台湾专利TW201303528A 多載物台系統、其控制方法及微影裝置

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一種用於控制一多載物台系統之方法，該多載物台系統包括：一定子，其平行於一第一方向而延伸；一第一載物台及一第二載物台，其相對於該定子可移動；該等載物台具備一磁體系統以產生一磁場，且該定子具備線圈以與該等磁場相互作用以相對於該定子來定位該等載物台，該方法包含：判定該等載物台之位置；選擇能夠具有分別與該第一載物台及該第二載物台之該磁場之一不可忽略相互作用的線圈之一第一子集及一第二子集；啟動兩個子集之該等線圈，其中啟動該等線圈包括判定為兩個子集之部件之該等線圈；及排除為兩個子集之部件之一線圈以免於啟動。
公开号:TW201303528A
申请号:TW101116396
申请日:2012-05-08
公开日:2013-01-16
发明作者:Hans Butler；Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen
申请人:Asml Netherlands Bv；
IPC主号:G03F7-00

专利说明:
多載物台系統、其控制方法及微影裝置
本發明係關於一種多載物台系統、一種用以控制此多載物台系統之方法，及一種包括此多載物台系統之微影裝置。
微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)之機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在此狀況中，圖案化器件(其或者被稱作光罩或比例光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上之電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包括晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分之網路。習知微影裝置包括：所謂步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉印至基板。
為了定位物件(例如，基板台)，常見的是使用所謂載物台系統。當前在開發中的一種類型之載物台系統為單載物台系統，其包含：定子，其實質上平行於第一方向X及第二方向Y而延伸，其中第二方向Y垂直於第一方向X；及第一載物台，其在第一方向及第二方向上相對於定子可移動。圖2中展示此單載物台系統之示意性實例。定子係藉由參考數字1指示，且第一載物台係藉由參考數字3指示。
第一載物台3具備磁體系統。出於簡單原因，可假定，在圖2之實例中，第一載物台之整個底部區域被磁體系統佔據。磁體系統產生自磁體系統延伸至在第一載物台下方且附近之定子之磁場。
定子具備電動線圈5之陣列，該等電動線圈中僅幾個電動線圈係藉由參考數字5指示，該等電動線圈經組態以與藉由第一載物台之磁體系統產生之磁場相互作用，以便對第一載物台產生力以在第一方向及第二方向上相對於定子來定位第一載物台。
此處應注意，定子通常安裝至框架或藉由框架承載，且因此充當靜止世界(stationary world)。第一載物台能夠相對於定子而移動。因此，載物台系統為移動磁體類型，而非較常用之移動線圈類型。
當使用基本控制以相對於定子來定位載物台時，啟動定子上之所有線圈。然而，就此組態而言，大多數線圈並不在具有磁體系統之第一載物台附近，且因此具有與所產生磁場之最小相互作用。此外，此情形不會考慮到可使用相同線圈而相對於定子獨立地定位之第二載物台。
為了避免此情形，僅啟動線圈之子集，使得僅啟動具有與磁場之不可忽略相互作用之線圈，其中不可忽略可藉由第一載物台之所需位置準確度判定。線圈之子集之實例在圖2中係藉由粗線線圈5指示。如此實例所示，僅啟動直接地在第一載物台(亦即，磁體系統)下方且在其直接附近之線圈。直接地在第一載物台下方之線圈係藉由陰影指示。
在圖3中，展示多載物台系統，其中兩個載物台(即，第一載物台3及第二載物台7)相對於具有多個電動線圈5之定子1可移動。為了定位第一載物台3，選擇及啟動電動線圈之第一子集(如藉由粗線線圈所指示)。同時，可藉由選擇及啟動線圈之第二子集(如藉由虛線線圈所指示)來定位第二載物台。
此組態之益處在於：兩個載物台可相對於同一定子同時獨立地定位。然而，兩個載物台不能彼此緊密地接近，此情形使不可能執行某些類型之操作。
需要提供一種多載物台系統，其中兩個載物台能夠彼此緊密地接近。
根據本發明之一實施例，提供一種多載物台系統，該多載物台系統包含：一定子，其實質上平行於一第一方向而延伸；一第一載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；一第二載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；其中該第一載物台及該第二載物台各自具備一磁體系統以產生一磁場，其中該定子具備複數個電動線圈，該等電動線圈經組態以與藉由該第一載物台之該磁體系統及該第二載物台之該磁體系統產生之該等磁場相互作用，以便對該第一載物台及該第二載物台產生力以相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，該多載物台系統進一步包含：一感測器系統，其用以判定該第一載物台及該第二載物台相對於該定子之位置；一控制單元，其用以在該第一方向上相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，其中該控制單元經組態以：-基於該感測器系統之一輸出而判定在該第一方向上該第一載物台相對於該定子之該位置；-選擇能夠在該第一載物台之該經判定位置中具有與該第一載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第一子集；-基於該感測器系統之一輸出而判定在該第一方向上該第二載物台相對於該定子之該位置；-選擇能夠在該第二載物台之該經判定位置中具有與該第二載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第二子集；及-啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈，以便相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，其中在啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈之前，該控制單元經組態以：-判定為該第一子集及該第二子集兩者之部件之該等電動線圈；及-排除為該第一子集及該第二子集兩者之部件之至少一電動線圈以免於啟動。
在本發明之另一實施例中，提供一種微影裝置，該微影裝置包含根據本發明之一實施例之一多載物台系統。
在本發明之又一實施例中，提供一種微影裝置，該微影裝置包含一多載物台系統，該多載物台系統包括：一載體，其實質上平行於一第一方向及一第二方向而延伸，其中該第二方向垂直於該第一方向；一第一載物台，其在該第一方向及該第二方向上相對於該載體可移動；一第二載物台，其在該第一方向及該第二方向上相對於該載體可移動；其中該第一載物台及該第二載物台各自具備一磁體系統以產生一磁場，其中該載體具備一電動線圈陣列，該等電動線圈經組態以與藉由該第一載物台之該磁體系統及該第二載物台之該磁體系統產生之該等磁場相互作用，以便對該第一載物台及該第二載物台產生力以相對於該載體來定位該第一載物台及該第二載物台，該多載物台系統進一步包含：一感測器系統，其用以判定該第一載物台及該第二載物台相對於該載體之位置；一控制單元，其用以在該第一方向及該第二方向上相對於該載體來定位該第一載物台及該第二載物台，其中該控制單元經組態以：-基於該感測器系統之一輸出而判定在該第一方向及該第二方向上該第一載物台相對於該載體之該位置；-選擇能夠在該第一載物台之該經判定位置中具有與該第一載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第一子集；-基於該感測器系統之一輸出而判定在該第一方向及該第二方向上該第二載物台相對於該載體之該位置；-選擇能夠在該第二載物台之該經判定位置中具有與該第二載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第二子集；及-啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈，以便相對於該載體來定位該第一載物台及該第二載物台，其中在啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈之前，該控制單元經組態以：-判定為該第一子集及該第二子集兩者之部件之該等電動線圈；及-排除為該第一子集及該第二子集兩者之部件之至少一電動線圈以免於啟動，且其中該微影裝置進一步包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一第一基板台及一第二基板台，其各自經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該第一基板台提供於該第一載物台上且該第二基板台提供於該第二載物台上，使得該第一基板台及該第二基板台可藉由該第一載物台及該第二載物台之適當定位而定位。
在本發明之一另外實施例中，提供一種用於控制一多載物台系統之方法，該多載物台系統包含：一定子，其實質上平行於一第一方向而延伸；一第一載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；一第二載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；其中該第一載物台及該第二載物台各自具備一磁體系統以產生一磁場，且其中該定子具備複數個電動線圈，該等電動線圈經組態以與藉由該第一載物台之該磁體系統及該第二載物台之該磁體系統產生之該等磁場相互作用，以便對該第一載物台及該第二載物台產生力以在該第一方向上相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，該方法包含：-判定在該第一方向上該第一載物台相對於該定子之位置；-選擇能夠在該第一載物台之該經判定位置中具有與該第一載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第一子集；-判定在該第一方向上該第二載物台相對於該定子之位置；-選擇能夠在該第二載物台之該經判定位置中具有與該第二載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第二子集；及-啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈，以便相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，其中啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈包含：-判定為該第一子集及該第二子集兩者之部件之該等電動線圈；及-排除為該第一子集及該第二子集兩者之部件之至少一電動線圈以免於啟動。
現在將參看隨附示意性圖式而僅藉由實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應元件符號指示對應部件。
圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。該裝置包括：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或任何其他合適輻射)；圖案化器件支撐件或光罩支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如，光罩)MA，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該圖案化器件之第一定位器件PM。該裝置亦包括基板台(例如，晶圓台)WT或「基板支撐件」，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該基板之第二定位器件PW。該裝置進一步包括投影系統(例如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將藉由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包括一或多個晶粒)上。
照明系統可包括用於引導、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。
圖案化器件支撐件以取決於圖案化器件之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化器件是否被固持於真空環境中)的方式來固持圖案化器件。圖案化器件支撐件可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化器件。圖案化器件支撐件可為(例如)框架或台，其可根據需要而固定或可移動。圖案化器件支撐件可確保圖案化器件(例如)相對於投影系統處於所要位置。可認為本文對術語「比例光罩」或「光罩」之任何使用皆與更通用之術語「圖案化器件」同義。
本文所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中創製圖案的任何器件。應注意，舉例而言，若被賦予至輻射光束之圖案包括相移特徵或所謂輔助特徵，則圖案可能不會確切地對應於基板之目標部分中之所要圖案。通常，被賦予至輻射光束之圖案將對應於目標部分中所創製之器件(諸如，積體電路)中之特定功能層。
圖案化器件可為透射的或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面在藉由鏡面矩陣反射之輻射光束中賦予圖案。
本文所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解釋為涵蓋適於所使用之曝光輻射或適於諸如浸潤液體之使用或真空之使用之其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統，或其任何組合。可認為本文對術語「投影透鏡」之任何使用皆與更通用之術語「投影系統」同義。
如此處所描繪，裝置為透射類型(例如，使用透射光罩)。或者，裝置可為反射類型(例如，使用上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。
微影裝置可為具有兩個(雙載物台)或兩個以上基板台或「基板支撐件」(及/或兩個或兩個以上光罩台或「光罩支撐件」)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台或支撐件，或可在一或多個台或支撐件上進行預備步驟，同時將一或多個其他台或支撐件用於曝光。
微影裝置亦可為如下類型：其中基板之至少一部分可藉由具有相對高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充在投影系統與基板之間的空間。亦可將浸潤液體施加於微影裝置中之其他空間，例如，在圖案化器件(例如，光罩)與投影系統之間的空間。浸潤技術可用以增加投影系統之數值孔徑。本文所使用之術語「浸潤」不意謂諸如基板之結構必須浸沒於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統與基板之間。
參看圖1，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當輻射源為準分子雷射時，輻射源及微影裝置可為分離實體。在此等狀況中，不認為輻射源形成微影裝置之部件，且輻射光束係憑藉包括(例如)合適引導鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明器IL。在其他狀況中，舉例而言，當輻射源為水銀燈時，輻射源可為微影裝置之整體部件。輻射源SO及照明器IL連同光束遞送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。
照明器IL可包括經組態以調整輻射光束之角強度分佈之調整器AD。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。另外，照明器IL可包括各種其他組件，諸如，積光器IN及聚光器CO。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。
輻射光束B入射於被固持於圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT上之圖案化器件(例如，光罩)MA上，且係藉由該圖案化器件而圖案化。在已橫穿圖案化器件(例如，光罩)MA的情況中，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二定位器件PW及位置感測器IF(例如，干涉量測器件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT，例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一定位器件PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化器件(例如，光罩)MA。一般而言，可憑藉形成第一定位器件PM之部件之長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT之移動。相似地，可使用形成第二定位器PW之部件之長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT或「基板支撐件」之移動。在步進器(相對於掃描器)之狀況中，圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT可僅連接至短衝程致動器，或可固定。可使用圖案化器件對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件(例如，光罩)MA及基板W。儘管所說明之基板對準標記佔據專用目標部分，但該等標記可位於目標部分之間的空間中(此等標記被稱為切割道對準標記)。相似地，在一個以上晶粒提供於圖案化器件(例如，光罩)MA上之情形中，圖案化器件對準標記可位於該等晶粒之間。
所描繪裝置可用於以下模式中至少一者中：
1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT或「基板支撐件」在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。在步進模式中，曝光場之最大大小限制單次靜態曝光中所成像之目標部分C之大小。
2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT或「基板支撐件」相對於圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大大小限制單次動態曝光中之目標部分之寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。
3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT或「基板支撐件」。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT或「基板支撐件」之每一移動之後或在一掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如，上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。
亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。
儘管圖1描繪僅一個定位器件PW，但微影裝置包含兩個及可能兩個以上此等定位器件PW，以便相對於框架FR來定位各別基板台WT。定位器件PW可或者被稱作載物台。或者或另外，諸如用於圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT之定位器件PM之其他定位器件可被描繪為單載物台，其中事實上存在更多此等載物台。
微影裝置之框架FR包含定子1，定子1之示意性實例在圖3中予以展示。定子1在第一方向X及第二方向Y(見圖1)上延伸。定子具備多個電動線圈5，電動線圈5中僅幾個電動線圈係藉由對應參考數字指示。因此，電動線圈5靜止地安裝至框架FR。
圖3中描繪第一載物台3以表示圖1之定位器件PW中之一者。第一載物台被示意性地展示且透明以展示藉由陰影指示之底層電動線圈。第一載物台3在第一方向X及第二方向Y兩者上相對於定子1可移動，且包含用以產生第一磁場之第一磁體系統。儘管出於簡單原因而在圖3中未展示磁體系統，但可假定，圖3中之第一載物台3之外部輪廓亦為磁體系統之外部輪廓，且因此，第一磁場亦延伸至第一載物台外部。
可歸因於電動線圈5與第一磁場之間的相互作用而將力施加至第一載物台3，其中每一電動線圈對力之貢獻取決於至第一磁場之距離及定向。
圖3亦描繪第二載物台7以表示圖1之定位器件PW中之另一者。相似於第一載物台3，第二載物台在第一方向X及第二方向Y兩者上相對於定子1可移動，且包含用以產生第二磁場之第二磁體系統。
可歸因於電動線圈5與第二磁場之間的相互作用而將力施加至第二載物台7，其中每一電動線圈對力之貢獻取決於至第二磁場之距離及定向。在此實施例中，第一載物台與第二載物台等同，且因此可被互換。
為了控制圖3之多載物台系統，使用圖9之通用且示意性描繪之控制方案。該控制方案描繪第一載物台3、第二載物台7，及來自側面具有電動線圈5之定子1。在第一方向及第二方向上之位置係藉由感測器系統量測，在此實施例中，感測器系統係藉由兩個干涉計IF形成，但感測器系統亦可包含(例如)編碼器，或編碼器與干涉計之組合。兩個干涉計之輸出提供至控制單元或控制器CU。應注意，第一載物台及第二載物台之位置亦可藉由包括多個感測器之感測器系統量測，其中多個感測器之輸出經組合以得到第一載物台及第二載物台相對於定子之位置。此可(例如)為定子相對於框架可移動且第一載物台及第二載物台之位置係相對於框架被量測之狀況。為了判定第一載物台及第二載物台相對於定子之位置，亦必須判定定子相對於框架之位置，且必須將定子相對於框架之位置與第一載物台及第二載物台相對於框架之位置進行組合。
控制單元或控制器經組態以：- 基於感測器系統之輸出而判定在第一方向及第二方向上第一載物台3相對於定子1之位置；- 選擇能夠在第一載物台3之經判定位置中具有與第一載物台3之第一磁體系統之第一磁場之不可忽略相互作用的電動線圈5之第一子集；- 基於感測器系統之輸出而判定在第一方向及第二方向上第二載物台7相對於定子1之位置；- 選擇能夠在第二載物台7之經判定位置中具有與第二載物台7之第二磁體系統之第二磁場之不可忽略相互作用的電動線圈5之第二子集；- 使用驅動信號DS來啟動第一子集之電動線圈及第二子集之電動線圈，以便相對於定子1來定位第一載物台3及第二載物台7，其中在啟動第一子集之電動線圈及第二子集之電動線圈之前，控制單元或控制器CU經進一步組態以判定為第一子集及第二子集兩者之部件之電動線圈，且排除為第一子集及第二子集兩者之部件之至少一電動線圈以免於啟動。
在圖3之實例中，在第一子集與第二子集之間無重疊，使得所有電動線圈皆可藉由控制單元或控制器CU啟動。第一子集之經選擇且經啟動之線圈係藉由粗線指示，且第二子集之經選擇且經啟動之線圈係藉由虛線指示。
在一實施例中，在線圈與各別磁場之間的不可忽略相互作用係藉由所需位置準確度判定及/或藉由所需力之量判定。對於兩種要求，吾人認為，電動線圈與磁場相隔愈遠，則對滿足此等要求之貢獻愈小。
在圖3之實例中，可針對第一載物台及第二載物台之給定位置來啟動所有電動線圈。因此，第一載物台及第二載物台可以所需位置準確度及/或力之量而相對於定子獨立地定位。然而，當兩個載物台彼此接近時(例如，當其必須彼此靠近地執行或其必須在有限空間中通過彼此時)，第一子集之線圈亦可與第二磁場相互作用，且第二子集之線圈亦可與第一磁場相互作用。歸因於此干擾且歸因於線圈可僅經啟動用於定位一個載物台而不用於同時定位兩個載物台之事實，若不改變常規控制方案，則第一載物台及第二載物台不能彼此接近。根據一實施例之多載物台系統之控制單元或控制器能夠藉由如下操作來解決此問題：排除為第一子集及第二子集兩者之部件之至少一線圈，藉此消除對此線圈之另一載物台之干擾，此情形相比於先前技術之多載物台系統中之情形允許第一載物台及第二載物台彼此更緊密地接近。將參看圖4至圖6來給出額外解釋。
圖4描繪在第一載物台3及第二載物台7已使用第一子集及第二子集之所有線圈而彼此儘可能緊密地接近的情形中圖3之多載物台系統。在接下來的步驟中，第一載物台3相對於定子1保持靜止，且第二載物台7朝向第一載物台3移動。在某一時刻，電動線圈之所需第二子集應包括第一子集之電動線圈之最右行，以便定位第二載物台。然而，因為此情形亦將影響第一載物台之位置，所以此等電動線圈被排除以免於啟動，如圖5所示。
在圖6中，甚至更多電動線圈已被排除以免於啟動，以便使兩個載物台彼此觸碰。
在一實施例中，控制器可經組態成使得當兩個載物台彼此相隔某一距離而使得第一子集與第二子集重疊時，僅啟動直接地且完全地在對應磁體系統下方之電動線圈。參看圖10來展示此情形之實例，在圖10中，圖3之兩個載物台通過彼此(在箭頭所指示之方向上)，且在通過期間，藉由控制單元判定之第一子集與第二子集重疊，由此，藉由控制單元僅啟動直接地且完全地在各別載物台下方之線圈。
在控制多載物台系統時，控制單元可經進一步組態以總是確保啟動最少量之電動線圈(例如，九個電動線圈)，以便確保在所有自由度中之完全控制可能性仍可用。
圖7描繪圖6之情形，其中兩個載物台已彼此接觸，但在此實施例中，控制單元經組態以藉由啟動如藉由圖7中之實心線圈指示之第一子集及第二子集之所有電動線圈而將兩個載物台定位為單載物台，其中在第一載物台及第二載物台下方之線圈亦被啟動且再次藉由陰影指示。由此，第一載物台及第二載物台將一起移動。在需要時，控制單元可經進一步組態以將小電流加至線圈，使得產生額外力，額外力推動兩個載物台彼此相抵，藉此確保其保持接觸。此情形可(例如)在微影裝置為如下類型時有益：其中浸潤液體存在於投影系統與藉由第一載物台或第二載物台支撐之基板台之間，且第一載物台及第二載物台兩者在投影系統下方移動，以便將浸潤液體自一基板台轉移至另一基板台，此需要在承載各別基板台之兩個載物台之間的緊密接觸。
為了允許圖7之情形，磁體系統可能需要適應於此情形。在圖8中，自下方展示第一載物台3及第二載物台7，使得各別第一磁體系統及第二磁體系統變得可見。
磁體系統兩者包括具有實質上垂直於定子且經引導朝向定子之磁化方向的第一磁體9，及具有實質上垂直於定子且經引導遠離定子之磁化方向的第二磁體11，第一磁體及第二磁體係根據實質上垂直於第一磁體及第二磁體之列及行之圖案而配置，使得第一磁體及第二磁體交替地配置於每一列及每一行中，且其中兩個載物台可定位以彼此接觸，使得第一載物台之磁體系統之圖案延續於第二載物台之磁體系統中，如圖8所示。
圖8之磁體系統亦具有奇數個列及奇數個行。另外，第一載物台3之磁體系統具有在對角線上之第一磁體，且第二載物台7之磁體系統具有在對角線上之第二磁體。歸因於此情形，載物台可圍繞垂直於第一方向及第二方向之旋轉軸線而旋轉，而不變更磁體系統之圖案(相比於其他磁體系統之圖案)，使得載物台可自每一側面彼此接觸。
此處應特別注意，多載物台系統不受到可藉由控制單元控制之自由度之數目限制，但通常，受到控制之自由度之數目介於3與6之間。在每載物台6個自由度之狀況中，此情形需要最少九個線圈以使完全6自由度控制可用。
對於熟習此項技術者將顯而易見，儘管未提及，但在線圈與磁場之間的相互作用亦可用以在垂直於第一方向及第二方向兩者之第三方向上產生力，使得亦可在該方向上升高及定位載物台。將進一步顯而易見，相同原理可適用於第一載物台及第二載物台僅在第一方向上相對於定子可移動的系統。
儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，例如，以便創製多層IC，使得本文所使用之術語「基板」亦可指代已經含有多個經處理層之基板。
儘管上文可特定地參考在光學微影之內容背景中對本發明之實施例之使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影)中，且在內容背景允許時不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化器件中之構形(topography)界定創製於基板上之圖案。可將圖案化器件之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化器件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。
本文所使用之術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如，具有為或為約365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及極紫外線(EUV)輻射(例如，具有在為5奈米至20奈米之範圍內之波長)，以及粒子束(諸如，離子束或電子束)。
術語「透鏡」在內容背景允許時可指代各種類型之光學組件中任一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學組件。
雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，其含有描述如上文所揭示之方法的機器可讀指令之一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，其具有儲存於其中之此電腦程式。
以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況中對所描述之本發明進行修改。
1‧‧‧定子
3‧‧‧第一載物台
5‧‧‧電動線圈
7‧‧‧第二載物台
9‧‧‧第一磁體
11‧‧‧第二磁體
AD‧‧‧調整器
B‧‧‧輻射光束
BD‧‧‧光束遞送系統
C‧‧‧目標部分
CO‧‧‧聚光器
CU‧‧‧控制單元/控制器
DS‧‧‧驅動信號
FR‧‧‧框架
IF‧‧‧位置感測器/干涉計
IL‧‧‧照明系統/照明器
IN‧‧‧積光器
M1‧‧‧圖案化器件對準標記
M2‧‧‧圖案化器件對準標記
MA‧‧‧圖案化器件
MT‧‧‧光罩支撐結構/圖案化器件支撐件
P1‧‧‧基板對準標記
P2‧‧‧基板對準標記
PM‧‧‧第一定位器件
PS‧‧‧投影系統
PW‧‧‧第二定位器件
SO‧‧‧輻射源
W‧‧‧基板
WT‧‧‧基板台
圖1描繪根據本發明之一實施例的微影裝置；圖2描繪習知單載物台系統；圖3描繪根據本發明之一實施例的多載物台系統；圖4描繪圖3之多載物台系統，其中載物台彼此接近；圖5描繪圖3之多載物台系統，其中線圈被排除以免於啟動以允許載物台彼此接近；圖6描繪圖3之多載物台系統，其中載物台彼此接觸；圖7描繪圖3之多載物台系統，其中在進行接觸之後，兩個載物台經控制為較大單載物台；圖8更詳細地描繪根據本發明之另一實施例的多載物台系統之兩個載物台之磁體系統；圖9描繪根據本發明之一實施例的用以控制多載物台系統之總成；及圖10描繪根據本發明之一實施例的多載物台系統。
1‧‧‧定子
3‧‧‧第一載物台
5‧‧‧電動線圈
7‧‧‧第二載物台

权利要求:
Claims (15)
[1] 一種多載物台系統，其包含：一定子，其實質上平行於一第一方向而延伸；一第一載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；一第二載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；其中該第一載物台及該第二載物台各自具備一磁體系統以產生一磁場，其中該定子具備複數個電動線圈，該等電動線圈經組態以與藉由該第一載物台之該磁體系統及該第二載物台之該磁體系統產生之該等磁場相互作用，以便對該第一載物台及該第二載物台產生力以相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，一感測器，其經組態以判定該第一載物台及該第二載物台相對於該定子之位置；一控制器，其經組態以在該第一方向上相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，其中該控制器經組態以：基於該感測器之一輸出而判定在該第一方向上該第一載物台相對於該定子之該位置；選擇能夠在該第一載物台之該經判定位置中具有與該第一載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第一子集；基於該感測器之一輸出而判定在該第一方向上該第二載物台相對於該定子之該位置；選擇能夠在該第二載物台之該經判定位置中具有與該第二載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第二子集；及啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈，以便相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，其中在啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈之前，該控制器經組態以：判定為該第一子集及該第二子集兩者之部件之該等電動線圈；及排除為該第一子集及該第二子集兩者之部件之至少一電動線圈以免於啟動。
[2] 如請求項1之多載物台系統，其中該定子實質上平行於一第二方向而延伸，其中該第二方向實質上垂直於該第一方向；其中該第一載物台及該第二載物台在該第一方向及該第二方向上相對於該定子可移動；且其中該控制器經進一步組態以：基於該感測器之一輸出而判定在該第二方向上該第一載物台相對於該定子之該位置；及基於該感測器之一輸出而判定在該第二方向上該第二載物台相對於該定子之該位置。
[3] 如請求項1之多載物台系統，其中該第一子集係基於針對該第一載物台待獲得之所需定位準確度予以選擇，且其中該第二子集係基於針對該第二載物台待獲得之所需定位準確度予以選擇。
[4] 如請求項1之多載物台系統，其中直接地且完全地在該各別磁體系統下方之至少該等電動線圈被啟動。
[5] 如請求項1之多載物台系統，其中該第一子集之至少九個線圈及該第二子集之至少九個線圈被啟動。
[6] 如請求項1之多載物台系統，其中該控制器經組態以藉由電動線圈之該排除以免於啟動而允許該第一載物台與該第二載物台彼此接近。
[7] 如請求項6之多載物台系統，其中該控制器經組態以藉由啟動該第一子集及該第二子集之所有電動線圈而在該第一載物台與該第二載物台已彼此接近及接觸時將該第一載物台及該第二載物台控制為一單載物台。
[8] 如請求項7之多載物台系統，其中每一磁體系統包括具有實質上垂直於一載體且經引導朝向該載體之一磁化方向的第一磁體，及具有實質上垂直於該載體且經引導遠離該載體之一磁化方向的第二磁體，該等第一磁體及該等第二磁體係根據實質上垂直於該等第一磁體及該等第二磁體之列及行之一圖案而配置，使得該等第一磁體及該等第二磁體交替地配置於每一列及每一行中，且其中該兩個載物台可定位成使得當該第一載物台與該第二載物台彼此接觸時，該第一載物台之該磁體系統之該圖案延續於該第二載物台之該磁體系統中。
[9] 如請求項8之多載物台系統，其中每一磁體系統具有奇數個列及奇數個行，且其中該第一載物台之該磁體系統具有配置於對角線上之第一磁體，且該第二載物台之該磁體系統具有配置於對角線上之第二磁體。
[10] 如請求項7之多載物台系統，其中該控制器經組態以啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈，使得產生一力，從而使該兩個載物台保持在一起且彼此接觸，只要需要此情形即可。
[11] 一種微影裝置，其包含一如請求項1之多載物台系統。
[12] 一種微影裝置，其包含一如請求項2之多載物台系統，且進一步包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一第一基板台及一第二基板台，其各自經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該第一基板台提供於該第一載物台上且該第二基板台提供於該第二載物台上，使得該第一基板台及該第二基板台可藉由該第一載物台及該第二載物台之適當定位而定位。
[13] 一種用於控制一多載物台系統之方法，該多載物台系統包含：一定子，其實質上平行於一第一方向而延伸；一第一載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；一第二載物台，其在該第一方向上相對於該定子可移動；其中該第一載物台及該第二載物台各自具備一磁體系統以產生一磁場，且其中該定子具備複數個電動線圈，該等電動線圈經組態以與藉由該第一載物台之該磁體系統及該第二載物台之該磁體系統產生之該等磁場相互作用，以便對該第一載物台及該第二載物台產生力以在該第一方向上相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，該方法包含：判定在該第一方向上該第一載物台相對於該定子之位置；選擇能夠在該第一載物台之該經判定位置中具有與該第一載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第一子集；判定在該第一方向上該第二載物台相對於該定子之位置；選擇能夠在該第二載物台之該經判定位置中具有與該第二載物台之該磁體系統之該磁場之一不可忽略相互作用的電動線圈之一第二子集；及啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈，以便相對於該定子來定位該第一載物台及該第二載物台，其中啟動該第一子集之該等電動線圈及該第二子集之該等電動線圈包含：判定為該第一子集及該第二子集兩者之部件之該等電動線圈；及排除為該第一子集及該第二子集兩者之部件之至少一電動線圈以免於啟動。
[14] 如請求項13之方法，其中該多載物台系統之該定子實質上平行於一第二方向而延伸，該第二方向實質上垂直於該第一方向，其中該第一載物台及該第二載物台在該第一方向及該第二方向上相對於該定子可移動；且其中該方法進一步包含：判定在該第二方向上該第一載物台相對於該定子之該位置；判定在該第二方向上該第二載物台相對於該定子之該位置。
[15] 如請求項13之方法，其中啟動該等電動線圈以使該兩個載物台彼此接近，直至該第一載物台與該第二載物台彼此接觸為止，且其中在進行接觸之後，藉由啟動該第一子集及該第二子集之所有電動線圈而將該第一載物台及該第二載物台控制為一個單載物台。

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