• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:

    公开号:WO1986000650A1
    申请号:PCT/EP1985/000318
    申请日:1985-07-03
    公开日:1986-01-30
    发明作者:Helmut Steininger；Heinz-Werner Etzkorn
    申请人:Battelle-Institut E.V.；
    IPC主号:C23C14-00
    专利说明:
    [0001] Beschreibung Verfahren zur Herstellung von goldfarbenen Titannitrid-Schichten
    [0002] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von goldfarbenen Titannitrid-Schichten durch Einlagerung von Gold mittels plasmagestützter Beschichtungsmethoden, insbesondere mittels Magnetronsputtern, unter Verwendung eines Prozeßgases aus einem Edelgas und Stickstoff.
    [0003] Mit physikalischen Beschiehtungsverfahren wie Magnetronsputtem (Hochratesputtern), Ion-Plattierung usw. können goldfarbene Titannitrid-Schichten auf beliebigen Substraten hergestellt werden, die vom Farbeindruck reinen Goldschichten ähnlich sind. Aufgrund ihrer geringen Brillianz, eines etwas zu kleinen Gelbwertes und geringen Rotanteilen lassen sich reine Titannitrid-Schichten jedoch optisch von reinen Goldschichten unterscheiden. Diesem Mangel stehen andererseits die hervorragenden, physikalischen und chemischen Eigenschaften der TitannitridSchichten, wie große Härte und ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit gegenüber. Insbesondere die sich aus der hohen Härte ergebende Kratzfestigkait von TitannitridSchichten sind den reinen Goldschichtan deutlich überlegen, was ihren hohen Gebrauchswert bei dekorativen Anwendungen ausmacht.
    [0004] Es ist bekannt, Gold in Titannitrid-Schichten einzubringen . Dabei wird z .B . von einem Gold enthaltenden TitanTarget bzw. einem Target aus einer Titan/Gold-Legierung ausgegangen . Die durch diese Methode erhaltenen Titannitrid-Schichten haben einen durch die ganze Schicht homogenen Goldanteil . Dies führt einerseits zu einer wesentlichen Verteuerung und andererseits zu einer erheblichen Minderung der Schichthärte und damit der Kratzfestigkeit .
    [0005] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die optischen Unterscheidungsmerkmale zwischen Titannitrid- und GoldSchichten zu reduzieren. Dabei sollte die große Härte und ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit von Titannitrid nicht beeinträchtigt werden.
    [0006] Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß während der Abscheidung des Titannitrids dem Prozeßgas eine leichtflüchtige Goldverbindung beigemischt wird. Bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in den Unteransprüchen 2 bis 5 beschrieben.
    [0007] Erfindungsgemäß erfolgt die Abscheidung der TitannitridSchicht durch Magnetronsputtern. Gold wird während der Titannitrid-Abscheidung in die aufwachsende Schicht eingelagert. Zu diesem Zweck wird zusätzlich zu den bekannten Prozeßgasen Edelgas, vorzugsweise Argon, und Stickstoff, Gold enthaltende, leichtflüchtige Verbindungen in die Beschichtungsanlage eingelassen. Die Durchflußmenge des Argons beträgt 10 bis 30, vorzugsweise 13 bis 14 cm3/Min, die des Stickstoffs 2 bis 10, vorzugsweise 2 bis 3 cm3/Min. Im zwischen Target und Substrat brennenden
    [0008] Plasma werden die Moleküle der GoldVerbindung ionisiert, angeregt und gecrackt. Dabei freigesetztes Gold oder Gold enthaltende Molekülfragmente schlagen sich auf dem Substrat nieder, die aus beliebigen Materialien wie Kunststoff, reine Metalle oder Legierungen bestehen kann.Dort werden sie direkt oder nach weiterer Umwandlung durch ioneninduzierte Vorgänge in die stetig aufwachsende Schicht eingebaut. Der Goldgehalt und damit letztlich auch der Farbeindruck der Titannitrid-Schicht wird über die Durchflußmenge der goldenthaltenden leichtflüchtigen Komponente bestimmt. Die Durchflußmenge an Goldverbindung beträgt vorzugsweise 2 bis 10 cm3/Min. Bei konstanter Durchflußmenge entstehen Titannitrid-Schichten, die Gold homogen über die gesamte Schichtdicke verteilt enthalten.Durch definierte zeitliche Änderungen der Durchflußmenge der Gold enthaltenden Verbindung können Titannitrid-Schichten mit beliebigem Gold-Konzentrationsgradienten eingestellt werden. Im besonderen ist es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren möglich, Schmuck mit Gold im Sinne der DIN 58 682 gegebenen Definition zu plattieren. Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens sind insbesondere Organophosphin- oder Organoarsin-Derivate von Goldhalogeniden geeignet. Besonders bevorzugt sind Organophosphin-Derivate der Formel
    [0009] R3P, AuHal
    [0010] in der R eine Alkylgruppe mit 1 bis 6, vorzugsweise 2 bis 4 C-Atomen und Hai Chlor oder Jod bedeuten, insbesondere Chlσrtriethylphosphin-Gold (C2H5)3P,AuCl, Jodtriethylphosphin-Gold (C2H5)3P, AuJ, Chlortripropylphosphin-Gold (C3H7)3P,AuCl, Chlortributylphosphin-Gold (C4H9)3P,AuCl und Jodtributylphosphin-Gold (C4H9)3,AuJ. Solche Verbindungen besitzen Schmelzpunkte bis zu ca. 90ºC oder sie sind bereits bei Raumtemperatur flüssig.
    [0011] Die Erfindung wird anhand des nachfolgenden Beispiels näher erläutert:
    [0012] Beispiel
    [0013] Ein Werkstück aus Edelstahl wird in anorganischen und/ oder organischen Lösungsmitteln, vorzugsweise im Ultraschallbad, vorgereinigt und in einer üblichen Beschichtungsappratαr durch Sputterätzen einer Endreinigung unterzogen. Dem Reinigungsprozeß schließt sich die Beschichtung durch an sich bekanntes reaktives Magnetronsputtern an. In die Vakuumapparatur wird Argon und Stickstoff eingelassen. Die Durchflußmenge für Argon beträgt 13,5 cm3/Min, für Stickstoff 2,5 cm3/Min. Zu den beiden Gasen wird etwa ab der Mitte der gesamten Beschichtungszeit Chlortriethylphosphin-Gold eingeleitet. Die Durchflußmenge der Goldverbindung steigt dann kontinuierlich auf ca. 5 cm3/Min. Es wird eine harte, goldhaltige Titannitrid-Schicht erhalten, deren optischer Eindruck demjenigen reiner Goldschichten entspricht.
    权利要求:
    Claims Verfahren zur Herstellung von goldfarbenenTitannitrid-Schichten
    1. Verfahren zur Herstellung von goldfarbenen Titannitrid-Schichten durch Einlagerung von Gold mittels plasmagestützter Beschichtungsmethoden, insbesondere mittels Magnetronsouttem, uncer Verwendung eines Prozeßgases aus einem Edelgas und Stickstoff, dadurch gekennzeichnet, daß während der Abscheidung des Titannitrids dem Prozeßgas eine leichcflüchtige Gαiiverbindung beigemischt wird.
    2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchflußmenge der flüchtigen Goldverbindung während der Abscheidung des Titannitrids kontinuierlich gesteigert wird.
    3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Beimischung der flüchtigen Goldverbindung zum Prozeßgas kurz vor der Beendigung des Abscheidevorgangs erfolgt.
    4. Verfajen nach einem der Anspruche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchflußmenge der flüchtigen Goldverbindung 2 bis 10 cm3/Min beträgt.
    5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Durchflußmenge des Edelgases, vorzugsweise Argons, 10 bis 30 cm3/Min, vorzugsweise 13 bis 14 cm3/Min und des Stickstoffs 2 bis 10 cm3/Min, vorzugsweise 2 bis 3 cm3/Min, beträgt.
    6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeiqhnet, daß als Goldverbindung Organophσsphinoder Organoarsin-Derivate von Goldhalogeniden verwendet werden.
    7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Organophosphin-Derivate. von Goldhlogeniden Verbindungen der Formel
    R3P, AuHal
    verwendet werden, in der R eine Alkylgruppe mit 1 bis 6, vorzugsweise 2 bis 4 C-Atomen und Hai Chlor oder Jod bedeuten.
    类似技术:
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    ES8605867A1|1986-02-01|
    EP0201508B1|1988-11-30|
    DE3425468A1|1986-01-23|
    ES545039D0||
    ES545039A0|1986-02-01|
    EP0201508A1|1986-11-20|
    DE3425468C2|1988-04-14|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1986-01-30| AK| Designated states|Designated state(s): DK JP US |
    1986-01-30| AL| Designated countries for regional patents|Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LU NL SE |
    1986-03-02| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1985903269 Country of ref document: EP |
    1986-11-20| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1985903269 Country of ref document: EP |
    1988-11-30| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1985903269 Country of ref document: EP |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    DEP3425468.4||1984-07-11||
    DE3425468A|DE3425468C2|1984-07-11|1984-07-11||DE19853566558| DE3566558D1|1984-07-11|1985-07-03|Method for the preparation of gold-coloured titanium nitride layers|
    AT85903269T| AT39002T|1984-07-11|1985-07-03|Verfahren zur herstellung von goldfarbenen titannitrid-schichten.|
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