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    • 专利摘要:
    一種包含複數微影蝕刻元件的群聚式基板處理系統，每一微影蝕刻元件均被配置成用於依據圖案資料進行基板的獨立曝光。每一微影蝕刻元件均包含複數微影蝕刻次系統、一控制網路以及一資料網路，該控制網路被配置成用於該複數微影蝕刻次系統與至少一元件控制單元之間進行控制資訊的通信，該元件控制單元被配置成傳送指令至該複數微影蝕刻次系統且該複數微影蝕刻次系統被配置成傳送回應至該元件控制單元，該資料網路被配置成用於進行從該複數微影蝕刻次系統到至少一資料網路集線器之資料記錄資訊的通信，該複數微影蝕刻次系統被配置成將資料記錄資訊傳送至該資料網路集線器而該資料網路集線器被配置成用於接收並儲存資料記錄資訊。該系統另包含一群聚前端以做為通往一操作者或主控系統之介面，該群聚前端被配置成用於傳送控制資訊至該至少一機器控制單元以控制該等微影蝕刻次系統對於一或多個晶圓之曝光的運作，且該群聚前端進一步被配置成用於接收該資料網路集線器所接收之資料記錄資訊的至少一部分。
    公开号:TW201303521A
    申请号:TW101114468
    申请日:2012-04-23
    公开日:2013-01-16
    发明作者:Erwin Slot；Kervinck Marcel Nicolaas Jacobus Van；Vincent Sylvester Kuiper
    申请人:Mapper Lithography Ip Bv；
    IPC主号:G06F9-00
    专利说明:
    用於微影蝕刻機器群聚的網路架構
    本發明係有關於一種包含複數微影蝕刻元件的群聚式基板處理系統，該等元件各自被配置成用於依據圖案資料的基板獨立曝光，特別是關於用於此種群聚式基板處理系統的網路架構。
    在半導體工業中產製具備高精確度及高可靠度之結構的需求始終不減。在微影蝕刻系統中，此種需求導致有關晶圓生產之數量和速度上的極高要求。實現此目標的方法之一將受控於網路架構的複數個微影蝕刻元件聚集成群。該網路架構本身從而能藉由一自動化主機或一使用者來控制。其存在將控制及資料服務結合成單一網路並採用高級服務技術以優先化特定資料之傳送而提供關鍵控制資料及時送達之網路架構，但已被證明在此環境中仍有不足處。
    本發明針對用於一微影蝕刻元件群聚之網路架構提供一可供選替的解決方案。
    其有必要將複數微影機器聚集成群，其中控制及資料服務均納入於此群聚網路架構中。在一特色中，本發明提出一種包含複數微影蝕刻元件的群聚式基板處理系統，每一微影蝕刻元件均被配置成用於依據圖案資料之基板獨立曝光。每一微影蝕刻元件均包含複數微影蝕刻次系統、一控制網路以及一資料網路，該控制網路被配置成用於該複數微影蝕刻次系統與至少一元件控制單元之間的控制資訊通信，該元件控制單元被配置成傳送指令至該複數微影蝕刻次系統且該複數微影蝕刻次系統被配置成傳送回應至該元件控制單元，該資料網路被配置成用於從該複數微影蝕刻次系統到至少一資料網路集線器的資料記錄資訊通信，該複數微影蝕刻次系統被配置成將資料記錄資訊傳送至該資料網路集線器而該資料網路集線器被配置成用於接收並儲存資料記錄資訊。該系統另包含一群聚前端以做為通往一操作者或主控系統之介面，該群聚前端被配置成用於傳送控制資訊至該至少一元件控制單元以控制該等微影蝕刻次系統對於一或多個晶圓曝光之運作，且該群聚前端進一步被配置成用於接收該資料網路集線器所接收之資料記錄資訊的至少一部分。
    該網路架構將控制及資料功能分成不同的網路。控制功能需要雙向的資料流動，且需要透過控制網路的可預測資訊傳輸。資料收集及管理功能一般而言需要單向流動，在資料網路中從微影蝕刻次系統向上通往資料網路集線器以及向前通往群聚介面，並可以牽涉到極為大量的資料。將此等控制及資料服務結合成單一網路並採用高級服務技術以優先化特定資料之傳送而提供關鍵控制資料及時送達之解決方案已被證明在此環境中有所不足。本發明根據以下所述的一些設計特色提出一種可供選替的解決方案。
    控制網路在元件控制單元與微影蝕刻次系統之間形成一控制網路路徑，而資料網路在資料網路集線器與微影蝕刻次系統之間形成一資料網路路徑，且該控制網路路徑和該資料網路路徑可以包含實體上不同的媒介。控制網路可以具有其自身的接線及開關，用以在控制網路之中傳送資料，其並未使用於資料網路之中。情況類似地，資料網路可以具有其自身的接線及開關，用以在資料網路之中傳送資料，其並未使用於控制網路之中。二網路之間的此種組件分隔防止或降低該二網路之間的干擾，使得一個網路之中的高負載或擁塞不會影響另一網路。
    每一微影蝕刻次系統均可以具有一通往控制網路之第一連接，該第一連接被配置成透過控制網路自元件控制單元接收指令並傳送回應至元件控制單元，且每一微影蝕刻次系統同時亦可以具有一通往資料網路的不同第二連接，該第二連接被調構成透過資料網路傳送資料記錄資訊至資料網路集線器。每一次系統通往控制及資料網路的不同連接均可被用以降低同時自控制網路傳送及/或接收資料與自資料網路傳送及/或接收資料之間的干擾。
    該元件控制單元亦可以被配置成用於透過控制網路傳送至微影蝕刻次系統之指令以及接收自一微影蝕刻次系統之回應的相關資料通往資料網路集線器之通信。此連接使得資料網路集線器能夠儲存次系統指令及回應資訊以及來自次系統的資料記錄數據。此使得二種類型的資料能夠被儲存於一資料儲存系統之中，且不需要資料網路集線器在控制網路上進行通信。
    在其中一個微影蝕刻元件的運作期間，微影蝕刻元件中的微影蝕刻次系統可以被配置成透過資料網路連續地傳送資料記錄資訊至資料網路集線器。該等次系統可以被配置成在運作時傳送資料記錄資訊，不需要來自資料網路集線器的命令起始。資料記錄資訊可以包含識別傳送該資料記錄資訊的次系統之資料以及自次系統感測器取得之測定資料與指出該測定的時間之時間戳記資料。
    該系統可以另包含一資料路徑，被配置成用於通往一或多個微影蝕刻次系統的圖案資料傳輸，該資料路徑形成一條不同於控制網路及資料網路的傳輸路徑。該資料路徑可以包含一圖案處理系統以及一圖案串流系統。圖案資料被微影蝕刻元件使用於小射束之控制及調變以曝光每一片基板。圖案資料可以自該資料路徑供應至一小射束切換或調變次系統，以在一基板的曝光期間致能小射束的切換或調變。圖案資料可以在未於控制網路或資料網路上傳送之下，被傳送至小射束切換或調變次系統。此等圖案資料通常包含用於預定被曝光之基板上每一區域的非常大量的資料，且提供一條不同於控制及資料網路的資料路徑，以避免因為該等資料之傳輸所造成的網路擁塞。
    資料網路集線器可儲存初始化微影蝕刻次系統所需的資訊，此用於一微影蝕刻次系統之初始化資訊在微影蝕刻次系統的起始期間被傳送至微影蝕刻次系統。該初始化資訊可包含針對該等次系統中之處理器之基本作業系統軟體、該等次系統所使用的預設或特定設定及參數、及/或在次系統處理器上運行以使該等次系統執行其功能的應用軟體。資料網路集線器可做為該等次系統的啟動節點。資料網路集線器亦可以儲存指出哪些初始化資訊預定被傳送至哪個次系統的初始化資訊，以使得其能夠針對不同的次系統儲存不同資訊。經由資料網路集線器的初始化資訊儲存提供一個有效率的方式以對多個次系統的資訊提供單一貯藏處，且能夠被用來避免要求每一個次系統均納入一巨大的非揮發性記憶體以儲存該次系統的初始化資訊。針對初始化資訊的軟體更新、升級、及/或修正可以被下載至資料網路集線器並儲存於該處以供後續下載至次系統。此設計致能初始化資訊的有效率修改而不致在運作期間打擾到次系統且此等修改期間不需在控制或資料網路上進行傳輸。
    微影蝕刻次系統中至少一者可被配置成在微影蝕刻次系統起始之時傳送資訊至元件控制單元，該資訊指示出控制網路上一微影蝕刻次系統之存在以及微影蝕刻次系統之一識別身分，並指出微影蝕刻次系統能夠執行的一或多個指令。元件控制單元可以被组構成在次系統本身提供相關資訊之前不具有關於連接至控制網路的次系統之識別身分以及每一次系統能夠執行的指令之資訊。此種設計使其更易於藉由修改或升級連接至控制網路的個別次系統而對其中一個微影蝕刻元件進行修改或升級，且不需要修改或升級元件控制單元。舉例而言，其可以升級一個次系統的軟體以使得該次系統能夠執行一個新的或經過修改的指令，且可以寫下一個需要該新的或經過修改的指令被該次系統執行之新的製程程式。次系統起始之後，其將回報至元件控制單元，表示其能夠執行該新的或經過修改的指令，且元件控制集線器其後可以針對該製程程式排定一個製程作業以在該次系統之上執行該新的或經過修改之指令。
    控制網路可被配置成用於元件控制單元與微影蝕刻次系統之間的服務資訊之通信，且該群聚前端可被調構成配發用以在一或多個微影蝕刻元件上執行服務功能的服務資訊。以此種方式，其可以從用於控制功能的同一介面執行服務動作，且服務資訊之傳輸不需要另外的網路設施。
    該系統可以被配置成提供二時脈信號給微影蝕刻次系統，其中一時脈信號具有一高於另一時脈頻率至少100倍的時脈頻率，且其中該微影蝕刻次系統被配置成使用該等時脈信號同步其動作。該二時脈信號提供不同時序精確度之同步時脈予次系統。例如，一時脈信號之精確度可以是毫秒，而另一時脈信號之精確度則是奈秒。
    微影蝕刻次系統可以未被提供任何通往操作員或主控系統之介面，而是僅透過該群聚前端提供此等介面給次系統。操作員或主控系統僅需要單一介面連接至群聚前端。其不需要一個連接至多個不同次系統的介面，以簡化設計並使得其能夠在不需要修改連接操作員或主控系統的介面下進行次系統之修改。一使用者可藉由製造一通往前端之介面而設計出其自身的通往群聚式基板處理系統之介面，無需詳盡知悉控制網路和資料網路的內部架構及協定。
    在另一特色之中，本發明包含一種用於在一包含複數微影蝕刻元件之群聚式基板處理系統內之資料通信的方法，每一微影蝕刻元件均被配置成用於依據圖案資料之基板獨立曝光，且每一微影蝕刻元件均包含一控制網路，連接一元件控制單元與複數微影蝕刻次系統、一資料網路，連接一資料網路集線器與該該複數微影蝕刻次系統、以及一群聚前端。該方法包含透過該控制網路自該元件控制單元傳送控制資訊至該複數微影蝕刻次系統中的一或多者、透過該控制網路自該複數微影蝕刻次系統傳送回應至該元件控制單元、自該複數微影蝕刻次系統傳送資料記錄資訊至該資料網路集線器、接收並儲存該資料記錄資訊於該資料網路集線器之中、自該群聚前端傳送控制資訊至該機器控制單元以控制該複數微影蝕刻次系統對於一或多個基板之曝光動作、以及傳送該資料網路集線器所儲存之資料記錄資訊的至少一部分至該群聚前端。
    傳送至微影蝕刻次系統之控制資訊以及來自微影蝕刻次系統之回應可以是僅透過該控制網路傳送至該元件控制單元，且來自微影蝕刻次系統之資料記錄資訊可以是僅透過該資料網路傳送至該資料網路集線器。該方法可以另包含將有關於傳送至微影蝕刻次系統之指令與接收自一微影蝕刻次系統之回應的資料，自該元件控制單元傳送至該資料網路集線器。自一微影蝕刻次系統傳送該資料記錄資訊至該資料網路集線器可以是在一指令被微影蝕刻次系統執行期間被連續地執行。
    該方法可另包含透過一資料路徑傳送圖案資料至一或多個微影蝕刻次系統，該資料路徑形成一條不同於該控制網路及該資料網路的傳輸路徑。該方法同時亦可以包含將初始化微影蝕刻次系統所需要的資訊儲存於該資料網路集線器之中，並在微影蝕刻次系統的起始期間傳送該初始化資訊至一微影蝕刻次系統。該方法同時亦可以包含在微影蝕刻次系統起始之時自其中一微影蝕刻次系統傳送資訊至元件控制單元，該資訊指示出控制網路上一微影蝕刻次系統之存在以及微影蝕刻次系統之一識別身分，並指出微影蝕刻次系統能夠執行的一或多個指令。
    以下說明本發明之特定實施例，其參照圖式進行，且僅係示範性質。
    圖1係依據本發明之具備控制及資料介面之微影蝕刻系統1之一實施例之一示意圖。該示意圖顯示一具有三個介面之階層式配置，一群聚介面3、群聚元件介面5、以及微影蝕刻次系統介面7。圖1例示之組態具有一包含一微影蝕刻元件10之微影蝕刻系統群聚，其中包含多個微影蝕刻次系統16。該微影蝕刻系統可以包含多個微影蝕刻元件10，舉例而言，如圖2實施例之中所示。
    群聚介面3包含用於一微影蝕刻群聚前端6與一或多個主控系統2之間及/或群聚前端6與一或多個操作者操控台4之間的通信之介面。
    群聚元件介面5包含用於群聚前端6與一微影蝕刻元件網路之間通信之介面，該微影蝕刻元件網路一元件控制單元12及/或一資料網路集線器14。元件控制單元12可透過連結106通連一資料網路集線器14，其中該通連較佳係從元件控制單元12單向通往資料網路集線器14。
    微影蝕刻次系統介面7包含元件控制單元12與微影蝕刻次系統16之間以及資料網路集線器14與微影蝕刻次系統16之間的介面。次系統16透過控制網路120通連元件控制單元12，且次系統16透過資料網路140通連資料網路集線器14。
    圖2係一微影蝕刻系統1之一實施例之示意圖，其中之微影蝕刻系統群聚包含多個微影蝕刻元件10，每一元件均包含多個微影蝕刻次系統16。每一元件均可以包含一元件控制單元12及資料網路集線器14，通連該元件之微影蝕刻次系統16。每一元件均可以做為一獨立之微影蝕刻元件，能夠獨立地運作以利用一微影蝕刻製程曝光晶圓。在此實施例之中，該多個微影蝕刻元件10各自均通連單一前端6，而前端6通連對整個群具均有作用的一或多個主控系統2及/或操作者介面4。
    圖1和圖2中的實施例較佳係設計成輔助一微影蝕刻元件群聚之有效率控制。每一微影蝕刻元件10較佳係僅具有網路介面，通往控制網路120及資料網路140。此設計規則之一例外係資料路徑20直接將圖案串流器19連接至負責調變或切換帶電微粒射束的次系統。圖案資料最初在圖案資料處理系統18之中準備，並被傳送至圖案串流器19以進行資料轉換並串流至次系統。此設計著眼於傳送至相關次系統的極其大量的圖案資料。圖案資料通常係以位元映像(bit-map)格式被串流至相關次系統，因為對於位於次系統處的本地端儲存而言，資料之數量過於龐大。
    操作者介面以及通往更高層級主機管控及自動化電腦的介面並非由個別的微影蝕刻元件構成，而是位於群聚前端6處。此使得該等介面之開發能夠在不需要微影蝕刻元件10之介面協定之知識下且未增加額外要求或干涉在控制網路120及資料網路140上的通信下針對群聚進行。
    圖3顯示一微影蝕刻系統群聚100之一簡化上視圖。在此實施例之中，該群聚包含一個由十個微影蝕刻元件10所構成之群組，配置成並列的二個包含五個元件之橫列。直接毗鄰群聚100，底層空間被保留成服務區域23。每一微影蝕刻元件均包含一電子光學腔體，包含於其自身的真空處理室中，其中每一真空處理室之一邊均面對一基板投送系統22以及服務區域23。基板投送系統22自一基板供應系統24接收基板且將其提供給微影蝕刻元件10以進行處理，並自微影蝕刻元件10接收經過處理之基板且將其提供給基板供應系統24以轉移至晶圓廠中的其他系統。
    在帶電微粒微影蝕刻設備的情況下，真空處理室較佳係密封住用於產生多個帶電微粒小射束之帶電微粒源及組件、一切換或調變該等小射束之射束調變系統、一用於投射該等小射束至一預定被圖案化之基板上投射器系統、以及一可移動基板平台。真空處理室較佳係包含一加載互鎖系統以自基板投送系統22將基板轉入及轉出真空處理室，且亦包含一面朝服務區域23之進出艙門，其可被開啟以進行對電子光學腔體之服務。
    每一微影蝕刻元件10均獨立運作以接收及處理晶圓。每一微影蝕刻元件均包含其自身之電腦處理系統，用以處理資料及操控微影蝕刻元件之組件和次系統。每一微影蝕刻次系統16較佳係具有其自身之電腦處理器和記憶體系統，以執行導控次系統運作之指令、收集次系統運作所產生之資料、並通連控制及資料網路。控制元件單元12和資料網路集線器14較佳係各自包含其本身之電腦處理器和記憶體系統以執行其功能。一微影蝕刻元件10的控制元件單元12、資料網路集線器14和次系統16中的電腦處理器及記憶體系統可設置於極為靠近微影蝕刻元件的真空處理室處，例如設置於固定在真空處理室上方的機櫃中、設置於真空處理室下方的基座中、或是設置於各個位置的局部。
    群聚之微影蝕刻元件之並列式佈局使一系統具備有限佔用面積，而直接置放於真空處理室上方或下方之電腦處理器及記憶體系統亦降低佔用面積。晶圓廠內之樓層空間極為珍貴，因此有效率使用晶圓廠之樓層空間係相當重要。
    圖4顯示一帶電微粒微影蝕刻元件之電子光學腔體之一簡化示意圖。舉例而言，此種微影蝕刻系統描述於編號6,897,458、6,958,804、7,019,908、7,084,414、以及7,129,502的美國專利案之中、編號2007/0064213的美國專利公開案之中、以及編號61/031,573、61/031,594、61/045,243、61/055,839、61/058,596、以及61/101,682的共同待審美國專利申請案之中，其均受讓予本發明之擁有者，故均以其整體參照之形式納入本說明書。
    在圖4所示的實施例之中，該微影蝕刻元件腔體包含一產生擴張電子射束130之電子源110，其藉由準直儀透鏡系統113被進行準直化。被準直化之電子射束照射至一孔隙陣列114a之上，其阻擋部分射束以產生複數子射束134，該等子射束通過一聚焦子射束之聚光器透鏡陣列116。該等子射束照射至一第二孔隙陣列114b之上，其自每一子射束134產生複數小射束133。此系統產生數量極為龐大之小射束133，較佳係大約10,000至1,000,000個小射束。
    一小射束消隱器陣列117，包含複數消隱電極，將所選擇之一些小射束加以偏轉。未被偏轉的小射束抵達射束光欄陣列118並通過一對應孔隙，而被偏轉之小射束錯過對應孔隙而被射束光欄陣列擋住。因此，小射束消隱器陣列117以及射束光欄陣列118共同運作以開關個別的小射束。未被偏轉的小射束通過射束光欄陣列118，並穿過一射束偏轉器陣列119，其偏轉該等小射束以將小射束掃描過標靶或基板121之表面。其後，小射束通過投射透鏡陣列120並被投射至基板121之上，該基板被設置於一用於攜載該基板的可移動平台之上。對於微影蝕刻應用，基板通常包含一個具備帶電微粒感應層或光阻層的晶圓。
    該微影蝕刻元件腔體運作於一真空環境中。其需要真空狀態以移除微粒，該等微粒可能被帶電微粒射束離子化而被吸引至源頭、可能游離並沉積至機器組件上、並且可能分散帶電微粒射束。通常其需要至少10-6巴(bar)之真空狀態。為了維持真空環境，帶電微粒微影蝕刻系統被設置於一真空處理室之中。微影蝕刻元件中的所有主要元件較佳係容納於一共同真空處理室中，包含帶電微粒源、用以投射小射束於基板上的投射器系統、以及可移動平台。 次系統
    在圖1及圖2的實施例之中，每一微影蝕刻元件10均形成一用以曝光晶圓之獨立運作微影蝕刻元件。每一微影蝕刻元件10均包含多個次系統16，用以執行元件所需之功能。每一個次系統均執行一特定之功能。典型的次系統16包含，舉例而言，一晶圓載入次系統(WLS)、一晶圓定位次系統(WPS)、一用以產生電子小射束之照射光學模組次系統(ILO)、一用以將射束切換資料串流至微影蝕刻元件之圖案串流次系統(PSS)、一用以將電子小射束切換成開或關的射束切換次系統(BSS)、一用以將小射束投射至晶圓上的投射光學模組次系統(POS)、一射束測定次系統(BMS)、一度量次系統(MES)等等。每一微影蝕刻元件10較佳係被組構成用以接收晶圓、將每一晶圓箝夾至一夾盤(chuck)並備妥被箝夾之晶圓以供曝光、曝光被箝夾之晶圓、及自夾盤鬆釋已曝光之晶圓並提交該已曝光之晶圓以將其自元件移除。
    每一個次系統16均可包含一或多個模組17，專責特定之子功能，且較佳係設計成可置換之組件。模組17可以包含致動器19以及感測器21，致動器19能夠執行一指令，而感測器21能夠偵測一指令執行期間、執行之前及/或執行之後的動作及結果。
    每一個次系統16均獨立運作且包含一用以儲存指令之記憶體及一用以執行指令之電腦處理器。該記憶體和處理器可在每一個次系統中被實施成一外掛用戶(PIC)15之形式。次系統之適當實施方式可包含例如一執行Linux作業系統的個人電腦。該等次系統可包含一硬碟或非揮發性記憶體以儲存其作業系統，使得每一次系統均自該硬碟或記憶體啟動。以上所述之特徵以及以下所述之其他特徵促成一種其中每一個次系統均係一自主單元之設計，其可以是以一獨立單元之形式被設計、建構及測試，無須考慮其他次系統所強加之限制。舉例而言，每一個次系統均可以被設計成具有充分的記憶體及處理容量以在其運作期間正確地執行該次系統之功能，無須考慮其他次系統對於記憶體及處理容量之要求。此在系統的開發和升級期間特別有利，因為此時該等需求仍不斷變化。此設計之缺點在於所需要的總記憶體及處理容量增加，及過多的該等組件必須實施於每一個次系統中。然而，相較於促使開發更快速以及升級更簡單的設計簡化，該等缺點顯得瑕不掩瑜。
    次系統16被設計成透過控制網路120接收指令並以獨立於其他次系統的方式執行指令，且根據要求回報指令執行結果和傳出產生的任何執行資料。
    次系統16可被設計成自主單元，但被設計成自一中央磁碟或記憶體啟動，例如位於資料網路集線器之上者。此降低每一個次系統之中個別硬碟或非揮發性記憶體的可靠度問題及成本，並藉由更新次系統在中央位置的啟動映像而容許次系統更簡易的軟體升級。 通訊協定
    次系統16透過一控制網路連接至一元件控制單元12，其亦被稱為一支援次系統控制或SUSC。元件控制單元12包含記憶體以及一電腦處理器以針對微影蝕刻元件10控制其次系統之運作。
    介於群聚前端6與SUSC 12之間的通信102被設計成用以進行PP至SUSC 12之傳輸。其可使用一種基於Java描述物件表示法(JSON)之協定。JSON係一文字式的開放性標準，針對人類可讀資料之交換而設計，用以表示簡單的資料結構和陣列，且適合於在一網路連接上串列及傳送結構性資料。協定使用的較佳實施方式係限定於群聚處之使用者，而非限定於潔淨室環境外部的使用者。該協定較佳係提供一指令用於PJ之建立，傳輸PP檔案和任何相關參數，以指示SUSC根據該PP產生一PJ。其他更多指令可包含Abort以及Cancel指令。從SUSC 12通往群聚前端6之通信可以包含應答訊息、進度回報、及錯誤和警示訊息。
    控制網路120上介於SUSC 12與微影蝕刻次系統16之間的通信101較佳係僅使用元件控制單元協定加以嚴格控制，以確保網路上的準即時(quasi real-time)效能。
    介於SUSD 14與群聚前端6之間的通信105係設計用於PJ結果之擷取、作業追蹤以及SUSD 14的資料記錄。對於此種通信連結，其可以使用超文字傳輸協定(HTTP)。
    介於微影蝕刻次系統16與SUSD 14之間的通信103係設計用於次系統16的資料單向收集。其可以使用各種協定傳送該資料，諸如syslog、HDF5、UDP及其他協定。
    其可以使用使用者數據電報協定(UDP)傳送大量資料，以在免於交握、錯誤檢查及修正的巨大經常性負擔下傳送資料。由於其產生極低的經常性傳輸負擔，使得資料能夠被視為被即時地接收。
    階層式資料格式HDF5可被用於高頻率資料的傳輸及儲存。HDF5極為適合儲存和組織大量的數值資料，但通常不使用於一UDP環境。其亦可以採用其他資料格式，諸如CSV或TCP，特別是對於低層級(小量)資料。 製程程式
    微影蝕刻元件10之運作係使用一製程程式(PP)11加以控制，其包含一連串待執行的動作。元件控制單元12被載入一PP，並經由一主控系統2或一操作者透過一操控台4之要求而排定及執行PP 11。PP 11可以採取一收訊(recipe)之形式，並被架構成SEMI E40標準中所定義之形式。
    PP係一组預先設定且可重覆使用部分的指令、設定及參數，其決定晶圓之處理環境且可以在執行或處理周期之間受到變更。其可以藉由微影蝕刻工具設計器設計PP，或藉由工具產生。
    其可以透過使用者將PP上傳至微影蝕刻系統。其使用PP產生製程作業(PJ)。製程作業(PJ)指定預定藉由微影蝕刻元件10套用至一晶圓或一组晶圓之處理。PJ定義處理一组特定晶圓之時使用哪個PP，且可以包含來自PP(以及選擇性地來自使用者)之參數。PJ係由一使用者或主控系統起始之一系統活動。
    其不僅可以使用PP控制晶圓之處理，亦可用於服務動作、校準功能、微影蝕刻元件測試、修改元件設定、更新及升級軟體等。較佳是次系統僅執行預先指定於PP之中的動作，除了某些被允許的額外項目之外，諸如模組或次系統電力之啟動期間的自動初始化、次系統的週期性及無條件動作(只要是不影響PJ執行)、以及對一非預期關機、突發事件或EMO觸動之回應。
    一個PP被分成多個步驟。多數步驟包含一指令並指定一個預定執行該指令的次系統。步驟亦可以包含執行該指令時預定使用的參數，以及參數限制。PP亦可以包含排程參數，以指出預定何時執行一步驟。
    針對PJ之一指令步驟之執行，元件控制單元12將指定於PJ中之指令傳送至PJ相關步驟中所指定的次系統。元件控制單元12監測時序並自次系統接收結果。特定指令之執行實例被例示於圖6-13之中，並說明如下。 外掛指令概念
    元件控制單元(SUSC)12將一PP(其代表一邏輯計畫)轉換成次系統動作之排程。系統可以被設計成使得SUSC 12不具有已安裝哪個次系統16、存在哪些次系統指令以及其性質為何之先驗知識。在此情況下，此等資訊係在起始期間由次系統16在執行時刻提供給SUSC 12。
    每一個次系統16均可以被設計成在次系統開機及初始化之時將其存在及性能回報至SUSC 12。次系統建立控制網路120上之通信並將其識別身分及狀態回報給SUSC 12，且亦可以回報其性能，諸如其能夠執行哪些指令。SUSC 12可以在一PP 11執行之前或執行期間進行一檢查，檢查該PP所需要的每一個次系統均已回報其存在及一就緒狀態，且亦可以檢查每一個次系統均已回報其性能以執行該PP中的次系統所需要的指令。
    此種次系統的自行回報使得微影蝕刻系統僅使用升級至次系統的區域性軟體，或甚至在全無軟體升級的情況下，即能夠擴充或升級新的功能。舉例而言，一特定次系統16可以升級其軟體，使得其能夠執行一新指令。SUSC 12即可以載入一個新的PP 11，其包含已升級次系統之新指令。當已升級之次系統16開機之時，其與元件控制單元12通信，指出其識別身分和狀態，以及其能夠執行哪些指令，包含該新指令。SUSC 12對PP進行排程，以產生一個包含指示該次系統執行該新指令之步驟的PJ。SUSC 12可以執行一檢查，確認已升級之次系統有回報其能夠執行該新指令。此升級因此僅需要相關次系統及PP之升級，但不需要SUSC 12或者任一個其他次系統16之升級。 控制網路
    控制網路120較佳係不使用一即時通訊協定，而是被設計成提供準即時性能，提供次系統與SUSC 12之間具有高可重複性的通信，例如一個大致在1毫秒內的可重複性。
    此種在控制網路120上的準即時效能可以藉由實施以下的全部或其中的若干措施而達成。
    (a)微影蝕刻系統排定每一個PP在PJ開始執行之前產生一PJ，決定開始該PJ每一步驟的時間(以及亦可以包含完成每一步驟的時間)。針對每一步驟和整個PJ所排定的開始時間(和完成時間)可以在該PJ被起始之前完全決定，且該等時間可以回報給群聚前端。
    (b)其可以將PP(以及PJ)設計成不具有條件式步驟或動作，且無再試之動作。PP/PJ之步驟描述一連串動作，雖然一微影蝕刻元件內的動作可以平行執行，例如在不同的次系統上平行執行之指令。其可以藉由定義二(或多)個可供選替之待執行步驟而將一條件式步驟或動作編程於一PP之中，其中該等可供選替之步驟被安排成平行路徑。該等可供選替之步驟在PJ之中被排定成平行路徑，各自均被指派相同的執行時間，使得PJ的執行時間整體而言並不隨著選擇哪一條選替路徑在次系統之上執行而改變。
    PJ之步驟之執行時間並不取決於一先前步驟或平行步驟之結果，而是依據預定之排程執行。若一步驟並未正確完成或者未能在排定的時間之內完成，則將不會被再次執行(亦即無再試之動作)，而是下一個排定的步驟將被執行。
    (c)排定之後，每一步驟均將由SUSC 12在其預定的排定時間點執行，較佳係在大約1毫秒的時序精確度之內。在排定時間處，SUSC 12將執行相關步驟並傳送該步驟之任何指令給相關次系統16以供該次系統執行。SUSC 12中的排定時序不依賴來自次系統16關於前一步驟指令執行成功完成或甚至失敗的回饋。只要一步驟界定一執行時間長度，SUSC 12等待該時間長度耗盡才進入PJ的下一步驟。若次系統在該時間長度逾時前傳回一指令執行之結果，則SUSC 12仍舊等待該時間長度逾時才進入PJ的下一步驟。若次系統未能回傳一錯誤訊息，則SUSC 12還是等待該時間長度逾時，之後將進入下一步驟。若次系統無法正確執行一指令，則操作者或主控系統將決定需要何種糾正動作。
    步驟執行之任何時序變異均在排程之中列入考慮，使得排定的步驟執行時間大於最大的預期執行時間。時間排程通常是界定於PP之中。排程時刻可以是"剛好及時"在執行開始之前，或者執行之前的某一時點，例如，當步驟被加入一執行佇列時。
    (d)次系統16所傳送及執行的指令針對指令之執行具體指定一個固定的最大時間。若此時間超過，則操作者或主控系統將決定需要何種糾正動作。
    (e)當執行一PJ步驟且此PJ步驟具有讓次系統執行的指令以及關聯傳送至相關次系統之指令的資料之時，其可以在指令本身被傳送至次系統之前傳送該資料至次系統。該資料被以一或多個訊息之形式傳送，使得任一個訊息均在長度上受限。資料之傳送充分地提前，以確保其已然先被次系統接收，換言之，介於傳送資料與傳送指令之間的時間遠遠大於預期的傳輸時間，且次系統可以應答以確認資料之接收。此使得包含資料的較大訊息可以在時間不緊迫時提前傳送，而僅包含指令之一遠遠較小之訊息(不含相關資料)可以在排定的時間傳送。此措施分散網路上的負載並避免傳送指令時發生擁塞，以降低傳輸時間並增加指令的及時和可靠傳輸。
    (f)類似地，當一個次系統完成指令的執行時，其可傳送一個短訊給SUSC 12，指出指令已然完成，但保留該指令執行所產生的任何資料，以待SUSC 12在稍後擷取。當SUSC 12接收指令完成的指示時，其可接著傳送一請求給次系統以擷取產生的資料。此分散網路上的負載並避免傳送指令完成指示時發生擁塞，以降低傳輸時間並增加及時且可靠的傳輸，並可以在之後時間不緊迫時進行資料之擷取。
    (g)次系統16與SUSC 12之間的訊息交換包含回覆訊息以確認自SUSC 12收到指令。該回覆訊息除了次系統16已自SUSC 12收到相關訊息且仍正常運作中的確認之外，並未攜載其他資訊。此使得SUSC 12能夠偵測到次系統16已無法如期回應，而可及時地回報給群聚前端。為使軟體的實施方式維持簡單，次系統16並無時限之設計。對於回覆訊息的預期總反應時間基本上不長，例如來回小於0.5毫秒。為偵測無法回應的次系統16，SUSC 12具有一時限之設計，其遠超過預期的回應時間，例如預期接收到一個回應30秒鐘後。此時限大到足以毫無疑問地斷定次系統16已不能正常運作，但小到足以在一操作者4通常會如此處理之前偵測到一失效，故操作者4不必懷疑發生了甚麼事。
    (h)控制網路120被設計成具有之頻寬遠大於次系統16所使用之傳輸率。舉例而言，控制網路120可以具有每秒1 Gbit之頻寬，而次系統被設計成以每秒100 Mbit的速率傳輸。此增加在網路上的傳輸時間之可預測性。
    (i)控制網路使用一簡單的傳輸協定，例如TCP連結上的位元組協定。避免使用複雜或者包含不可預測元素之傳輸協定。
    一TCP連接係由二個位元組資料流構成，每一方向一個。此協定將該二個資料流分成離散訊息，每一訊息均包含任意資料之一個0或多個位元組的序列，前面加上表示該序列之長度的4個位元組。此長度可以被編碼成一個無號整數，例如具有一個網路順序("big-endian")的32位元整數，提供一(232-1)個位元組之最大訊息長度。此訊息分隔機制可以是以Python程式語言中的"Connection Object"實施而成。藉由使用標準的多重處理連接套件(multiprocessing connection package)，Python本身可處理此部分之協定。在其他編程環境中，其將需要以明確詳盡的形式實施此特色。訊息可由任一方起始，只要符合規定的順序即可。
    訊息序列中的每一第一個訊息均可以包含一個以JavaScript物件表示法(JSON)編碼的控制資料結構。所有的SUSC協定JSON訊息均可以具有同一基本結構：一個由2個元素構成的陣列，第一個包含一個具有訊息型態的字串，而第二個係一個具有針對該訊息之命名引數的字典，例如["<messageType>",{"param1"：<value1>,"param2"：<value2>,...}]。
    在某些訊息序列之中，例如，用以傳輸介面指令的輸入及輸出項目者，此控制/指令訊息其後緊跟著數個資料訊息，例如，每個輸入/輸出項目一個資料訊息。該協定對於訊息之中所使用的編碼方式並無任何假設，解譯方式係描述於指明次系統指令、資料及行為的設計文件之中，例如，"2個浮點數的元組(tuple)之列表，以pickle形式編碼"，或者"描繪成影像/pgn的壓力曲線"。
    此種具備JSON控制訊息的混合任意訊息之機制，允許製程作業輸出藉由外掛軟體被直接產生成操作者可理解之資料格式，諸如CSV、PDF、PNG等格式。其亦意味此等物件之傳輸可以在無額外編碼或換碼(escaping)之下以資料流一部分的形式完成，例如藉由使用Linux的sendfile函數。此自由度亦可以被用以在次系統之間明確地針對更適合特定介面功能之編碼方式達成共識。然而，若每一個次系統均具有其本身的編碼機制，則將顯得不明智，故若次系統並無特定需求，其應選用一預設機制以在多種規格之間實做出最佳的權衡。
    (j)次系統並不負責查核SUSC 12之正確行為和偵測SUSC協定錯誤，以簡化PIC 15之設計。SUSC協定之目的係執行使用者所建立的製程作業中的製程程式的製程步驟。其使用例外以傳送非預期之行為給使用者。除了指令執行的錯誤之外，當然亦可由於不遵從SUSC協定而發生錯誤。SUSC 12負責記錄例外且當PIC之動作不依照SUSC協定進行(或已然完全停止回應)時可關閉通往一PIC之連接，但PIC並不負責查核SUSC的正確行為，以保持PIC之規格簡單化。若一PIC遭遇協定之違反，其可以正式地回應，也可以置之不理，且其並無規定後續之訊息必須被理解。其建議試著記錄若干診斷、記錄一例外、當無法處理一訊息時加以斷線而後重新連接。此係建議，而非規定，因為其無法保證或期待PIC在重新連接之後又再次處於一可使用之狀態(但至少其將處於一多少可理解之狀態)。
    (k)操作者之介面以及較高層級自動化或監控晶圓廠電腦系統被自控制網路120上之通信移除。此等介面係提供自群聚前端6，故其並未在控制網路120上產生擁塞且不會影響與次系統16之通信時序。
    (l)資料收集被完全隔離於一個不同於在控制網路120上控制通信的資料網路140。此功能之分離更詳述於下。 同步時脈
    微影蝕刻系統提供一時脈信號於控制網路上，以致能系統內及透過次系統的動作同步。系統可以提供二個位於不同頻率之時脈信號以提供時脈給基於不同時序精確度的次系統，例如精確度分別係毫秒級和奈秒級的時脈信號。舉例而言，用以串流射束切換資料的圖案串流次系統及用以將電子小射束切換成開或關的射束切換次系統需要以非常高的頻率交換資料以致能小射束之高頻率切換，而射束測定次系統需要以非常高的頻率傳送射束之位置測定。 資料網路
    次系統16透過資料網路140連接至資料網路集線器14。資料收集、儲存及管理係透過資料網路140執行。控制網路120在元件控制單元12與微影蝕刻次系統16之間形成一控制網路路徑，而資料網路140在資料網路集線器14與微影蝕刻次系統16之間形成一資料網路路徑。控制網路120和資料網路140係實體上不同之網路。每一網路均具有其自身的個別實體媒介，包括接線、諸如開關之網路組件、以及通往次系統16的網路連接。因此，該控制網路路徑與資料網路路徑包含實體上不同的媒介，且形成不同且獨立的通信路徑。
    每一微影蝕刻次系統16均具有一通往控制網路140的連接，被調構成透過控制網路接收及傳送往返元件控制單元12的控制資訊。每一微影蝕刻次系統16均具有一個別之連接通往資料網路140，被調構成透過資料網路傳送資料資訊至資料網路集線器14。
    資料網路集線器14被調構成連續記錄接收自次系統16的資料。此等資料可包含次系統在一PJ執行期間所採納的測定資料、次系統之設定、及用於除錯及故障追蹤的資料。資料網路集線器14較佳係一直記錄所有資料(包含低層級追蹤資料)，故無需啟動資料記錄。此種連續性的資料記錄加速問題診斷、降低重新啟動的需要、並重現錯誤或問題。
    元件控制單元12連接至資料網路集線器14以傳送有關執行於元件控制單元12中的PJ進度之資訊而讓資料網路集線器14加以記錄。資料網路集線器14連續地記錄接收自元件控制單元12的資料。
    資料網路集線器14包含非常大量的資料儲存容量，足以在一段長久的運作時間長度內用於儲存來自所有次系統16的極其大量的低層級資料，例如數個月或數年等級的一段時間。資料網路集線器14所儲存的資料被組織及加上標籤，較佳係附加一時間戳記以及PJ識別標誌。被儲存的資料可以自資料網路集線器14擷取出來並加以分析及過濾，較佳的實施方式係以離線方式進行。
    透過資料網路140的資料收集與透過控制網路120的控制通信之分離，使得其能夠在不拖累控制網路上的通信下，進行資料網路上大量資料的高頻率收集。藉由對控制網路120上的擁塞加以控制，並且避免巨大流量出現在資料網路140之上，使得控制網路能夠以準即時的形式運作。資料網路集線器14中的資料管理及儲存功能與元件控制單元12中的PJ執行之分離，使得其能夠在不拖累元件控制單元12的PJ處理下，進行資料網路集線器14的大量資料處理。控制與資料收集及管理之分離使得設計能夠較簡單，不需要考慮二個系統之間的交互作用。
    本發明已藉由特定實施例說明如上。其應能體認，該等實施例容許各種修改及替代形式，為熟習相關技術者所周知，且均未脫離本發明之精神和範疇。因此，雖然藉由特定實施例之說明，然僅係示範性質，並非用於限制本發明之範疇，本發明之範疇係由後附之申請專利範圍所界定。
    1‧‧‧微影蝕刻系統
    2‧‧‧主控系統
    3‧‧‧群聚介面
    4‧‧‧操作者操控台
    5‧‧‧群聚元件介面
    6‧‧‧微影蝕刻群聚前端
    7‧‧‧微影蝕刻次系統介面
    10‧‧‧微影蝕刻元件
    12‧‧‧元件控制單元(SUSC)
    14‧‧‧資料網路集線器(SUSD)
    15‧‧‧外掛用戶(PIC)
    16‧‧‧微影蝕刻次系統
    18‧‧‧圖案資料處理系統
    19‧‧‧致動器/圖案串流器(系統)
    20‧‧‧資料路徑
    22‧‧‧基板投送系統
    23‧‧‧服務區域
    24‧‧‧基板供應系統
    100‧‧‧微影蝕刻系統群聚
    101-103、105‧‧‧通信
    106‧‧‧連結
    110‧‧‧電子源
    113‧‧‧準直儀透鏡系統
    114a‧‧‧孔隙陣列
    114b‧‧‧第二孔隙陣列
    116‧‧‧聚光器透鏡陣列
    117‧‧‧小射束消隱器陣列
    118‧‧‧射束光欄陣列
    119‧‧‧射束偏轉器陣列
    120‧‧‧控制網路/投射透鏡陣列
    121‧‧‧基板
    130‧‧‧擴張電子射束
    133‧‧‧小射束
    134‧‧‧子射束
    140‧‧‧資料網路
    本發明實施例之說明係參照所附之示意性圖式進行，且僅係示範性質，其中：圖1係依據本發明之用於微影蝕刻系統之網路架構之一實施例之一示意圖；圖2係用於包含一微影蝕刻元件群聚之微影蝕刻系統之網路架構之一實施例之一示意圖；圖3係一微影蝕刻元件群聚之一佈局之一示意圖；而圖4係一帶電微粒微影蝕刻元件之電子光學腔體之一簡化示意圖。
    1‧‧‧微影蝕刻系統
    2‧‧‧主控系統
    3‧‧‧群聚介面
    4‧‧‧操作者操控台
    5‧‧‧群聚元件介面
    6‧‧‧微影蝕刻群聚前端
    7‧‧‧微影蝕刻次系統介面
    10‧‧‧微影蝕刻元件
    12‧‧‧元件控制單元(SUSC)
    14‧‧‧資料網路集線器(SUSD)
    15‧‧‧外掛用戶(PIC)
    16‧‧‧微影蝕刻次系統
    18‧‧‧圖案資料處理系統
    19‧‧‧圖案串流器
    20‧‧‧資料路徑
    101-103、105‧‧‧通信
    106‧‧‧連結
    120‧‧‧控制網路
    140‧‧‧資料網路
    权利要求:
    Claims (19)
    [1] 一種群聚式基板處理系統，包含複數微影蝕刻元件(10)，每一微影蝕刻元件均被配置成用於依據圖案資料進行基板的獨立曝光，且每一微影蝕刻元件均包含：複數個微影蝕刻次系統(16)；一控制網路(120)，被配置成用於在該等微影蝕刻次系統與至少一元件控制單元(12)間之控制資訊的通信，該元件控制單元被配置成傳送指令至該等微影蝕刻次系統且該等微影蝕刻次系統被配置成傳送回應至該元件控制單元；及一資料網路(140)，被配置成用於從該等微影蝕刻次系統到至少一資料網路集線器(14)之資料記錄資訊的通信，該等微影蝕刻次系統被配置成傳送該資料記錄資訊至該資料網路集線器且該資料網路集線器被配置成用以接收及儲存該資料記錄資訊；該系統另包含一群聚前端(6)以做為通往一操作者或主控系統(2、4)之介面，該群聚前端被配置成用於傳送控制資訊至該至少一機器控制單元以控制該等微影蝕刻次系統對於一或多個晶圓之曝光的運作，且該群聚前端進一步被配置成用於接收該資料網路集線器所接收之該資料記錄資訊的至少一部分。
    [2] 依據申請專利範圍中第1項之群聚式基板處理系統，其中該控制網路在該元件控制單元與該等微影蝕刻次系統之間形成一控制網路路徑，且該資料網路在該資料網路集線器與該等微影蝕刻次系統之間形成一資料網路路徑，且其中該控制網路路徑和該資料網路路徑包含實體上不同的媒介。
    [3] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中每一微影蝕刻次系統均具有一通往該控制網路之第一連接，該第一連接被配置成透過該控制網路自該元件控制單元接收指令並傳送回應至該元件控制單元，且每一微影蝕刻次系統均具有一通往該資料網路的不同第二連接，該第二連接被調構成透過該資料網路傳送該資料記錄資訊至該資料網路集線器。
    [4] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中該元件控制單元被配置成用於進行透過該控制網路傳送至該複數微影蝕刻次系統之指令及接收自一微影蝕刻次系統之回應的相關資料通信到該資料網路集線器。
    [5] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中在該等微影蝕刻元件中一者的運作期間，該等微影蝕刻元件中的微影蝕刻次系統被配置成透過該資料網路連續地傳送記錄資料至該資料網路集線器。
    [6] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，另包含一資料路徑(20)，被配置成用於該圖案資料到該等微影蝕刻次系統中一或多者的傳輸，該資料路徑形成一條不同於該控制網路及該資料網路的傳輸路徑。
    [7] 依據申請專利範圍第6項之群聚式基板處理系統，其中該資料路徑(20)包含一圖案處理系統(18)以及一圖案串流系統(19)。
    [8] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中該資料網路集線器儲存初始化該等微影蝕刻次系統所需的資訊，用於一微影蝕刻次系統之初始化資訊在該微影蝕刻次系統的起始期間被傳送至該微影蝕刻次系統。
    [9] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中該等微影蝕刻次系統中至少一微影蝕刻次系統被配置成在該微影蝕刻次系統起始時傳送資訊至該元件控制單元，該資訊指示該微影蝕刻次系統在該控制網路上之一存在以及該微影蝕刻次系統之一識別身分，並指出該微影蝕刻次系統能夠執行的一或多個指令。
    [10] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中該控制網路被配置成用於該元件控制單元與該等微影蝕刻次系統之間的服務資訊之通信，且該群聚前端被調構成配發用以執行在該等微影蝕刻元件中一或多者上之服務功能的服務資訊。
    [11] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中該系統被配置成提供二時脈信號給該等微影蝕刻次系統，該二時脈信號中之一具有一高於另一時脈頻率至少100倍的時脈頻率，且其中該等微影蝕刻次系統被配置成使用該等時脈信號同步其動作。
    [12] 依據申請專利範圍第1或2項之群聚式基板處理系統，其中該等微影蝕刻次系統未提供任何通往操作員或主控系統之介面，而是僅透過該群聚前端提供此通往該等次系統之介面。
    [13] 一種用於在群聚式基板處理系統內之資料通信的方法，該群聚式基板處理系統包含複數個微影蝕刻元件(10)，每一微影蝕刻元件均被配置成用於依據圖案資料進行基板的獨立曝光，且每一微影蝕刻元件均包含一控制網路(120)，連接一元件控制單元(12)與複數個微影蝕刻次系統(16)、一資料網路(140)，連接一資料網路集線器(14)與該複數個微影蝕刻次系統(16)、以及一群聚前端(6)，該方法包含：透過該控制網路(120)自該元件控制單元(12)傳送控制資訊至該等微影蝕刻次系統(16)中一或多者；透過該控制網路(120)自該等微影蝕刻次系統(16)傳送回應至該元件控制單元(12)；透過該資料網路(140)自該等微影蝕刻次系統(16)傳送資料記錄資訊至該資料網路集線器(14)；接收並儲存該資料記錄資訊於資料網路集線器(14)中；自該群聚前端(6)傳送控制資訊至該機器控制單元(12)以控制該等微影蝕刻次系統對於一或多個基板之曝光的運作；以及傳送該資料網路集線器(14)所儲存的該資料記錄資訊中的至少一部分至該群聚前端(6)。
    [14] 依據申請專利範圍第13項之方法，其中傳送至該等微影蝕刻次系統之控制資訊以及來自該等微影蝕刻次系統之回應僅透過該控制網路傳送至該元件控制單元，且來自該等微影蝕刻次系統之資料記錄資訊僅透過該資料網路傳送至該資料網路集線器。
    [15] 依據申請專利範圍第13或14項之方法，另包含將有關傳送至該複數微影蝕刻次系統之指令與接收自一微影蝕刻次系統之回應的資料自該元件控制單元傳送至該資料網路集線器。
    [16] 依據申請專利範圍第13或14項之方法，其中自一微影蝕刻次系統傳送該資料記錄資訊至該資料網路集線器係在一指令被該微影蝕刻次系統執行期間被連續地執行。
    [17] 依據申請專利範圍第13或14項之方法，另包含透過一資料路徑(20)傳送圖案資料至該等微影蝕刻次系統中一或多者，該資料路徑形成一條不同於該控制網路及該資料網路的傳輸路徑。
    [18] 依據申請專利範圍第13或14項之方法，另包含將初始化該等微影蝕刻次系統所需要的資訊儲存於該資料網路集線器之中，並在一微影蝕刻次系統的起始期間傳送該初始化資訊至該微影蝕刻次系統。
    [19] 依據申請專利範圍第13或14項之方法，另包含在該等微影蝕刻次系統中一微影蝕刻次系統起始時自該微影蝕刻次系統傳送資訊至該元件控制單元，該資訊指示該微影蝕刻次系統在該控制網路上之一存在以及該微影蝕刻次系統之一識別身分，並指出該微影蝕刻次系統能夠執行的一或多個指令。
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