に染色 し、 水洗後乾燥した。
    [0084] 次いで、 フォ トレジス トをァセト ンで剥離した後、 熱硬化性メ ラ ミ ン樹脂を厚さ 0.5〜 i , 0 /mでコーティ ングしてオーバーコー ト眉を形成してカラーフィルタ一を完成した。
    [0085] 実施例 4
    [0086] 厚さ 1 .1 mmの透明ガラス基扳上に、 ゾルゲル法により厚さ.5〜 1 のアルミナ眉を形成した。
    [0087] 次いで、 青色染料 C. I . Acid Blue 1 1 2浴に浴温約 6 0 てにて約 1 0分間浸演し、 アルミナ展の全面を青色に染色し、 水洗 後乾燥した。
    [0088] 次いで、 フォ トレジストをブラッ クマスクの黒色に染色する部分 以外に形成し、 3 0%硝酸に室温で 3 0秒浸演し、 アルミナ層のフォ ト レジス トで覆われていない部分の青色染料を脱色した。
    [0089] 銃いて、 黒色染料（C. I . Mordant B lack 9 )浴に浴温約 7 0 てにて約 3 0分間浸法し、 アルミナ層の脱色した部分を黒色に染色 し、 水洗 · 乾燥後フォ トレジス トをアセトンにより除去し、 ブラ，:； クマスクを形成した。
    [0090] 次いで、 フォ トレジストを綠色に染色する部分以外に形成し、 3 0 %硝酸に室温で 3 0秒浸渎し、 アルミナ眉のフォ トレジス トでお おわれていない部分の靑色染料を脱色した。
    [0091] 銃いて、 綠色染料 C . I . A cid G reen 4 1浴に浴温約 4 0て にて約 1 0分間浸溱し、 アルミナ展の脱色した郎分を緑色に染色し, 水洗 ·乾燥後フォトレジストをアセトンにより除去した。
    [0092] 次いで、 フォ トレジストを赤色に染色する部分以外に形成し、 3 0 %硝酸に室温で 3 0秒 し、 アルミナ雇のフオトレジストでお おわれていない部分の青色染料を脱色した。
    [0093] 銃いて、 赤色染料 C . I . A cid R ed 1 3浴に浴温約 4 0。Cに て約 1 0分間浸演し、 アルミナ展の脱色した部分を赤色に染色し、 水洗後乾燥した。
    [0094] 次いで、 フォ トレジストをァセ トンで剥離した後、 熱硬化性メラ ミ ン樹脂を厚さ 0 . 5〜 1 . 0 でコーティングしてオーバーコー ト届を形成してカラーフィルターを完成した。 次いで、 フォ トレジストをアセトンで剥離した後、 熱硬化性メラ ミ ン樹脂を厚さ 0.5〜 1 .0〃mでコーティ ングしてオーバーコー ト展を形成してカラーフィルターを完成した。
    [0095] 実施例 5
    [0096] 実施例 4 と同様に透明ガラス基扳上にアルミナ屑を形成し、 アル ミナ S全面を青色にした基板を得た。
    [0097] 次に、 フォ トレジス トをブラックマスクを設けたい部分以外に形 成するのと同時に、 アルミ ナ Sのフォ トレジス トで覆われていない 部分の染料を脱色した。
    [0098] 次に、 パラジウムースズ触媒溶液の中に 1分閭浸瀵した後、 レジ ス トを剥離し、 その後 3 %NaOH水溶液に浸潰して、 触媒を活性 化させた。
    [0099] 次いで、 8 0てのニッケルメ ツキ浴に 1分間浸瀵させ、 ニッケル メ ツキで形成されたブラ クマスクを得た。
    [0100] 次いで、 実施例 4 と同様に赤、 緑を染色し、 熱硬化性メラ ミ ン樹 . 脂を厚さ 0.5〜 1 .0 / inでコーティ ングしてオーバーコー ト屑を 形成してカラーフィルターも完成した。
    [0101] 実施例 6
    [0102] 厚さ 1 . 1 mmの透明ガラス基扳上に、 ゾルゲル法により厚さ 5〜 1 0 ju mのアルミナ を形成した。 ·
    [0103] 次いで、 赤色染料 C . I . A c id R ed 9浴に浴温約 6 0 eCにて 約 1 0分間浸演し、 アルミナ層の全面を赤色に染色し、 水洗後乾燥 した。
    [0104] 次いで、 フォ ト レジス トをスピンコー トし、 ブラヅ クマスクのパ ダーンを露先 ·現像して、 ブラックマスクを形成する部分以外にフォ ト レジス トを形成するのと同時にアルミナ Sのフオ ト レジス トで覆 われていない部分の赤色染料を脱色した。
    [0105] その後、 実施例 2と同様に化学メ ツキによってブラックマスクを 形成し、 フォ ト レジス トを剥離した。
    [0106] 次いで、 フォ トレジストをスピンコー トし、 2色目の緑色のパタ ーンも露光 ·現像して、 緑色に染色する部分以外にフォ ト レジスト 形成するのと同時にアルミナ展のフォ トレジストで覆われていな い部分の赤色染料を脱色した。
    [0107] 銃いて、 綠色染料 C. I . Acid Green 4 1浴に浴温約 4 0 てにて約 1 0分間浸演し、 アルミナ) gの脱色した部分を緑色に染色 し、 水冼 · 乾燥後フォ トレジストをアセ トンにより除去した。
    [0108] 次いで、 フォ ト レジス トをスピンコー トし、 3色目の青色のバタ 一ンを露½♦現像して、 青色に染色する部分以外にフォ ト レジス ト を形成するのと同時にアルミナ屑のフォ トレジストで覆われていな ぃ郞分の赤色染料を脱色した。
    [0109] 続いて、 青色染料 C . I . Acid B lue 1 1 2浴に浴温約 6 0 °Cにて約 1 0分間浸 ¾し、 アルミナ屑の脱色した部分を青色に染色 し、 水洗後乾燥した。
    [0110] 次いで、 フォ ト レジス トをァセ ト ンで剥離 Lた後、 熱硬化性メラ ミ ン樹脂を厚さ 0.5〜1 .0 πιでコーティ ングしてオーバーコー ト層を形成して化学メ ツキで形成されたブラヅ クマスク付きのカラ 一フィルタ一を完成した。
    [0111] 実施例 7 実施例 6 と同様にブラックマスクを形成する部分以外に'フオ ト レ ジス トを形成すると同時にフ オ ト レジス ト以外の部分の脱.色処理を fT た
    [0112] 次に、 実施例 5と同様にニッケルメ ツキのブラ クマスクを形成 した。
    [0113] 次に、 実施例 6と同棣に処理して力ラーフィ ルタ一を得.た。
    [0114] 実施例 8
    [0115] 実施例 7において、 ニッケルメ ツキの代わりに黒色の染料でブラツ クマスクを形成し、 実施例 7 と同様の処理をしてカラーフィルター を得た。
    [0116] 【産業上の利用可能性】
    [0117] 本発明によれば、 液晶テレビやその他のカラー表示装置に用いら れるカラーフィルターが効率よ-く製造できる Λ
    权利要求:
    Claims請求の範囲
    1 . 次の各工程を順次行なうことを特钹とするカラーフィルター の製造方法。
    (a)透明基板（ 1 )上に無機活性胰 ¾ ( 2 )を形成する工程。
    (b)無機活性膜眉（2 )に第 1色を染色する工程。
    (c)第 2色を染色する部分以外にレジスト（3 a)を形成する工程。
    (d)脱色処理を行う工程。
    (e)無機活性膜ほ（2 )に第 2色を染色する工程。
    (0レジス ト（3 a)を剥離する工程。
    (g)第 3色を染色する郎分以外にレジス ト（3 b)を形成する工程。
    (h)脱.色処理を行う工程。
    (i)無機活性膜展（2 )に第 3色を染色する工程。
    (j)レジスト（3 b)を剥離する工程。
    2 . 次の各工程を順次行なうことを特徴とするカラーフィ ルター の製造方法。
    (a)透明基板（ 1 )上に無機活性膜 S ( 2 )を形成する工程。 (b)無機活性胰 JB ( 2 )に第 1色を染色する工程。
    (c)第 2色を染色する郎分以外にレジスト（3 a)を形成する工程。 .
    (d)脱色処理を行う工程。
    (e)無機活性膜展（ 2 )に第 2色を染色する工程。
    ひ）レジスト（3 a)を剥雌する工程。
    (g)第 3色を染色する部分以外にレジスト（3 b)を形成する工程。
    (h)脱色処理を行う工程。
    (i)無機活性膜展（2 )に第 3色を染色する工程。
    G)レジスト（3 b)を剥雜する工程。
    )ブラ、j、 クマスクを形成する郎分以外にレジスト（3 c)を形成する 1¼。
    (1)化学メ ツキすることにより第 1 ~ 3色が形成された部分の間隙 にブラ、：/クマスクを形成する工程。'
    (ro)レジスト（3 c)を剥離する工程。
    3 . 次の工程を順次行なうことを特徵とするカラーフィルターの 製造方法。 (a)透明基板（1 )上に無機活性膜層（2 )を形成する工程。
    (b)無機活性膜展（2 )に第 1色も染色する工程。
    (c)第 2色を染色する部分以外にレジス ト（3 a)を形成する工程。
    (d)脱色処理を行う工程。
    (e)無機活性膜ほ（2 )に第 2色を染色する工程。
    ひ）レジス ト（3 a)を剥離する工程。
    (g)第 3色を染色する節分以外にレジスト（3 b)を形成する工程。
    (h)脱色処理を行う工程。
    G)無機活性膜 （2 )に第 3色を染色する工程。
    レジスト（3 b)を剥雜する工程。
    (k)ブラ、J' クマスクを形成する部分以外にレジス ト（3 c)を形成する 丄 ¾£。
    (1)第 1〜 3色が形成された郎分の間隙に黒色を染色してブラッ ク マスクを形成する工程。
    (in)レジスト（3 c)を剥離する工程。
    4 . 次の各工程を順次行うことを特徴とするカラーフィルターの 2 & ―
    製造方法。
    (a)透明基板（1 )±に無機活性膜展（2 )を形成する工程。
    (b)無機活性膜展（2 )に第 1色を染色する工程。
    (c)ブラックマスクを形成する部分以外にレジスト（3 c)を形成する
    (d)脱色処理を行う工程。
    (e)化学メツキまたは黒色染色することによりブラックマスクを形 成する工程。
    (f)レジスト（3 c)を剥離する工程。
    (g)第 2色を染色する郁分以外にレジ ト（3 a)を形成する工程。
    (h)脱色処理を行う工程。
    (i)無機活性膜ほ（2 )に第 2色を染色する工程 t
    ( レジスト（3 a)を剥雜する工程。
    0 第 3色を染色する部分以外にレジスト（3 b)を形成する工程。
    (1)脱色処理を行う工程。
    0 無機活性蹊展（ 2 )に第 3 feを染色する工程。 (n)レジス ト（3 b)を剥離する工程。
    5 . 次の各工程を頫次行うことを特淤とするカラーフィルターの 製造方法。
    (a)透明基板（1 )上に無機活性膜屑（2 )を形成する工程。
    (b)無機活性膜展（2 )に第 1色を染色する工程。
    (c)ブラックマスクを形成する郞分以外にレジス ト（3 c)を.形成する
    (d)脱色処理を行う工程。
    (e)無機活性膜眉（2 )に触媒液を吸着させる工程。
    (f)レジスト（3 c)を剥離する工程。
    (g)触媒液を活性化させる工程。
    (h)金属をメ ツキすることによりブラックマスクを形成する工程。
    (i)第 2色を染色する郎分以外にレジス ト（3 a)を形成する工程。
    G)脱色処理を行う工程。
    (1 無機活性膜展（2 )に第 2色を染色する工程。
    (1)レジスト（3 a)を剥離す.る工程。 On)第 3色を染色する部分以外にレジスト（3 b)を形成する工程。 (n)脱色処理を行う工程。
    ' (0)無機活性膜展（2 )に第 3色を染色する工程。
    (P)レジスト（3 b)も剥雌する工程。
    6 . 次の各工程を順次行うことを特徴とするカラーフィルターの 製造方法。
    (a)透明基扳（ 1 )上に無機活性膜； 8 ( 2 )を形成する工程。
    (b)無機活性膜展（2 )に第 I色を染色する工程。
    (c)ブラックマスクを形成する瑯分以外にフォ トレジスト（1 3 c)を 形成すると同時にフォ トレジスト（1 3 c)以外の部分の脱色処理を 行う工程。
    (d)化学メ キすることによりブラックマスクを形成する工程。
    (e)フォ トレジスト（1 3 c)を剥離する工程。
    (0第 2色を染色する郁分以外にフォ トレジスト（1 3 a)を形成する と同時にフォ トレジスト（1 3 a)以外の部分の脱色処理を行う工程。 (g)無機活性膜展（ 2 )に第 2色を染色する工程。 (h)フォ ト レジスト（1 3 a)を剥離する工程。
    (i)第 3色を染色する郎分以外にフォ ト レジス ト（1 3 b)を形成する と同時にフォ トレジスト（1 3 b)以外の郎分の脱色処理を行う工程。
    G)無機活性膜展（2 )に第 3色を染色する工程。
    (k)フォ ト レジス ト（ 1 3 b)を剥離する工程。
    7 . 次の各工程を順次行うことを特徴とするカラーフィルターの 製造方法。
    (a)透明基板（1 )上に無機活性膜ほ（2 )を形成する工程。
    (b)無機活性膜眉（2 )に第 1色を染色する工程。
    (c)ブラ クマスクを形成する郎分以外にフォ トレジス ト（1 3 c)を 形成すると同時にフォ ト レジス ト（ 1 3 c)以外の部分の脱色処理を 行う工程。
    (d)無機活性膜展（2 )に蝕媒液を吸着ざせる工程。
    (e)フォ ト レジス ト（ 1 3 c)を剥離する工程。
    ひ)触媒液を活性化させる工程。
    (g)金厲をメ ツキすることによりブラ，:/クマスクを形成する工程。 (h)第 2色を染色する部分以外にフォ トレジスト（I 3 a)を形成する と同時にフォトレジスト（1 3 a)以外の部分の脱色処理を行う工程。
    (i)無機活性腠眉（2 )に第 2色を染色する工程。
    (j)フオ トレジスト（1 3 a)を剥離す 工程。
    (k)第 3色を染色する部分以外にフォ トレジスト（1 3 b)を形成する と同時にフ ォトレジスト（1 3 b)以外の部分の脱色処理を行う工程。
    (1)無機活性膜 S ( 2 )に第 3色を染色する工程。
    On)フォ ト レジス ト（1 3 b)を剥離する工程。
    8 . 次の各工程を頫次行うことを特羝とするカラーフィルターの 製造方法。
    (a)透明基板（1 )上に無機活性膜 ¾ ( 2 )を形成する工程。
    (b)無檨活性膜展（2 )に第 1色を染色する工程。
    (c)ブラックマスクを形成する部分以外にフォ トレジスト（1 3 c)を 形成すると同時にフォトレジスト（1 3 c)以外の部分の脱色処理を 行う工程。
    ( 無機活性膜届（2 )に黒色を染色することによりブラックマスク 33 一
    を形成する工程。 '
    (e)フォ ト レジスト.（1 3 c)を剥離する工程。
    (f)第 2色を染色する郯分以外にフォ トレジスト（1 3 a)を形成する と同時にフォ トレジス ト（1 3 a)以外の部分の脱色処理を行う工程。
    (g)無機活性膜展（2 )に第 2色を染色する工程。
    (h)フォ トレジスト（1 3 a)を剥雜する工程。
    (i)第 3色を染色する郎分以外にフォ トレジスト（1 3 b)を形成する と同時にフォ トレジスト（1 3 b)以外の部分の脱色処理を行う工程。
    (i)铤機活性.臟 に第 S色も染色する工程。
    (k)フォ トレジスト（1 3 b)を剥離する工程。
    9 . 無機活性膜 ® ( 2 )が、 一般式
    M ( 0 R ,)m( 0 R 2)nX pY q … I
    (ただし、 I式中、 Mはマグネシウム、 カルシウム、 ジルコニウム、 チタニウム、 ハフニウム、 ゲルマニウム、 ィヅ トリ ウム、 アルミ二 ゥム、 ガリウム、 スズ、 ゲイ索からなる群より選ばれた少なく とも —つの元衆を示す。 R，および はそれぞれ水索原子、 アルキル基, ァシル基も示し、 それらは同一であっても異なっていてもよい。 X および Yはそれぞれ水索原子、 塩素原子または水酸基を示し、 それ らは同一であっても異なっていてもよい。 m、 n、 pおよび qは 0 ~ 8 の整数でありかつ m+n+p+qは Mの原子価に等しい。 ）で表わされ る化合物の水性液を加水分解し、 ざらに解膠して得たゾルを透明基 扳（1 )に塗布し、 焼成することにより得られるものである請求項 1 〜 8のいずれかに記載のカラーフィルターの製造方法。
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