台湾专利TW201321843A 液晶顯示裝置及其製造方法

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液晶顯示裝置包含：顯示部，包括液晶層於一對基板之間；以及框緣部，係設置到該對基板的周邊部。框緣部包括注入埠及注入埠部，注入埠係用於液晶材料的注入，以及注入埠部係設置於注入埠與顯示部之間。注入埠部包括勢疊結構及密封材料，勢疊結構包括間隙，且勢疊結構係與該對基板二者接觸，以及密封材料係裝填於自注入埠延伸至勢疊結構的部分中。
公开号:TW201321843A
申请号:TW101128589
申请日:2012-08-08
公开日:2013-06-01
发明作者:Takeo Koito；Daisuke Takama；Morikazu Nomura
申请人:Japan Display West Inc；
IPC主号:G02F1-00

专利说明:
液晶顯示裝置及其製造方法
本發明有關適用於框架寬度之降低的液晶顯示裝置，且有關其製造方法。
關於液晶顯示裝置，顯示部係設置有密封框架於其周圍，且液晶材料係自形成於該處之用於注入的注入埠而注入。在注入完成之後，注入埠係藉由以密封材料來加以裝填而予以閉合。關於該先前之技術，例如，勢壘係設置於注入埠的附近，以部分地阻隔用於密封材料之路徑，而藉以企圖減少密封材料漏洩至顯示區(例如，請參閱日本未審查專利申請案第2010-44136號，並請參閱日本未審查專利申請案第2008-241752號，以供參考之用)。
關於該先前之技術，設置於注入埠的附近之勢壘確實降低密封材料的注入速度。然而，在透過胞格縫隙的調整而注入密封材料時，液晶材料及密封材料不論何時流過該處，在尺寸上，間隙總易於改變。結果，密封材料的注入速度大大地變化，因而不利地導致密封材料之注入數量的改變，亦即，有時候太多，且有時候不足。特別地，當在顯示區周圍之框架係狹窄時，則期望以良好的精確度而控制密封材料的注入量，且因此，具有降低密封材料的注入速度中之變化的需求。
因而，提供能降低密封材料的注入速度及數量中之變化的液晶顯示裝置，以及其製造方法，係所欲的。
依據本發明之實施例，提供有一種液晶顯示裝置，包含：顯示部，包括液晶層於一對基板之間；以及框緣部，係設置到該對基板的周邊部。框緣部包括注入埠及注入埠部，注入埠係用於液晶材料的注入，以及注入埠部係設置於注入埠與顯示部之間。注入埠部包括勢壘結構及密封材料，勢壘結構包括間隙，且勢壘結構係與該對基板二者接觸，以及密封材料係裝填於自注入埠延伸至勢壘結構的部分中。
關於依據該實施例之液晶顯示裝置，液晶材料係在通過設置為注入埠部之勢壘結構的間隙之後，被注入至顯示部之內，且使液晶材料停止於勢壘結構的間隙處，而藉以減少其對於顯示部之漏洩。與提供勢壘於注入埠附近之先前技術不一樣地，此消除製造過程中之間隙尺寸改變的可能性。因而，使密封材料的注入速度及數量變化較小。
依據本發明之實施例，提供一種製造液晶顯示裝置的方法，該液晶顯示裝置包括顯示部及框緣部，顯示部包括液晶層，液晶層係在一對基板之間，以及框緣部係設置到該對基板的周邊部，且框緣部包括注入埠及注入埠部，注入埠係用於液晶材料的注入，以及注入埠部係設置於注入埠與顯示部之間。該方法包含：形成勢壘結構為注入埠部，且勢壘結構包括間隙，並與該對基板二者接觸；以及裝填密封材料於自注入埠延伸至勢壘結構的部分中。
具有依據本發明實施例之液晶顯示裝置，或具有依據本發明實施例之製造液晶顯示裝置的方法，注入埠部係以勢壘結構而形成，以致使密封材料的注入速度及數量變化較小。
應瞭解的是，上文之概括說明及下文之詳細說明二者係代表性的，且係打算要提供如申請專利範圍所述之技術的進一步解說。
在下文中，本發明之實施例係藉由參照附圖而予以詳細說明。注意的是，說明係以以下順序而給定。
1.第一實施例(具有複數個支柱於壁上面之代表性的勢壘結構)
2.修正實例1(具備突出而該突出具有傾斜部於間隙之出口處的實例)
3.修正實例2(具有複數個支柱於壁下面的實例)
4.修正實例3(具有複數個支柱於上方與下方壁之間的代表性勢壘結構)
5.修正實例4(具有傾斜於其中密封材料進來的方向所設置之間隙的實例)
6.修正實例5(具有彎曲成形之間隙的實例)
7.修正實例6(具有二組勢壘結構的實例)
8.修正實例7(具有藉由與顯示部之間隔物層相同的層所組構之複數個支柱的實例)
9.修正實例8(具有藉由與塗層相同的層所組構之複數個支柱的實例)
10.修正實例9(具有藉由與顯示部之間隔物層相同的層所組構之壁，及藉由與成為平坦化層之有機絕緣層相同的層所組構之複數個支柱的實例)
11.修正實例10(藉由去除勢壘結構周圍之有機絕緣層而組構凹形部的實例)
12.修正實例11(設置基底層於有機絕緣層之下面而使其表面不平坦，以供使用做為複數個支柱的實例)
13.修正實例12(使用諸如金屬佈線層，濾色片，或遮光膜之現有的層而調整縫隙之實例)
14.修正實例13(使用半透射顯示部之縫隙調整層而組構上方壁的實例)
15.第二實例(其中勢壘結構包含複數個壁而該複數個壁係設置不垂直於其中密封材料進來之方向的實例)
16.修正實例14(設置注入埠於顯示部之一側的中間位置處，且沿著顯示部的輪廓而線性地設置勢壘結構之實例)
17.修正實例15(設置注入埠於顯示部之一轉角處，且沿著顯示部的輪廓而以L形狀來設置勢壘結構之實例) [第一實施例]
第1圖係顯示依據本發明第一實施例的液晶顯示裝置之全部形態的圖式。此液晶顯示裝置1係使用於例如，行動電話或智慧型手機，且包含顯示部2及在顯示部2周圍的框緣部3。顯示部2包含液晶層30於一對基板(第一及第二基板10及20)之間，該對基板係各自由例如，玻璃所製成(未顯示於第1圖中，且請參閱第3圖)。顯示部2包含複數個像素(未顯示)，該複數個像素之各者係液晶顯示元件，且係配置於矩陣中。框緣部3係在第一及第二基板10及20之周邊的區域，且其內部組態係藉由遮光膜22而以黑色所遮蔽(未顯示於第1圖中，且請參閱第3圖)。
在第一基板10之一側，暴露區4係設置超出第二基板20。此暴露區4係藉由延伸自信號線驅動器電路及掃描線驅動器電路(均未顯示)之佈線，而設置有外部連接端子5於第一基板10上。
第2圖係第1圖之液晶顯示裝置1中的點線6所包圍之部分的放大視圖。第3圖係顯示沿著線III-III所切開之第2圖的該部分之橫剖面組態的圖式。框緣部3係設置有包圍顯示部2之密封框架3A。例如，密封框架3A係由熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂所製成。密封框架3A係設置有注入埠3B，以供液晶材料的注入之用。在注入埠3B與顯示部2之間的部分係用作路徑的注入埠部3C，其中液晶材料及密封材料係透過其而進來。注入埠部3C係設置有勢壘結構40，且包含密封材料50。勢壘結構40具有間隙41而允許液晶材料通過該處，且係與第一及第二基板10及20二者接觸。密封材料50係裝填於自注入埠3B延伸至勢壘結構40的部分中。關於組構成為此者之液晶顯示裝置1，可允許密封材料50之注入速度及數量的變化降低。
如第4圖中所代表性地顯示，勢壘結構40包含壁42及複數個支柱43。壁42係以與其中密封材料50進來之方向A1交叉的方向(例如，以垂直方向)延伸於第一基板10上。支柱43係設置於壁42的上方表面與第二基板20之間。液晶材料係藉由通過該等支柱43之間的間隙41，而指向至顯示部2。透過間隙41之高度及寬度的調整，密封材料50可以以注入速度及數量而予以控制。勢壘結構40的材料並未特別地受到限制，且例如，可係絕緣材料或金屬。
密封材料50係用以阻隔注入埠部3C，而密封液晶材料於顯示部2中，且例如，係紫外線硬化樹脂。例如，密封材料50係裝填於注入埠部3C中，至離開注入埠3B約50微米(μm)之位置，用以抑制流體的滲透。如第5圖中所代表性地顯示，密封材料50係由於介面張力，而停止於支柱43間之間隙41的出口41A處。此介面張力係相依於液晶材料，密封材料50，及勢壘結構40的材料。此意指的是，密封材料50係藉由透過材料選擇來增加介面張力，而予以控制。
例如，顯示部2的第一基板10係設置有絕緣層11、金屬佈線層12、做為平坦化層之有機絕緣層13、共同電極14、層間絕緣膜15、像素電極16、及取向膜17。該等組件係以此順序而自第一基板10側來予以設置。換言之，此顯示部2係在所謂FFS(邊緣電場開關)結構中。在此，絕緣層11係設置於閘極線與信號線之間，而無關液晶模式。
例如，顯示部2的第二基板20係設置有濾色片21、做為黑矩陣之遮光膜22、做為平坦化層之塗層23、間隔物層24、及取向膜25。該等組件係以此順序而自第二基板20側來予以設置。在第一及第二基板10及20之間，係設置液晶層30。注意的是，例如，第一及第二基板10及20係以平坦化板(未顯示)而各自附加於外側。在第一基板10的後表面側，例如，係設置諸如光源及光導板之背光單元。
例如，此液晶顯示裝置係如下地製造。
首先，製備第一基板10，第一基板10係藉由玻璃或其類似物所製成，以及使成為TFT(薄膜電晶體)或其類似物之驅動器電路(未顯示)，及金屬佈線層12形成於此第一基板10之上。之後，驅動器電路及金屬佈線層12係藉由有機絕緣層13所覆蓋，而藉以使顯示部2的表面平坦化。接著，共同電極14、層間絕緣膜15、像素電極16係依序地形成於有機絕緣層13之上。
然後，製備第二基板20，第二基板20係由玻璃或其類似物所製成，以及使濾色片21，及遮光膜22形成於此第二基板20之上。其次，濾色片21及遮光膜22係藉由塗層23所塗佈，以便起因於濾色片21的彩色間之厚度差異的表面粗糙不平平坦化。接著，在顯示部2中，形成間隔物層24。
之後，例如，密封框架3A係使用熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂而形成到第一基板10的框緣部3。密封框架3A係以矩形框架形狀形成以包圍顯示部2，且係設置有注入埠3B於第一基板10之一側。在注入埠3B與顯示部2之間，係設置注入埠部3C。接著，例如，包含壁42及支柱43之勢壘結構係形成於注入埠部3C之中。為了形成如此之勢壘結構40，勢壘結構40可全部地形成到第一或第二基板10或20，或可係具有複數個層的多層結構，以供分配到第一及第二基板10及20之用。後者結構稍後將被詳細敘述於修正實例7至13之中。
其後，取向膜17係形成於第一基板10的顯示部2中，且取向膜25係形成於第二基板20的顯示部2中。接著，使第一及第二基板10及20彼此互相相對，而密封框架3A介於其間。然後，使組構密封框架3A之樹脂硬化，而藉以使第一及第二基板10及20附加在一起。
之後，將液晶材料裝填至第一及第二基板10及20間的內部空間之內。液晶材料係在通過勢壘結構40的支柱43間的間隙41之後，指向顯示部2。
之後，在密封框架3A內部之降低的壓力下，施加密封材料50於注入埠3B周圍，而藉以使密封材料50指向注入埠部3C之內。如第5圖中所代表性地顯示，密封材料50係由於上述之介面張力，而停止移動於各自在支柱43間之間隙41的出口41A處。因而，密封材料50係裝填於自注入埠3B至勢壘結構40的部分中，以致使其對於顯示部2之漏洩降低。
在此實例中，因為勢壘結構40係與第一及第二基板10及20二者接觸，所以每次當注入密封材料50時，間隙41並不會被改變尺寸。因此，液晶材料50的注入速度、時間、及數量變化較小。此外，可使液晶材料之注入失效的可能性降低。第1至5圖之液晶顯示裝置1係以上述之此方式而完成。
相反地，在先前技藝之液晶顯示裝置中，勢壘140係如第6圖中所示地設置在注入埠103B的附近。因此，在密封材料的注入時，液晶材料及密封材料不論何時流過該處，間隙141總易於改變尺寸。結果，密封材料的注入速度大大地變化，因而不利地導致密封材料之注入量的改變，亦即，有時候太多，且有時候不足。此外，液晶材料的注入失效頻繁地發生。注意的是，在第6圖中，與第3圖中之組件相同的任何組件係以具有1的第一個數字之相同的參考符號而予以設置。
在液晶顯示裝置1之中，當光自背光單元(未顯示)進入顯示部2時，則光通過偏光板(未顯示)，且然後，通過液晶層30，並同時接受像素對像素調變，像素對像素調變係根據所施加於第一及第二基板10及20之間的視頻電壓。在通過液晶層30之後，光通過包含濾色片21之第二基板20，而藉以被提取至偏光板(未顯示)之外部，成為彩色顯示光。
在此實例中，勢壘結構40係與第一及第二基板10及20二者接觸，而藉以減少密封材料50對於顯示部2的漏洩，並控制液晶材料的注入數量，而不使其不足。因而，可降低起因於該處之任何可能的顯示故障。
如上述，在此實施例中，注入埠部3C係設置有勢壘結構40，該勢壘結構40包含間隙41，且係與第一及第二基板10及20二者接觸。關於如此之勢壘結構40，將允許密封材料50之注入速度、時間、及數量的變化減少，且亦將允許起因於該處之任何可能的顯示故障或其類似者降低。 [修正實例1]
第7A圖係顯示修正實例1中之液晶顯示裝置1A中的勢壘結構40之組態的圖式。此液晶顯示裝置1A包含具有傾斜部44之突出45於間隙41的出口41A處。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1A具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。
傾斜部44係用以在間隙41的出口41A處阻擋密封材料50，而不使密封材料50不足。如參照第5圖之第一實施例中所述地，密封材料50係由於介面張力而停止移動於支柱43間之間隙41的出口41A處。此介面張力係相依於液晶材料，密封材料50，及勢壘結構40的材料。因此，如第7B圖中所代表性地顯示，當間隙41的出口41A係平坦表面時，則密封材料50會滑下而包圍間隙41的出口41A。因而，藉由提供傾斜部44至間隙41的出口41A，可收容密封材料50於傾斜部44，而不會不足。
注意的是，做為傾斜部44之組態，如第7A圖中所示，可使傾斜部44形成為設置在間隙41的出口41A處之突出45。選擇性地，傾斜部44可藉由傾斜表面所組構，而在勢壘結構40的製造處理期間之壁42或支柱43的蝕刻時，被自然地形成(請參閱第3圖)。 [修正實例2]
第8圖係顯示依據修正實例2之液晶顯示裝置1B中的勢壘結構40之組態的圖式。在此修正實例中，支柱43係設置於壁42的下面。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1B具有與其之組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例3]
第9圖係顯示依據修正實例3之液晶顯示裝置1C中的勢壘結構40之組態的圖式。在此修正實例中，支柱43係設置於上方與下方壁42A及42B之間。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1C具有與其之組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。
第10圖的(A)係顯示提供第9圖之勢壘結構40至注入埠部3B的情況(實例)與不提供該勢壘結構40至該處的情況(比較實例)間之密封材料50引入角度的差異之檢查結果的圖式。第10圖的(B)係顯示第10圖的(A)之橫軸(引入位置)與注入埠部3B中之位置間的相互關係之圖式。在此，引入位置意指當勢壘結構40的位置P40係零(0)時之相對位置。
如第10圖之(A)及(B)中所示，當勢壘結構40係設置到注入埠部3B時，則密封材料50停止移動於勢壘結構40之位置處。相反地，當並未將勢壘結構設置至該處時，則密封材料50的引入角度會大大地變化，且密封材料50並未被部分地引入很多，而係一直部分地漏洩至顯示部。此說明若注入埠部3C係設置有具有間隙41且係與第一及第二基板10及20二者接觸之勢壘結構40時，則可允許密封材料50之注入速度及數量的變化降低。 [修正實例4]
第11圖係顯示依據修正實例4之液晶顯示裝置1D中的勢壘結構40之組態的圖式。在此修正實例中，間隙41係相對於其中密封材料50進來的方向A1而傾斜地設置。關於如該者之液晶顯示裝置1D，當與以平行於其中密封材料50進來的方向而設置間隙41之如第12圖中所示的情況相較時，可使密封材料50用之路徑加長，以致使阻擋密封材料50的功效增加。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1D具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例5]
第13圖係顯示依據修正實例5之液晶顯示裝置1E中的勢壘結構40之組態的圖式。在此修正實例中，間隙41係各自彎曲成蜿蜒曲折。於如該者之液晶顯示裝置1E中，用於密封材料50的路徑減少寬度，但增加長度，以致使阻擋密封材料50的功效增加。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1E具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例6]
第14圖係以平面視圖而顯示依據修正實例6之液晶顯示裝置1F中的勢壘結構40之注入埠部3C及其周圍的組態之圖式。第15圖顯示沿著線XV-XV所切開之第14圖的注入埠部3C及其周圍之橫剖面組態。在此修正實例中，係分別設置二組勢壘結構40A及40B於其中距離注入埠3B之距離係不同的兩個位置處。關於設置成注入埠部3C之該二組勢壘結構40A及40B，即使在外的勢壘結構40A允許密封材料50通過該處，輔助之在內的勢壘結構40B亦可阻擋密封材料50，藉以能阻擋密封材料50對顯示部2之漏洩，而不使密封材料不足。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1F具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例7至13]
在以下之修正實例7至13的各者中，勢壘結構40係藉由與組構顯示部2之該等層的任一者相同的層所組構。該組態允許勢壘結構40被形成，而不增加處理之數目。 [修正實例7]
第16圖係顯示依據修正實例7之液晶顯示裝置1G中的勢壘結構40之橫剖面組態的圖式。在此修正實例中，支柱43係藉由與顯示部2之間隔物層24相同的層所組構。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1G具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例8]
第17圖係顯示依據修正實例8之液晶顯示裝置1H中的勢壘結構40之橫剖面組態的圖式。在此修正實例中之此液晶顯示裝置1H中，支柱43係藉由與塗層23相同的層所組構。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1H具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例9]
第18圖係顯示依據修正實例9之液晶顯示裝置1I中的勢壘結構40之橫剖面組態的圖式。第19圖係顯示第18圖之勢壘結構40之組態的圖式。在此修正實例中，壁42係藉由與顯示部2之間隔物層24相同的層所組構，且支柱43係藉由與有機絕緣層13相同的層所組構。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1I具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。
通常，間隔物層24係藉由負光阻所組構，且因此，在高度中並不容易被精確調整。此外，顯示部2之間隔物層24的高度係藉由光學特徵所決定。另一方面，有機絕緣層13係藉由正光阻所組構。藉由曝射於光，可向下地控制正光阻的厚度至數百奈米(nm)，且向下地控制寬度至數微米(μm)。而且，正光阻允許有機絕緣層13及支柱43以相同的處理而予以形成，以致使任何額外的處理及生產率的降低之可能性變低。此外，當使用半色調遮罩而藉由改變光曝射量來改變高度時，則可以以相同的處理且以相同的光罩來形成有機絕緣層13及支柱43，而藉以使處理負荷降低更多。 [修正實例10]
第20圖係顯示依據修正實例10之液晶顯示裝置1J中的勢壘結構40之橫剖面組態的圖式。第21圖係顯示第20圖之勢壘結構40之組態的圖式。在此液晶顯示裝置1J中，係去除修正實例9中之勢壘結構周圍的有機絕緣層13，而具有凹形部46。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1J具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。
與修正實例3相似地，勢壘結構40係設置有支柱43於上方與下方壁42A及42B之間。與修正實例9相似地，上方壁42A係藉由與顯示部2之間隔物層24相同的層所形成。下方壁42B及支柱43則係藉由與有機絕緣層13相同的層所組構。
凹形部46係如上述地藉由有機絕緣層13之部分去除，而被設置於下方壁42B的周圍。關於如該者之液晶顯示裝置1J，已通過勢壘結構40的密封材料50係捕獲且儲存於凹形部46中。換言之，藉由使用凹形部46做為用於密封材料50之累積的部分，可減少密封材料50對於顯示部2之漏洩，而不會使不足。
第22A至24B圖係依據顯示第20圖之液晶顯示裝置1J的製造方法之主要部分的圖式。首先，如第22A圖中所示，製備第一基板10，第一基板10係藉由玻璃或其類似物所製成，以及使成為TFT或其類似物的驅動器電路(未顯示)，及金屬佈線層12形成於此第一基板10之上。
之後，亦如第22A圖中所示，形成有機絕緣層13於第一基板10的全部表面之上，且使光指向顯示部2中之用以形成接觸孔之位置處的部分，並指向注入埠部3C中之用以形成凹形部46之位置處的部分。此係第一次的光曝射，且係使用設置有孔徑61A之光罩61而加以執行。
其後，如第22B圖中所示，使光指向用以形成顯示部2之區域，且指向注入埠部3C中之用以形成間隙41之位置處的部分。此係第二次的光曝射，且係使用設置有孔徑62A之光罩62而執行。此時，用以形成顯示部2的區域及用以形成間隙41之位置係曝射至相同的光量。在此方式中，如第22C及23圖中所示，有機絕緣層13及接觸孔13A係形成於顯示部2之中。支柱43係藉由與有機絕緣層13相同的層而形成於注入埠部3C中，且間隙41係形成於每兩個支柱43之間(請參閱第21圖)。之後，去除支柱13周圍的有機絕緣層13，而形成下方壁42B及凹形部46。
其後，如第24A圖中所示，共同電極14、層間絕緣膜15、及像素電極16係依序形成於有機絕緣層13之上。
此外，如第24B圖中所示，製備第二基板20，第二基板20係藉由玻璃或其類似物所製成，以及使濾色片21及遮光膜22形成於此第二基板20之上。接著，濾色片21及遮光膜22係藉由塗層23所塗佈，而藉以使表面平坦化。之後，間隔物層24係形成於顯示部2中，且上方壁42A係使用與間隔物層24相同的層而形成。
其次，取向膜17(未顯示於第24A圖中，且請參閱第3圖)係形成至第一基板10的顯示部2，且密封框架3A係使用熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂而形成至第一基板10的框緣部3。密封框架3A係以矩形形狀形成為要包圍顯示部2，且係設置有注入埠3B於第一基板10的一側。在注入埠3B與顯示部2之間，係形成注入埠部3C。此外，取向膜25(未顯示於第24B圖中，且請參閱第3圖)係形成至第二基板20的顯示部2。
之後，使第一及第二基板10及20彼此互相相對，而密封框架3A介於其間。然後，使組構密封框架3A之樹脂硬化，而藉以使第一及第二基板10及20附加在一起。結果，所形成者係包含上方壁42A以及下方壁42B及支柱43之勢壘結構40，上方壁42A係藉由與間隔物層24相同的層所組構，以及下方壁42B及支柱43係藉由與有機絕緣層13相同的層所組構。
接著，將液晶材料裝填至第一及第二基板10及20間的內部空間之內。液晶材料係在通過勢壘結構40之支柱43間的間隙41之後，指向顯示部2。
之後，在密封框架3A內部之降低壓力下，施加密封材料50於注入埠3B周圍，而藉以使密封材料50指向注入埠部3C之內，以裝填注入埠3B至勢壘結構40之部分。以此方式，可完成第20圖之液晶顯示裝置1J。 [修正實例11]
第25圖係依據修正實例11的液晶顯示裝置1K之一部分的放大視圖，以及第26圖係顯示沿著線XXVI-XXVI所切開之第25圖的該部分之橫剖面組態的圖式。第27圖係顯示第26圖之勢壘結構40的組態之圖式。在此修正實例中，基底層47係設置於下方壁42B之有機絕緣層13的下面，而使有機絕緣層13的表面不平坦，且所生成之表面粗糙不平用作支柱43。此允許將被執行至支柱43之圖型化處理的省略。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1K具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。
較佳地，基底層47係藉由與絕緣層11或與金屬佈線層12相同的層所組構。關於該組態，支柱43係無需增加光罩及處理之數目而予以形成，因此，可促成生產率的增加。特別地，因為金屬佈線層12厚，所以藉由以與金屬佈線層12相同的層來組構基底層47，可使將被產生之功效變高。 [修正實例12]
第28A圖係顯示依據修正實例12之液晶顯示裝置1L的勢壘結構40之橫剖面組態的圖式。在此液晶顯示裝置1L中，胞格縫隙G係使用諸如金屬佈線層12、濾色片21、及遮光膜22之現有的層，而予以調整。在修正實例7至13中，此修正實例因此更增強了無需增加處理之數目而形成勢壘結構40的功效。此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1L具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。
在此修正實例中之顯示部2係與第一實施例中的該者相似地組構，除了由ITO(銦錫氧化物)或其類似物所製成之像素電極16係形成於第一基板10的有機絕緣層13上，以及由ITO或其類似物所製成之共同電極14係形成於第二基板20的塗層23上之外。
與修正實例6相似地，例如，注入埠部3C係分別設置有三組勢壘結構40A、40B、及40C於其中距離注入埠3B之距離係不同的三個位置處。該三組勢壘結構40A、40B、及40C均係相同的組態，且因此，在下文中統稱為勢壘結構40。
勢壘結構40係組構成具有多層結構，該多層結構包含上方壁42A、下方壁42B、及支柱43，上方壁42A係藉由與顯示部2中之層，亦即，遮光膜22、濾色片21、及塗層23相同的層所組構，以及下方壁42B及支柱43係藉由與有機絕緣層13相同的層所組構。特別地，間隙41係設置於有機絕緣層13側。在下方壁42B的周圍，與修正實例10相似地，凹形部46係藉由有機絕緣層13的部分去除所形成。
通常，間隔物層24係藉由負光阻所組構，且因此，在高度中並不容易被精確調整。此外，顯示部2之間隔物層24的高度係藉由光學特徵所決定。另一方面，有機絕緣層13係藉由正光阻所組構。藉由曝射於光，可向下地控制正光阻的厚度至數百奈米(nm)，且向下地控制寬度至數微米(μm)。而且，正光阻允許有機絕緣層13及支柱43以相同的處理而予以形成，以致使任何額外的處理及生產率的降低之可能性變低。此外，當使用半色調遮罩而藉由改變光曝射量來改變高度時，則可以以相同的處理且以相同的光罩來形成有機絕緣層13及支柱43，而藉以使處理負荷降低更多。
而且，在此修正實例中，於顯示部2之中，遮光膜22係較佳地覆蓋於間隔物層24之上，且在注入埠部3C中，濾色片21係較佳地覆蓋於上方壁42A之上。當金屬佈線層12係設置於顯示部2中之間隔物層24的下面時，則金屬佈線層12亦係較佳地設置於注入埠部3C中的下方壁42B之有機絕緣層13的下面。具有如在顯示部2中之多層結構的勢壘結構40，將易於控制間隙41。
為了要精確地調整間隙41，在顯示部2中之層，亦即，遮光膜22、濾色片21、塗層23、及間隔物層24的總厚度被要求與上方壁42A的高度相同。然而，實際此，膜厚度係預期為稍後予以調整，且此將造成生產負荷及變化。例如，在其中支柱43係如第8圖中所示地設置於壁42下面的修正實例2之中，若壁42係在高度上降低時，則組態變成與第6圖之先前技藝組態相似。斟酌於此，在此修正實例中，上方壁42A係組構要具有多層結構，而該多層結構係藉由與顯示部2中之該等者，亦即，遮光膜22、濾色片21、塗層23、及間隔物層24相同的層所組構，以致使間隙41將以最容易的方式而予以調整，且使生產負荷將被降低。此外，雖然在顯示部2中之共同電極14及像素電極16的總厚度係數百奈米(nm)，但濾色片21、遮光膜22(當其係由樹脂所製成時)，及塗層23的厚度係諸如數微米等級地厚。因此，藉由以與顯示部2中之該等者，亦即，遮光膜22、濾色片21、塗層23、及間隔物層24相同的層而組構上方壁42A，上方壁42A可保持高，且生成之勢壘結構40的性能可予以增強。
尤其，濾色片21通常並不設置至框緣部3，且係設置於顯示部2之間隔物層24的下面。因此，當上方壁42A係藉由與間隔物層24相同的層所組構時，則在上方壁42A之上，紅色濾色片21R、綠色濾色片21G、及藍色濾色片21B係較佳地以平面方向而配置，與顯示部2之內部相似地，如第28B圖中所示。
此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1L具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例13]
第29圖係顯示依據修正實例13之液晶顯示裝置1M的勢壘結構40之橫剖面組態的圖式。在此液晶顯示裝置1M中，與修正實例3相似地，勢壘結構40包含支柱43於上方與下方壁42A及42B之間。在此，液晶顯示裝置1M係在ECB(電控制雙折射)模式中之半透射式液晶顯示裝置。液晶顯示裝置1M包含像素電極(未顯示)於第一基板10的有機絕緣層13上，以及共同電極(未顯示)於第二基板20的塗層23上。而且，在半透射式液晶顯示裝置1M中，縫隙調整層26係以調整透射部與反射部間之胞格縫隙G的差異為目的，而被設置至反射部。液晶顯示裝置1M可係在垂直配向膜式中。
上方壁42A係藉由與半透射式顯示部2之縫隙調整層26相同的層所組構。支柱43係藉由與間隔物層24相同的層所組構。下方壁42B係藉由與有機絕緣層13相同的層所組構。除了間隔物層24及有機絕緣層13之外，半透射式反射部係設置有例如，膜厚度調整層(可分散使用於勢壘結構40中之層)，縫隙調整層26亦被設置，而該等層亦係設置至透射式液晶顯示裝置。因而，允許輕易地形成勢壘結構40，而無需增加處理之數目。
較窄寬度的間隙41可產生更高的功效，且所欲地，其寬度係在大約0.5微米至1微米的範圍中。另一方面，反射部的縫隙Gr係相依於光學特徵，且通常，並不落在0.5微米至1微米的範圍中，亦即，更大。因此，下方壁42B係比包含顯示部2之有機絕緣層13及像素電極(未顯示)的多層結構更高，且間隙41係比反射部的縫隙Gr更窄。
例如，此液晶顯示裝置係如下地製造。
第30A至31B圖係依序顯示第29圖之液晶顯示裝置1M的製造方法之主要部分的圖式。關於此製造方法，顯示部2之反射部的縫隙Gr與勢壘結構40的間隙41之間的尺寸差異係藉由改變有機絕緣層13的厚度所調整。注意的是，其中製造過程係與修正實例10中之該者相同的任何部分將藉由參照第22A至22C圖，以及第24A及24B圖而予以敘述。
首先，如第30A圖中所示，與修正實例10相似地，藉由玻璃或其類似物所製成之第一基板10係藉由第22A圖的處理而予以製備，且TFT或其類似物之驅動器電路(未顯示)及金屬佈線層12係形成於此第一基板10上。
之後，亦如第30A圖中所示，與修正實例10相似地，形成有機絕緣層13於第一基板10上，且使光指向顯示部2中之用以形成接觸孔之位置處的部分，並指向注入埠部3C中之用以藉由第22A圖的處理而形成凹形部46之位置處的部分。此係第一次的光曝射，且係使用設置有孔徑61A之光罩61而加以執行。
其後，如第30B圖中所示，使光指向用以形成顯示部2之區域，且指向用以形成下方壁42B之區域的一部分。此係第二次的光曝射，且係使用設置有孔徑63A之光罩63而執行。在此方式中，如第30C圖中所示，有機絕緣層13及接觸孔13A係形成於顯示部2之中，且下方壁42B係藉由與有機絕緣層13相同的層所形成。同時，凹形部42C係部分地形成於下方壁42B的上方表面之上。
之後，在有機絕緣層13上，例如透射部藉由ITO或其類似物所製成的透明電極而形成像素電極(未顯示)，且反射部使用由鋁(Al)或銀(Ag)所製成的反光電極而形成像素電極(未顯示)。其後，取向膜(未顯示)係形成於像素電極之上。
此外，如第31A圖中所示，製備第二基板20，第二基板20係藉由玻璃或其類似物所製成，以及使濾色片21及遮光膜22形成於此第二基板20之上。接著，濾色片21及遮光膜22係藉由塗層23所塗佈，而藉以使表面平坦化。之後，共同電極(未顯示)係形成於塗層23之上。
其後，亦如第31A圖中所示，縫隙調整層26係形成於顯示部2的反射部中，且上方壁42A係藉由與縫隙調整層26相同的層所形成。
其次，如第31B圖中所示，間隔物層24係形成於顯示部2中，且支柱43係藉由與間隔物層24相同的層所形成。間隔物層24及支柱43係形成為具有相同的高度。之後，形成取向膜(未顯示)。
在依此而形成第一及第二基板10及20之後，例如，密封框架3A係藉由熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂而形成至第一基板10的框緣部3。密封框架3A係以矩形形狀形成，而包圍顯示部2，且係設置有注入埠3B於第一基板10之一側。在注入埠3B與顯示部2之間，係形成注入埠部3C。
之後，使第一及第二基板10及20彼此互相相對，而密封框架3A介於其間。然後，使組構密封框架3A之樹脂硬化，而藉以使第一及第二基板10及20附加在一起。結果，所形成者係包含上方壁42A、下方壁42B、及支柱43之勢壘結構40，上方壁42A係藉由與縫隙調整層26相同的層所組構，下方壁42B係藉由與有機絕緣層13相同的層所組構，以及支柱43係藉由與間隔物層24相同的層所組構。如第32圖中所示，該等支柱43之各者的尖端部分係收容於下方壁42B的凹形部42C中。因而，間隙41係在尺寸中減低至小於顯示部2之反射部的縫隙Gr(間隔物層24的高度，亦即，支柱43的高度)。
藉由如此之有機絕緣層13的圖案化而調整間隙41之尺寸具有以下的優點。通常，間隔物層24係藉由負光阻所組構，且因此，藉由與間隔物層24相同的層所組構之支柱43的高度調整並不容易。此外，顯示部2之間隔物層24的高度係相依於顯示部2之胞格縫隙G的設計及光學特徵。另一方面，有機絕緣層13係藉由正光阻所組構。藉由曝射於光，可向下地控制正光阻的厚度至數百奈米(nm)，且向下地控制寬度至數微米(μm)。因此，僅藉由改變有機絕緣層13的遮罩類型，將調整間隙41之尺寸。此外，因為反射部的縫隙Gr係期望為狹窄，所以此影響生產生率不多。
與第32圖的情況相反地，當間隙41係大於顯示部2之反射部的縫隙Gr(間隔物層24的高度，亦即，支柱43的高度)時，則如第33圖中所示，藉由與有機絕緣層13相同的層所組構之下方壁42B係設置有基底部42D，以供支柱43之尖端部分的配置之用。針對該目的，在第30B圖中所示之用第二次的光曝射時，未成為下方壁42B之基底部42D的部分係以與對其中將形成顯示部2之區域的光量相同的光量而予以曝射。
在使第一及第二基板10及20依此而附加在一起之後，將液晶材料注入至第一與第二基板10及20之間的內部空間內。液晶材料係在通過勢壘結構40中之支柱43間的間隙41之後，指向顯示部2。
之後，在密封框架3A內部之降低壓力下，施加密封材料50於注入埠3B周圍，而藉以使密封材料50指向注入埠部3C之內，以裝填注入埠3B至勢壘結構40之部分。因此，可完成第29圖之液晶顯示裝置1M。 [第二實施例]
第34圖係依據本發明第二實施例的液晶顯示裝置1N之一部分的放大視圖，以及第35圖係顯示沿著線XXXV-XXXV所切開之第34圖的該部分之橫剖面組態的圖式。第36圖係顯示第35圖的勢壘結構之組態的圖式。在此液晶顯示裝置1N中，與第一實施例相似地，注入埠部3B係設置有勢壘結構40及密封材料50。與第一實施例相似地，勢壘結構40具有間隙41而允許液晶材料通過，且係與第一及第二基板10及20二者接觸。特別地，勢壘結構40具有複數個壁48於第一與第二基板10及20之間。壁48係以不垂直於(例如，平行於)其中密封材料50進來的方向A1，而予以設置。關於如該者之液晶顯示裝置1N，與第一實施例相似地，可允許密封材料50之注入速度及數量的變化降低。
例如，該等壁48係以平行於其中密封材料50進來的方向A1而予以設置，且係設置有間隙41於其每二者之間。液晶材料係在通過壁48之間的間隙41之後，指向顯示部2。藉由調整間隙41的寬度，密封材料50之注入的速度及數量係與第一實施例中之壁42相似地控制。在壁48之間的間隙41可相對於其中密封材料50進來的方向A1而傾斜地設置，如修正實例4中似地，或可予以彎曲成蜿蜒曲折，如修正實例5中似地。該等壁48可藉由與間隔物層24，或與塗層23相同的層所組構。
此係與第一實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1N具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例14]
第37圖係以平面視圖顯示依據修正實例14之液晶顯示裝置1O中的勢壘結構40之組態的圖式。勢壘結構40係用以控制密封材料之注入的路徑，而降低密封材料50在顯示部2上的影響。因此，如在此修正實例中，可將注入埠3B設置於顯示部2之一側的中間位置處，且可使勢壘結構40沿著顯示部2之輪廓而被線性地設置。此係與第一或第二實施例之唯一差異，且液晶顯示裝置1O具有與其組態、功能、及功效相似的該等者，並與其相似地被製造出。 [修正實例15]
第38圖係以平面視圖顯示依據修正實例15之液晶顯示裝置1P中的勢壘結構40之組態的圖式。在此修正實例中，注入埠3B係設置於顯示部2之一轉角處，且勢壘結構40係以沿著顯示部2之輪廓的L形狀而設置。此係與修正實例14之唯一差異。
雖然本發明已藉由參照實施例而予以詳細說明，但本發明並未受限於上文所敘述之該等實施例，且許多其他實施例亦可被想出。例如，在上文所敘述之第一實施例中，所例示者係其中壁42或上方及下方壁42A及42B係以垂直於其中密封材料50進來之方向A1的方向延伸之情況。選擇性地，壁42或上方及下方壁42A及42B可以以實質垂直於其中密封材料50進來之方向A1或與該方向A1交叉(傾斜)的方向延伸。
進一步地，在上文所敘述之第二實施例中，所例示者係其中壁48係以平行於其中密封材料50進來之方向A1的方向設置之情況。選擇性地，壁48可以以實質垂直於其中密封材料50進來之方向A1或與該方向A1交叉(傾斜)的方向設置。
仍進一步地，在上文所敘述之實施例中，所例示者係其中顯示部2係在FFS組態中的情況。選擇性地，顯示部2可在諸如TN(扭轉向列)或VA(垂直配向)之任何其他的組態中。
仍進一步地，例如，在上文的實施例中所敘述之層的材料和厚度、膜形成的方法和條件、及其類似者並非限制性的，且任何其他的材料和厚度、或任何其他的膜形成方法和條件亦係可應用的。例如，除了藉由玻璃所製成之外，第一及第二基板10及20可各自藉由矽(Si)、塑膠、或其中可使其表面保持絕緣之任何其他的材料所製成。
仍進一步地，雖然在上文實施例中所例示者係液晶顯示裝置的特定組態，但並不要求包含所有該等組件，且亦可包含任何其他的組件。
仍進一步地，本發明之顯示裝置可應用至行動電話、智慧型手機、數位相機、可攜帶式DVD(數位多功能碟片)藍光播放器、諸如可攜帶式遊戲機之移動裝備或AV裝備、或汽車導航裝置的監視器、相框、小型筆記型個人電腦，或其類似物。尤其，若將本發明之顯示裝置應用至行動電話或智慧型手機時，則例如，就減少之框緣而言，其係有利的。
本發明之技術亦可係以下之結構。
(1)一種液晶顯示裝置，包含：顯示部，包含液晶層，該液晶層係在一對基板之間；以及框緣部，係設置到該對基板的周邊部，其中該框緣部包括注入埠及注入埠部，該注入埠係用於液晶材料的注入，以及該注入埠部係設置於該注入埠與該顯示部之間，且該注入埠部包括勢壘結構，包括間隙，且該勢壘結構係與該對基板二者接觸，及密封材料，係裝填於自該注入埠延伸至該勢壘結構的部分中。
(2)如(1)之液晶顯示裝置，其中該勢壘結構包括壁，係設置到該對基板的其中一者或二者，且該壁係以與其中該密封材料進來之方向交叉的方向延伸，以及複數個支柱，係設置於該壁上。
(3)如(2)之液晶顯示裝置，進一步包含：傾斜部，係在該間隙的出口處。
(4)如(2)或(3)之液晶顯示裝置，其中該勢壘結構係設置於其中與該注入埠之距離係不同的二或多個位置處。
(5)如(1)之液晶顯示裝置，其中該勢壘結構具有複數個壁在該對基板之間，該複數個壁係不垂直於其中該密封材料進來的方向。
(6)如(1)至(5)之任一者的液晶顯示裝置，其中該勢壘結構係藉由與組構該顯示部之其他層相同的層所組構。
(7)一種製造液晶顯示裝置之方法，該液晶顯示裝置包括顯示部及框緣部，該顯示部包含液晶層，該液晶層係在一對基板之間，以及該框緣部係設置到該對基板的周邊部，且該框緣部包括注入埠及注入埠部，該注入埠係用於液晶材料的注入，以及該注入埠部係設置於該注入埠與該顯示部之間，該方法包含：形成勢壘結構到該注入埠部，且該勢壘結構包含間隙，並與該對基板二者接觸；以及裝填密封材料於自該注入埠延伸至該勢壘結構的部分中。
(8)如(7)之方法，其中該勢壘結構係與組構該顯示部之其他層同時形成。
(9)如(8)之方法，其中該勢壘結構係以包括複數個層的多層結構形成，且該複數個層係分配到該對基板二者。
(10)如(8)之方法，其中該勢壘結構係全部設置到該對基板之其中任一者。
本發明包含有關2011年8月17日在日本專利局中所申請之日本優先權專利申請案JP2011-178210中所揭示的標的物之標的物，該申請案的全部內容係結合於本文以供參考。
熟習於本項技藝之該等人士應瞭解的是，各式各樣之修正、結合、子結合、及改變可根據設計需求及其他因素而發生，只要它們係在附錄之申請專利範圍或其等效範圍的範疇之內即可。
2‧‧‧顯示部
3B‧‧‧注入埠
3C‧‧‧注入埠部
10‧‧‧第一基板
11‧‧‧絕緣層
12‧‧‧金屬佈線層
13‧‧‧有機絕緣層
14‧‧‧共同電極
15‧‧‧層間絕緣膜
16‧‧‧像素電極
17、25‧‧‧取向膜
20‧‧‧第二基板
21‧‧‧濾色片
22‧‧‧遮光膜
23‧‧‧塗層
24‧‧‧間隔物層
30‧‧‧液晶層
40‧‧‧勢壘結構
41‧‧‧間隙
42‧‧‧壁
43‧‧‧支柱
44‧‧‧傾斜部
50‧‧‧密封材料
附圖係包含以提供本發明之進一步的瞭解，且係結合於此說明書中，並建構此說明書的一部分。該等圖式描繪實施例，且與說明書一起用以解說技術之原理。
第1圖係頂視圖，顯示依據本發明第一實施例之液晶顯示裝置的組態；第2圖係第1圖之液晶顯示裝置的一部分之放大頂視圖；第3圖係沿著線III-III所切開之第2圖的該部分之橫剖面視圖；第4圖係透視圖，顯示第3圖之勢壘結構的組態；第5圖係頂視圖，用以描繪停止移動於第4圖的間隙中之密封材料的狀態；第6圖係橫剖面圖，用以描繪先前勢壘之缺點；第7A圖係頂視圖，顯示依據修正實例1的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態，其中具有傾斜部的突出係設置於間隙的出口處，及第7B圖係用以描繪滑動於第5圖的間隙中之密封材料的狀態；第8圖係橫剖面圖，顯示依據修正實例2的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第9圖係橫剖面圖，顯示依據修正實例3的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第10圖的(A)係顯示具有或不具有勢壘結構間之密封材料的引入角度差異之測量結果的圖式，及第10圖的(B)係顯示所使用於測量的勢壘結構之組態的橫剖面圖；第11圖係頂視圖，顯示依據修正實例4的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第12圖係頂視圖，顯示第2圖之間隙的形狀；第13圖係頂視圖，顯示依據修正實例5的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第14圖係放大頂視圖，顯示依據修正實例6之液晶顯示裝置的一部分；第15圖係沿著線XV-XV所切開之第14圖的該部分之橫剖面視圖；第16圖係橫剖面圖，顯示依據修正實例7的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第17圖係橫剖面圖，顯示依據修正實例8的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第18圖係橫剖面圖，顯示依據修正實例9的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第19圖係透視圖，顯示第18圖之勢壘結構的組態；第20圖係橫剖面圖，顯示依據修正實例10的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第21圖係透視圖，顯示第20圖之勢壘結構的組態；第22A至22C圖係橫剖面圖，依序顯示第20圖的製造液晶顯示裝置之方法的主要部分；第23圖係透視圖，顯示第22C圖的過程之其後的過程；第24A及24B圖係橫剖面圖，顯示第23圖的過程之其後的過程；第25圖係放大平面視圖，顯示依據修正實例11之液晶顯示裝置的一部分；第26圖係沿著線XXVI-XXVI所切開之第25圖的該部分之橫剖面視圖；第27圖係透視圖，顯示第26圖之勢壘結構的組態；第28A及28B圖係橫剖面圖，各自顯示依據修正實例12的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第29圖係橫剖面圖，顯示依據修正實例13的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；第30A至30C圖係橫剖面圖，依序顯示第29圖的製造液晶顯示裝置之方法的主要部分；第31A及31B圖係橫剖面圖，顯示第30C圖的過程之其後的過程；第32圖係透視圖，顯示減少間隙之尺寸超過29圖的勢壘結構中之顯示部的縫隙之實例；第33圖係透視圖，顯示增加間隙之尺寸超過該顯示部的縫隙之實例；第34圖係放大平面視圖，顯示依據本發明第二實施例之液晶顯示裝置的一部分；第35圖係沿著線XXXV-XXXV所切開之第34圖的該部分之橫剖面視圖；第36圖係透視圖，顯示第34圖之勢壘結構的組態；第37圖係平面視圖，顯示依據修正實例14的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態；以及第38圖係平面視圖，顯示依據修正實例15的液晶顯示裝置之勢壘結構的組態。
2‧‧‧顯示部
3B‧‧‧注入埠
3C‧‧‧注入埠部
10‧‧‧第一基板
11‧‧‧絕緣層
12‧‧‧金屬佈線層
13‧‧‧有機絕緣層
14‧‧‧共同電極
15‧‧‧層間絕緣膜
16‧‧‧像素電極
17、25‧‧‧取向膜
20‧‧‧第二基板
21‧‧‧濾色片
22‧‧‧遮光膜
23‧‧‧塗層
24‧‧‧間隔物層
30‧‧‧液晶層
40‧‧‧勢壘結構
41‧‧‧間隙
42‧‧‧壁
43‧‧‧支柱
44‧‧‧傾斜部
50‧‧‧密封材料

权利要求:
Claims (10)
[1] 一種液晶顯示裝置，包含：顯示部，包括液晶層，該液晶層係在一對基板之間；以及框緣部，係設置到該對基板的周邊部，其中該框緣部包括注入埠及注入埠部，該注入埠係用於液晶材料的注入，以及該注入埠部係設置於該注入埠與該顯示部之間，且該注入埠部包括勢壘結構，包括間隙，且該勢壘結構係與該對基板二者接觸，及密封材料，係裝填於自該注入埠延伸至該勢壘結構的部分中。
[2] 如申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置，其中該勢壘結構包括壁，係設置到該對基板的其中一者或二者，且該壁係以與其中該密封材料進來之方向交叉的方向延伸，以及複數個支柱，係設置於該壁上。
[3] 如申請專利範圍第2項之液晶顯示裝置，進一步包含：傾斜部，係在該間隙的出口處。
[4] 如申請專利範圍第2項之液晶顯示裝置，其中該勢壘結構係設置於其與該注入埠之距離係不同的二或多個位置處。
[5] 如申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置，其中該勢壘結構具有複數個壁在該對基板之間，該複數個壁係不垂直於自該密封材料進來的方向。
[6] 如申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置，其中該勢壘結構係藉由與組構該顯示部之其他層相同的層所組構。
[7] 一種製造液晶顯示裝置之方法，該液晶顯示裝置包括顯示部及框緣部，該顯示部包含液晶層，該液晶層係在一對基板之間，以及該框緣部係設置到該對基板的周邊部，且該框緣部包括注入埠及注入埠部，該注入埠係用於液晶材料的注入，以及該注入埠部係設置於該注入埠與該顯示部之間，該方法包含：形成勢壘結構到該注入埠部，且該勢壘結構包含間隙，並與該對基板二者接觸；以及裝填密封材料於自該注入埠延伸至該勢壘結構的部分中。
[8] 如申請專利範圍第7項之方法，其中該勢壘結構係與組構該顯示部之其他層同時形成。
[9] 如申請專利範圍第8項之方法，其中該勢壘結構係以包括複數個層的多層結構形成，且該複數個層係分配到該對基板二者。
[10] 如申請專利範圍第8項之方法，其中該勢壘結構係全部設置到該對基板之其中任一者。

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