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    本發明之透明導電性薄膜係在折射率為1.61~1.70的基材薄膜的單面或雙面依序具有折射率為1.50~1.60且每一基材薄膜單面的光學厚度為(1/4)λ之第1層、折射率為1.61~1.80之第2層、折射率為1.50以下的第3層、及折射率為1.81以上且經圖型化的透明導電膜，每一基材薄膜單面之前述第1層的光學厚度與前述第2層的光學厚度的合計為(1/4)λ(但是，λ在380~780nm的範圍)。藉由本發明可提供一種透明導電膜圖型之目視辨認(透視)充分受到抑制的透明導電性薄膜及一種具備該透明導電性薄膜之觸控面板。
    公开号:TW201301308A
    申请号:TW101102762
    申请日:2012-01-30
    公开日:2013-01-01
    发明作者:Takayoshi Kirimoto
    申请人:Toray Advanced Film Co Ltd；
    IPC主号:G06F3-00
    专利说明:
    透明導電性薄膜及觸控面板
    本發明關於一種目視辨認性良好的透明導電性薄膜及一種具備該透明導電性薄膜之觸控面板。
    近年來，在觸控面板用途等上使用一種在聚酯薄膜等的基材薄膜上設置有透明導電膜的透明導電性薄膜。一般而言是使用氧化銦錫(ITO)等的金屬氧化物之薄膜作為透明導電膜，可藉由濺鍍法或真空蒸鍍而積層在基材薄膜上。
    以觸控面板的運作方式而言，以電阻膜式為主流，然而近年來，靜電容量式正在急速普及。電阻膜式觸控面板所使用的透明導電性薄膜一般而言係由並未實施圖型化的透明導電膜(覆蓋於基材上的一面的透明導電性膜)所構成。另一方面，靜電容量式觸控面板通常可使用積層有經圖型化的透明導電膜的透明導電性薄膜。
    靜電容量式觸控面板所使用的透明導電性薄膜通常藉由光蝕刻等，而圖型化透明導電膜，在俯視上存在透明導電膜的圖型部與非圖型部。
    使用了這種將透明導電膜經圖型化的透明導電性薄膜的靜電容量式觸控面板，會發生透明導電膜的圖型部能夠以目視辨認，就是所謂「透視」之現象的問題。此「透視」現象會降低作為顯示裝置所應有的品質。
    因此有文獻提出抑制透明導電膜圖型的透視(例如專利文獻1~6)。 先前技術文獻 專利文獻
    專利文獻1 日本特開2011-84075號公報
    專利文獻2 日本特開2010-228295號公報
    專利文獻3 日本特開2009-76432號公報
    專利文獻4 日本特開2006-301510號公報
    專利文獻5 日本特許第4661995號公報
    專利文獻6 日本特許第4364938號公報
    然而在專利文獻1~6所揭示的技術中，透明導電膜圖型的透視抑制效果並無法令人完全滿意。尤其在靜電容量式觸控面板之中，透明導電膜係用於光線的入射表面側，因此上述透視現象會降低作為顯示裝置所應有的品質，故正需要進一步的改善。
    所以，本發明之目的在於提供一種透明導電膜圖型的目視辨認(透視)充分受到抑制的透明導電性薄膜。另外，本發明的另一個目的在於提供一種觸控面板，其係具備透明導電膜圖型的目視辨認(透視)充分受到抑制之透明導電性薄膜。
    可完成上述課題的本發明之透明導電性薄膜係在折射率為1.61~1.70之基材薄膜的單面或雙面依序具有折射率為1.50~1.60且每一基材薄膜單面的光學厚度為(1/4)λ之第1層、折射率為1.61~1.80之第2層、折射率為1.50以下之第3層、及折射率為1.81以上且經圖型化的透明導電膜，每一基材薄膜單面之前述第2層的光學厚度與前述第3層的光學厚度的合計為(1/4)λ。
    但是，λ為380~780nm。
    另外，本發明之觸控面板係具備本發明之透明導電性薄膜。
    依據本發明可提供一種透視現象充分受到抑制之透明導電性薄膜。本發明之透明導電性薄膜適合用於觸控面板，尤其適合用於靜電容量式之觸控面板。
    本發明之透明導電性薄膜係在基材薄膜的單面或雙面依序設置第1層、第2層、第3層、及透明導電膜。
    在本發明中，第1層、第2層、第3層、透明導電膜、及因應必要所設置的SiO2膜或硬塗層係包括僅設置於基材薄膜的單面的形態、及設置於雙面的形態。
    以下針對構成本發明之透明導電性薄膜的各個構成要素作詳細說明。 [基材薄膜]
    本發明之基材薄膜的折射率(nf)為1.61~1.70。這樣的基材薄膜適合使用聚酯薄膜，尤其適合使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。
    基材薄膜的折射率(nf)較佳為在1.62~1.69的範圍，更佳為1.63~1.68的範圍，特佳為1.64~1.67的範圍。
    基材薄膜的厚度適當為20~300μm的範圍，較佳為50~250μm的範圍，更佳為50~200μm的範圍。 [第1層]
    本發明之第1層的折射率(n1)係在1.50~1.60的範圍。第1層的折射率(n1)較佳為1.51~1.60的範圍，更佳為1.52~1.59的範圍，特佳為1.55~1.59的範圍。
    就第1層的每一基材薄膜單面的光學厚度而言，滿足(1/4)λ為重要的。在此處，每一基材薄膜單面的光學厚度係第1層的折射率(n1)與每一基材薄膜單面的厚度(d1)之積，λ意指可見光區域的波長範圍380~780nm。第1層的厚度(d1)的單位為nm。在本發明中，光學厚度的單位為nm，並且為將小數點以下四捨五入而得的值。
    亦即，第1層的光學厚度必須滿足以下的關係式1。
    (380nm/4)≦(n1×d1)≦(780nm/4)95nm≦(n1×d1)≦195nm………(式1)
    亦即，第1層的折射率為1.50的情況，厚度d1會在63~130nm的範圍，第1層的折射率為1.60的情況，厚度d1會在59~122nm的範圍。
    進一步而言，λ的範圍係較佳為450~650nm。亦即，第1層的光學厚度係較佳為滿足以下的關係式2。
    (450nm/4)≦(n1×d1)≦(650nm/4)113nm≦(n1×d1)≦163nm………(式2)。
    更進一步而言，λ的範圍係較佳為500~600nm。亦即，第1層的光學厚度係更佳為滿足以下的關係式3。
    (500nm/4)≦(n1×d1)≦(600nm/4)125nm≦(n1×d1)≦150nm………(式3)。
    第1層較佳為以樹脂為主成分的層。亦即，相對於第1層之固體成分總量100質量%，較佳為含有50質量%以上的樹脂，更佳為含有60質量%以上，特佳為含有70質量%以上，最佳為含有80質量%以上為最佳。上限較佳為99質量%以下，更佳為98質量%以下，特佳為95質量%以下。
    以這種樹脂而言，適合使用聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂。在這些樹脂之中較佳為聚酯樹脂，進一步而言適合使用在分子中具有萘環的聚酯樹脂。
    從對第1層賦予後述之易黏著機能的觀點看來，第1層較佳為含有交聯劑。作為這種交聯劑，可列舉三聚氰胺系交聯劑、唑啉系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、氮系交聯劑、環氧系交聯劑。在該等之中適合使用三聚氰胺系交聯劑、唑啉系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑。
    相對於第1層之固體成分總量100質量%，在第1層中的交聯劑的含量較佳為1~40質量%的範圍，更佳為3~35質量%的範圍，特佳為5~30質量%的範圍。
    為了進一步提升易滑性或耐黏結性，第1層較佳為含有有機或無機之粒子。這種粒子並未受到特別限定，但可列舉例如：矽酸膠、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、碳黑、沸石粒子等的無機粒子、或丙烯酸粒子、聚矽氧粒子、聚醯亞胺粒子、特夫綸(註冊商標)粒子、交聯聚酯粒子、交聯聚苯乙烯粒子、交聯聚合物粒子、核殼粒子等的有機粒子。在這些粒子之中適合使用矽酸膠。
    相對於第1層之固體成分總量100質量%，在第1層中的粒子含量較佳為0.05~8質量%的範圍，更佳為0.1~5質量%的範圍。
    第1層較佳為具有作為易黏著層的機能為佳。亦即，第1層較佳為具有用於強化與在基材薄膜與第1層上方之層(例如第2層、第3層、及透明導電膜)的密著性(接著性)，作為易黏著層所應有的功用為佳。所以，第1層較佳為直接設置於基材薄膜上。
    第1層較佳為藉由濕式塗布法而積層在基材薄膜上。尤其較佳為在基材薄膜的製造步驟內積層第1層，就是所謂的「串聯式塗布法」而進行積層。在將第1層塗布在基材薄膜上時，較佳為對於基材薄膜表面實施電暈放電處理、火焰處理、電漿處理等作為用於提升塗布性或密著性的預處理。
    以上述濕式塗布法而言，可使用例如：逆塗布法、噴灑塗布法、棒塗布法、凹版塗布法、桿塗布法、模具塗布法、旋轉塗布法、擠塑塗布法等的塗布方法。
    關於上述串聯式塗布法，以下針對使用聚對苯二甲酸乙二酯(以下簡記為PET)薄膜作為基材薄膜的形態作說明，然而本發明不受其限定。
    將作為PET薄膜原料而極限黏度0.5~0.8dl/g的PET顆粒真空乾燥。將真空乾燥過的顆粒供給至擠壓機，以260~300℃使其熔融。將熔融的PET聚合物由T字形噴嘴擠出而成為薄片狀，使用施加靜電之流延法纏繞於表面溫度10~60℃的鏡面流延轉鼓，並將其冷卻固化，而製作出未延伸PET薄膜。將此未延伸PET薄膜在加熱至70~100℃的輥之間往縱方向(是指薄膜的行進方向，亦稱為「長邊方向」)延伸2.5~5倍。在空氣中，對藉由此延伸所得到的單軸延伸PET薄膜之至少單面實施電暈放電處理，使其表面的濕潤張力成為47mN/m以上。在此處理面塗布第1層之塗布液。
    接下來，以夾具夾住塗布有塗布液的單軸延伸PET薄膜，並且引導至乾燥區，在未滿單軸延伸PET薄膜的Tg之溫度下進行乾燥。接下來，提高至Tg以上的溫度，再度在Tg附近的溫度下將薄膜乾燥。然後連續在70~150℃的加熱區將薄膜往橫方向(是指與薄膜的行進方向正交的方向，亦稱為「寬度方向」)延伸2.5~5倍。接下來，在180~240℃的加熱區對薄膜實施5~40秒鐘熱處理，可得到在結晶配向結束的PET薄膜積層有第1層的PET薄膜。此外，在上述熱處理中，亦可因應必要實施3~12%之弛緩處理。雙軸延伸可為縱、橫逐次延伸，或雙軸同時延伸之任一者，此外還可在縱、橫延伸之後，往縱、橫任一方向再延伸。 [第2層]
    第2層的折射率(n2)為1.61~1.80。第2層的折射率(n2)較佳為1.63~1.79的範圍，更佳為1.65~1.78的範圍，特佳為1.65~1.75的範圍。
    第2層的每一基材薄膜單面的厚度(d2)較佳為20nm以上，更佳為25nm以上，特佳為30nm以上。上限較佳為80nm以下，更佳為70nm以下，特佳為60nm以下，最佳為50nm以下。
    第2層較佳為含有樹脂與金屬氧化物的層、含有高折射率樹脂的層、或含有金屬氧化物與高折射率樹脂的層，特佳為含有樹脂與金屬氧化物的層。
    進一步而言，第2層較佳為藉由濕式塗布法塗布含有樹脂與金屬氧化物的組成物、含有高折射率樹脂的組成物、或含有金屬氧化物與高折射率樹脂的組成物並使其硬化而得的層為佳。特佳為藉由濕式塗布法塗布含有樹脂與金屬氧化物的組成物並使其硬化而得的層。可使用前述塗布方法作為濕式塗布法。
    以下針對用於形成含有樹脂與金屬氧化物之層的組成物作說明。
    以樹脂成分而言，較佳為熱硬化性樹脂或活性能量射線硬化性樹脂，特佳為活性能量射線硬化性樹脂。
    這種活性能量射線硬化性樹脂適合使用藉由紫外線或電子束等的活性能量射線而硬化的樹脂，且在分子中具有至少1個乙烯性不飽和基的單體或寡聚物。在此處，以乙烯性不飽和基而言，可列舉丙烯酸基、甲基丙烯酸基、乙烯基、烯丙基等。
    以上述單體的例子而言，可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧酯等的單官能丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇六(甲基)三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸安息香酸酯、三羥甲基丙烷安息香酸酯等的多官能丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯等的胺基甲酸酯丙烯酸酯等。
    以上述寡聚物的例子而言，可列舉聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、醇酸(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等。
    上述單體或寡聚物可單獨使用或混合多種使用，但較佳為使用3官能以上的多官能單體或多官能寡聚物。
    以金屬氧化物而言，較佳為折射率為1.65以上的金屬氧化物微粒子，尤其適合使用折射率為1.7~2.8之金屬氧化物微粒子。以這樣的金屬氧化物微粒子而言，可列舉鈦、鋯、鋅、錫、銻、鈰、鐵、銦等的金屬氧化物粒子。以金屬氧化物微粒子的具體例而言，可列舉例如：氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅、氧化錫、氧化銻、氧化鈰、氧化鐵、銻酸鋅、氧化錫摻雜氧化銦(ITO)、銻摻雜氧化錫(ATO)、磷摻雜氧化錫、鋁摻雜氧化鋅、鎵摻雜氧化鋅、氟摻雜氧化錫等，該等的金屬氧化物微粒子可單獨使用或併用多種。上述金屬氧化物微粒子之中，尤其是氧化鈦及氧化鋯不會使透明性降低，並可提高第2層的折射率，故為適合。
    相對於組成物之固體成分總量100質量%，在組成物中的金屬氧化物的含量較佳為30質量%以上，更佳為40質量%以上，特佳為50質量%以上，最佳為55質量%以上。上限較佳為95質量%以下，更佳為90質量%以下，特佳為85質量%以下。
    相對於樹脂成分100質量份在組成物中的樹脂成分與金屬氧化物之含有比率較佳為在50~900質量份的範圍含有金屬氧化物，更佳為在100~800質量份的範圍含有。
    組成物較佳為含有光聚合起始劑。以這樣的光聚合起始劑之具體例而言，可使用例如：苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、對二甲基苯乙酮、對二甲基胺基苯丙酮、二苯基酮、2-氯二苯基酮、4,4'-二氯二苯基酮、4,4'-雙二乙基胺基二苯基酮、米其勒酮、苄基、安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、甲基苯甲醯基甲酸酯、對異丙基-α-羥基異丁基苯酮、α-羥基異丁基苯酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮等的羰基化合物、四甲胺硫甲醯基單硫化物、四甲胺硫甲醯基二硫化物、噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮等的硫化合物等。這些光聚合起始劑可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。
    相對於組成物之固體成分總量100質量%，上述光聚合起始劑的含量係以0.1~10質量%的範圍為適當，較佳為0.5~8質量%的範圍。
    針對用於形成含有高折射率樹脂之層的組成物作說明。
    以高折射率樹脂而言，可列舉含有氟以外的鹵素原子的樹脂(例如含有溴原子的樹脂、含有氯原子的樹脂、含有碘原子的樹脂)、含有硫原子的樹脂、含有氮原子的樹脂、含有磷原子的樹脂、含有芳香族環的樹脂(例如含有茀骨架的樹脂、含有苯基的樹脂等)。這些樹脂只要是具有透明性的樹脂即可，可使用周知或市售的樹脂，此外還可與其他樹脂併用。
    氟以外的鹵素原子係例如：以含有溴原子、氯原子的樹脂而言，可使用溴化丙烯酸樹脂、溴化胺基甲酸酯樹脂、溴化聚酯樹脂、溴化聚醚樹脂、溴化環氧樹脂、溴化螺旋乙縮醛樹脂、溴化聚丁二烯樹脂、溴化聚硫醇多烯樹脂、氯化丙烯酸樹脂、氯化胺基甲酸酯樹脂、氯化聚酯樹脂、氯化聚醚樹脂、氯化環氧樹脂等。以含有溴原子的樹脂之原料成分而言，可使用例如將丙烯酸酯之苯基的鄰．對位溴化而得的化合物。以市售品而言，這些物質可使用例如：第一工業製藥公司製的BR-42。以其他市售品而言，可使用第一工業製藥公司製的BR-42M、BR-30M、BR-31等、DAICEL-CYTEC公司製的RDX51027等。另外，以含有氯原子的樹脂而言，可使用N,N-二甲基胺基乙基甲基丙烯酸酯的芐基氯化物鹽等，亦可將該等2種以上混合使用。
    以含有硫原子的樹脂而言，可使用例如S,S'-乙烯雙(硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-(硫二乙烯)雙(硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[硫雙(二乙烯硫化物)]雙(硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-(氧二乙烯)雙(硫(甲基)丙烯酸酯)等。在此處，硫(甲基)丙烯酸酯表示硫甲基丙烯酸酯及硫丙烯酸酯。
    在該等之中適合使用S,S'-乙烯雙(硫甲基丙烯酸酯)、S,S'-(硫二乙烯)雙(硫甲基丙烯酸酯)。S,S'-乙烯雙(硫甲基丙烯酸酯)可藉由使1,2-乙二硫醇與鹼金屬化合物反應，並使所得到的1,2-乙二硫醇之鹼金屬鹽與甲基丙烯醯氯在非極性有機溶劑中進行反應之方法等來製造。另外，S,S'-(硫二乙烯)雙(硫甲基丙烯酸酯)可使用日本觸媒公司製的商品名S2EG的市售品。
    另外，以含有硫原子與芳香族環的樹脂而言，可使用例如：S,S'-(硫二對亞苯基)雙(硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[4,4'-硫雙(3-氯苯)]雙(硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[4,4'-硫雙(3,5-二氯苯)](硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[4,4'-硫雙(3-溴苯)](硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[4,4'-硫雙(3,5-二溴苯)](硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[4,4'-硫雙(3-甲基苯)]雙(硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[4,4'-硫雙(3,5-二甲基苯)](硫(甲基)丙烯酸酯)、S,S'-[4,4'-硫雙(3-甲基苯)]雙(硫(甲基)丙烯酸酯)等。該等之中適合使用S,S'-(硫二對亞苯基)雙(硫甲基丙烯酸酯)(住友精化公司製MPSMA)，但其可藉由使4,4'-硫二苯硫醇與鹼金屬化合物反應，並使所得到的4,4'-硫二苯硫醇之鹼金屬鹽與甲基丙烯醯氯在非極性有機溶劑中進行反應之方法等來製造。
    以含有芳香族環的樹脂而言，可使用具有9,9-雙苯氧基茀骨架的丙烯酸樹脂、具有聯苯基的丙烯酸樹脂、環氧樹脂等。可使用例如：新中村化學公司製9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基」茀(NK Ester A-BPEF)、鄰苯基苯酚縮水甘油醚丙烯酸酯(NK Ester 401P)、羥乙基化鄰苯基苯酚丙烯酸酯(NK Ester A-LEN-10)、JFE化學公司製9,9-雙(3-甲基-4-羥苯基)茀(BCF)、9,9-雙[4-(2-羥乙氧基)苯基]茀(BPEF)、大阪氣體化學公司製雙酚茀二縮水甘油醚(BPFG)、雙苯氧基乙醇茀二縮水甘油醚(BPEFG)、雙苯氧基乙醇茀二丙烯酸酯(BPEF-A)、Ogsol PG系列、Ogsol EG系列、Ogsol EA系列、Ogsol EA-F系列、長瀬產業公司製ONCOAT EX系列、共榮社化學公司製HIC-G系列、ADEKA公司製RF(X)系列等。
    以高折射率樹脂而言，如以上述所例示，更佳為含有丙烯酸基或環氧基等的聚合性基的聚合性單體或聚合性寡聚物為較佳。
    組成物較佳為含有高折射率樹脂以及含有用於形成含有前述樹脂與金屬氧化物之層的組成物所使用的樹脂成分(較佳為活性能量射線硬化性樹脂)。相對於高折射率樹脂100質量份，此樹脂成分的含量較佳為5~50質量份的範圍，較佳為10~40質量份的範圍為佳。
    相對於組成物之固體成分總量100質量%，在組成物中的高折射率樹脂的含量較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上，特佳為70質量%以上。上限較佳為95質量%以下，較佳為90質量%以下。
    組成物較佳為進一步含有光聚合起始劑，相對於組成物之固體成分總量100質量%，其含量係以0.1~10質量%的範圍為適當，較佳為0.5~8質量%的範圍。
    接下來，針對用於形成含有金屬氧化物與高折射率樹脂之層的組成物作說明。此組成物係將前述金屬氧化物與高折射率樹脂加以組合而使用。金屬氧化物與高折射率樹脂之含有比率(質量比)較佳為金屬氧化物：高折射率樹脂=9：1~1：9的範圍，更佳為8：2~2：8的範圍，特佳為7：3~3：7的範圍。
    此組成物較佳為進一步含有用於形成含有前述樹脂與金屬氧化物之層的組成物所使用的樹脂成分(較佳為活性能量射線硬化性樹脂)。相對於組成物之固體成分總量100質量%，此樹脂成分的含量較佳為5~50質量%的範圍，更佳為10~40質量%的範圍，特佳為20~40質量%的範圍。
    組成物較佳為進一步含有光聚合起始劑，相對於組成物之固體成分總量100質量%，其含量係以0.1~10質量%的範圍為適當，較佳為0.5~8質量%的範圍。 [第3層]
    第3層的折射率(n3)為1.50以下。第3層的折射率(n3)較佳為1.46以下，更佳為1.40以下，特佳為1.38以下。下限較佳為1.25以上，更佳為1.30以上。
    第3層的每一基材薄膜單面的厚度(d3)較佳為5~50nm的範圍，更佳為10~40nm的範圍。
    第3層較佳為藉由濕式塗布法塗布熱硬化性或活性能量射線硬化性的組成物，並使其硬化而得的層。可使用前述塗布方法作為濕式塗布法。
    以熱硬化性組成物而言，可列舉例如：將與二氧化矽系微粒子結合而形成的矽氧烷聚合物作為主成分之組成物。這種組成物，詳細而言為二氧化矽系微粒子之二氧化矽成分與母體的矽氧烷聚合物進行反應，並且均質化而得之物；與二氧化矽系微粒子結合而形成的矽氧烷聚合物，可藉由在該二氧化矽系微粒子的存在下，使多官能性矽烷化合物在溶劑中，藉由酸觸媒進行周知的水解反應而暫時形成矽醇化合物，然後藉由利用周知的縮合反應而得到。
    以活性能量射線硬化性組成物而言，可列舉例如：含有：藉由紫外線或電子束等的活性能量射線而硬化之活性能量射線硬化性樹脂；及作為低折射率材料的低折射率無機粒子及/或含氟化合物之組成物。
    第3層較佳為設定成厚度(d3)為50nm以下的薄膜，從藉由濕式塗布法可均勻而精密度良好塗布形成這種薄膜之這樣的觀點看來，作為活性能量射線硬化性組成物係適合使用含有活性能量射線硬化性樹脂與含氟化合物的組成物。此組成物作為活性能量射線硬化性樹脂的全部或一部分，係可採用後述含氟單體及/或含氟寡聚物。
    以活性能量射線硬化性樹脂而言，可使用與前述第2層所使用的物質同樣的物質(在分子中具有至少1個乙烯性不飽和基的單體或寡聚物)，故在此處省略說明。另外，可與活性能量射線硬化性樹脂併用的光聚合起始劑亦可使用與前述第2層所使用的物質同樣的物質，故此處的說明省略。
    在活性能量射線硬化性組成物之中，相對於組成物之固體成分總量100質量%，活性能量射線硬化性樹脂的含量係以5~90質量%的範圍為適合使用，較佳為5~80質量%的範圍，更佳為10~70質量%的範圍。
    以低折射率無機粒子而言，較佳為二氧化矽或氟化鎂等的無機粒子。進一步而言，該等的無機粒子較佳為中空狀或多孔質。上述無機粒子的折射率更佳為1.2~1.35的範圍。
    在活性能量射線硬化性組成物之中，相對於組成物之固體成分總量100質量%，低折射率無機粒子的含量較佳為20~80質量%的範圍，更佳為30~70質量%的範圍。
    以含氟化合物而言，可列舉含氟單體、含氟寡聚物、含氟高分子化合物。在此處，含氟單體、含氟寡聚物係在分子中具有乙烯性不飽和基與氟原子的單體或寡聚物。
    以含氟單體、含氟寡聚物而言，可列舉例如：(甲基)丙烯酸-2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸-2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟癸基)乙酯、(甲基)丙烯酸-β-(全氟辛基)乙酯等的含有氟的(甲基)丙烯酸酯類、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,2-三氟乙基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,3-五氟丙基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,4,4,4-六氟丁基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,4,4,5,5,5-九氟戊基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-十一氟己基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-十三氟庚基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十五氟辛基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛基乙二醇、二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-十七氟壬基乙二醇等的二-(α-氟丙烯酸)氟烷酯類。
    以含氟高分子化合物而言，可列舉例如：含氟單體與用於賦予交聯性基的單體作為構成單元之含氟共聚物。以含氟單體單位的具體例子而言，係例如：氟烯烴類(例如：氟乙烯、亞乙烯氟化物、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-氧雜環戊二烯等)、(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化的烷基酯衍生物類(例如：Viscoat 6FM(大阪有機化學製)或M-2020(Daikin製)等)、完全或部分氟化的乙烯基醚類等。以用於賦予交聯性基的單體而言，可列舉如縮水甘油基甲基丙烯酸酯般在分子內預先具有交聯性官能基的(甲基)丙烯酸酯單體，此外還可列舉具有羧基或羥基、胺基、磺酸基等的(甲基)丙烯酸酯單體(例如：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥甲酯、(甲基)丙烯酸羥烷酯、丙烯酸烯丙酯等)。
    在活性能量射線硬化性組成物之中，相對於組成物之固體成分總量100質量%含氟化合物的含量較佳為30質量%以上為佳，更佳為50質量%以上，特佳為60質量%以上。上限較佳為100質量%以下，更佳為99質量%以下，特佳為98質量%以下。 [第2層的光學厚度與第3層的光學厚度之合計]
    每一基材薄膜單面之第2層的光學厚度與第3層的光學厚度的合計滿足(1/4)λ是很重要的。光學厚度如前述，為折射率與厚度的積，關於λ亦如前述，為可見光區域波長範圍380~780nm。厚度的單位為nm。
    亦即，第2層的光學厚度與第3層的光學厚度的合計必須滿足以下的關係式4。
    (380nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)≦(780nm/4)95nm≦(n2×d2)+(n3×d3)≦195nm………(式4)。
    亦即，第2層的光學厚度(n2×d2)與第3層的光學厚度(n3×d3)的合計必須為95nm以上195nm以下。
    進一步而言，第2層的光學厚度與第3層的光學厚度的合計較佳為95~163nm的範圍，更佳為95~150nm的範圍，特佳為100~140nm的範圍。 [第2層與第3層之形成方法]
    針對藉由濕式塗布法塗布並且積層第2層與第3層之方法作說明。
    第2層與第3層係分別可逐層藉由濕式塗布法塗布而積層，或可藉由濕式塗布法同時積層塗布，亦可藉由濕式塗布法將單一塗布液塗布1次之後，使其層分離而形成。
    逐層藉由濕式塗布法塗布而積層之方法係將第2層濕式塗布，且因應必要使其乾燥及硬化而形成之後，將第3層濕式塗布，且因應必要使其乾燥及硬化而形成之方法。第2層與第3層的形成可藉由各別的步驟來進行，亦可藉由單一步驟連續進行。
    藉由濕式塗布法同時積層塗布之方法，係可同時進行積層塗布的塗布方法，例如：使用多層狹縫模具塗布機、多層滑珠塗布機、擠壓式模具塗布機等，而同時積層塗布第2層與第3層，且因應必要使其乾燥及硬化之方法。
    藉由濕式塗布法將單一塗布液塗布1次之後，使其層分離而形成之方法係記載於例如：日本特開2008-7414號公報、日本特開2008-7415號公報、日本特開2009-58954號公報、日本特開2009-75576號公報、日本特開2009-198748號公報、日本特開2010-39417號公報、日本特開2010-196043號公報、日本特開2010-215746號公報等，可參考這些方法來使用。 [透明導電膜]
    以透明導電膜之材料而言，可使用觸控面板之電極所使用的周知材料。可列舉例如：氧化錫、氧化銦、氧化銻、氧化鋅、ITO(氧化銦錫)、ATO(氧化銻錫)等的金屬氧化物。在該等之中適合使用ITO。
    從例如確保表面電阻值在103 Ω/□以下的良好的導電性這樣的觀點看來，透明導電膜的厚度較佳為10nm以上，更佳為15nm以上，特佳為20nm以上。另一方面，若透明導電膜的厚度變得過大，則會造成透視現象的抑制效果變小、以及透明性降低這些不合適的情形，因此透明導電膜的厚度的上限較佳為60nm以下，更佳為50nm以下，特佳為40nm以下。
    透明導電膜的折射率(nt)為1.81以上。進一步而言，透明導電膜之折射率(nt)較佳為1.85以上，更佳為1.90以上。上限較佳為2.20以下，更佳為2.10以下。
    以透明導電膜之形成方法而言，並未受到特別限定，可使用以往周知的方法。具體而言，可使用例如真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法等的乾式程序。
    本發明之透明導電膜係經過圖型化。例如使如上述方式製膜而得的透明導電膜圖型化。圖型化可因應於透明導電性薄膜所適用的用途而形成各種圖型。此外，藉由透明導電膜的圖型化可形成圖型部與非圖型部，而以圖型部的形狀而言，可列舉例如：條狀、格子狀等。
    透明導電膜之圖型化一般而言藉由蝕刻來進行。例如：在透明導電膜上，藉由光蝕刻法、雷射曝光法、或印刷法形成圖型狀的蝕刻光阻膜之後，藉由蝕刻處理，可使透明導電膜圖型化。
    以蝕刻液而言，可使用以往周知的物質。可使用例如：氯化氫、溴化氫、硫酸、硝酸、磷酸等的無機酸、醋酸等的有機酸、以及該等的混合物、還有彼等的水溶液。 [SiO2膜]
    在本發明中，較佳為在第3層與透明導電膜之間設置SiO2膜。這種SiO2膜可藉由使用真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法、電漿CVD法等的乾式程序而進行積層之方法、或藉由濕式塗布法塗布矽溶膠等而進行積層之方法等來形成。在該等之中，較佳為乾式程序法。
    SiO2膜的折射率(ns)較佳為1.43~1.50的範圍，更佳為1.45~1.49的範圍。
    SiO2膜的每一基材薄膜單面的厚度(ds)較佳為5~60nm的範圍，更佳為10~50nm的範圍，特佳為10~40nm的範圍。
    在設置SiO2膜的情況下，每一基材薄膜單面之第2層的光學厚度、第3層的光學厚度及SiO2膜的光學厚度的合計較佳為滿足(1/4)λ。光學厚度如前述般，為折射率與厚度的積，關於λ亦如前述般，為可見光區域的波長範圍380~780nm。厚度的單位為nm。
    亦即，第2層的光學厚度、第3層的光學厚度及SiO2膜的光學厚度的合計較佳為滿足以下的關係式5為佳。
    (380nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦(780nm/4)
    95nm≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦195nm………(式5)。
    進一步而言，λ的範圍較佳為450~650nm。亦即，光學厚度的合計更佳為滿足以下的關係式6。
    (450nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦(650nm/4)
    113nm≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦163nm………(式6)。
    另外，進一步而言，λ的範圍更佳為500~600nm。亦即，光學厚度的合計特佳為滿足以下的關係以式7。
    (500nm/4)≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦(600nm/4)
    125nm≦(n2×d2)+(n3×d3)+(ns×ds)≦150nm………(式7)。
    藉由在第3層與透明導電膜之間設置SiO2膜，可提升透明導電膜之密著性，進一步而言，藉由使SiO2膜的光學厚度在上述的範圍，可抑制透視現象。 [硬塗層]
    在本發明中，在第1層與第2層之間可設置硬塗層。硬塗層的厚度較佳為0.5μm以上，更佳為1μm以上。厚度的上限較佳為10μm以下，更佳為8μm以下，進一步更佳為5μm以下，特佳為3μm以下。
    在第1層與第2層之間設置硬塗層的情況，硬塗層的折射率(nh)、第1層的折射率(n1)與基材薄膜的折射率(nf)較佳為nf>n1>nh。尤其是基材薄膜與第1層的折射率差(nf-n1)及第1層與硬塗層的折射率差(n1-nh)分別較佳為0.1以下，更佳為0.09以下，特佳為0.08以下。下限較佳為0.03以上，更佳為0.04以上。藉由這種方式，可減輕透明導電性薄膜的反射色斑。
    在本發明中，僅在基材薄膜的單面設置第1層、第2層、第3層、透明導電膜、及因應必要SiO2膜或硬塗層的情況，較佳為以在相反的一面設置硬塗層。藉此可抑制寡聚物由基材薄膜析出。此情況下，從減輕透明導電性薄膜之反射色斑這樣的觀點看來，較佳為在基材薄膜與硬塗層之間設置第1層，使其滿足上述折射率的關係。
    在本發明中更佳為在基材薄膜的兩面依序設置第1層與硬塗層，且兩面的基材薄膜的折射率(nf)、第1層的折射率(n1)及硬塗層的折射率(nh)分別較佳為滿足上述關係。以此形態而言，可列舉以下的(1)、(2)之構成。此外，在下述構成例之中，透明導電膜係經圖型化的透明導電膜，透明導電膜以外的其他層並未實施圖型化。
    (1)硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/透明導電膜
    (2)透明導電膜/第3層/第2層/硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/透明導電膜
    硬塗層的折射率(nh)係以在1.46~1.55的範圍為適當，較佳為1.48~1.54的範圍，更佳為1.50~1.53的範圍。
    另外，上述硬塗層可藉由使其含有著色染料或著色顏料而加以著色。藉此可調整透明導電性薄膜之反射色或穿透色。
    硬塗層較佳為藉由濕式塗布法塗布含有熱硬化性或活性能量射線硬化性的樹脂的組成物之後，因應必要使其乾燥，然後使其硬化而得的層。以硬塗層形成用組成物而言，尤其較佳為含有活性能量射線硬化性樹脂之組成物。以濕式塗布法而言，可使用前述塗布方法。
    以活性能量射線硬化性樹脂而言，可使用與前述第2層所使用的物質同樣的物質，故此處的說明省略。另外，可與活性能量射線硬化性樹脂併用之光聚合起始劑，亦可使用與前述第2層所使用的物質同樣的物質，故此處的說明省略。 [透明導電性薄膜]
    本發明之透明導電性薄膜係在基材薄膜的單面或雙面依序具有第1層、第2層、第3層、及透明導電膜。另外，在基材薄膜的單面或雙面可因應必要設置SiO2膜或硬塗層。尤其較佳為在雙面設置硬塗層。
    以下列舉幾個本發明之透明導電性薄膜合適的構成例，然而本發明不受該等所限定。此外，在下述構成例之中，透明導電膜係經圖型化的透明導電膜。透明導電膜以外的其他層並未實施圖型化。
    (a)基材薄膜/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
    (b)第1層/基材薄膜/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
    (c)硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
    (d)第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/透明導電膜
    (e)硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/透明導電膜
    (f)透明導電膜/第3層/第2層/第1層/基材薄膜/第1層/第2層/第3層/透明導電膜
    (g)透明導電膜/第3層/第2層/硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/透明導電膜
    (h)基材薄膜/第1層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
    (i)第1層/基材薄膜/第1層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
    (j)硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
    (k)硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜
    (l)透明導電膜/SiO2膜/第3層/第2層/硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/SiO2膜/透明導電膜 [各層的折射率的關係]
    在本發明之透明導電性薄膜之中，各層的折射率之關係較佳為滿足以下的關係式8。藉由這種方式可進一步抑制透明導電膜圖型的透視現象。
    ．nt>n2≧nf>n1>n3………(式8)
    式中，nt表示透明導電膜的折射率，n2表示第2層的折射率，nf表示基材薄膜的折射率，n1表示第1層的折射率，n3表示第3層的折射率。 [視感反射率]
    在本發明之透明導電性薄膜之中，透明導電膜之圖型部與非圖型部之視感反射率差較佳為3.0%以下，更佳為2.5%以下，特佳為2.0%以下，最佳為1.5%以下。 [透明導電膜之圖型部與非圖型部之色差]
    從抑制透明導電膜圖型的目視辨認(透視)這樣的觀點看來，透明導電膜之圖型部與非圖型部之反射色之色差△E較佳為7以下，更佳為6以下，特佳為5以下。此處，△E係由下述關係式9所表示。
    ．△E={(△L)2+(△a)2+(△b)2}1/2………(式9)
    式中△L=(非圖型部中的L＊值)-(圖型部中的L＊值)
    △a=(非圖型部中的a＊值)-(圖型部中的a＊值)
    △b=(非圖型部中的b＊值)-(圖型部中的b＊值)。
    藉由採用本發明之層構成，可使透明導電膜的圖型部與非圖型部之視感反射率差與色差如上述般平衡良好地降低，其結果可充分抑制透視現象。 [透明導電性薄膜之調色]
    可藉由使選自基材薄膜、第1層、第2層、及第3層之中至少1層含有著色染料或著色顏料來進行著色。藉此可調整透明導電性薄膜之反射色或穿透色。
    另外，在如前述般設置硬塗層的情況下，亦可藉由使硬塗層含有著色染料或著色顏料來加以著色。
    如上述般，藉由調整本發明之透明導電性薄膜之反射色或穿透色，可進一步抑制透明導電膜圖型之透視現象。 [用途]
    本發明之透明導電性薄膜可使用於液晶顯示器、電致發光顯示器等的顯示器或觸控面板等之中的透明電極、抗靜電性薄膜、或電磁波屏蔽薄膜等。本發明之透明導電性薄膜特別適合於觸控面板，尤其適合於其中的靜電容量式觸控面板。另外，本發明之透明導電性薄膜可利用於例如電泳式、扭轉球型、熱敏可重寫式、光儲存液晶式、高分子分散型液晶式、主-客型液晶式、色粉顯示式、變色式、電場沉積式等的可撓性顯示元件。 [實施例]
    以下藉由實施例對本發明進一步作詳細說明，然而本發明並不受這些實施例所限定。此外，在本實施例中的測定方法及評估方法如以下所示。 (1)折射率之測定其1(第1層、第2層、第3層及硬塗層的折射率)
    對於以旋轉塗布機將第1層、第2層、第3層及硬塗層之各個塗布組成物塗布在矽晶圓上所形成的塗膜(乾燥厚度約2μm)，在25℃的溫度條件下，藉由位相差測定裝置(Nikon股份有限公司製：NPDM-1000)，測定633nm的折射率。 (2)折射率之測定其2(基材薄膜的折射率)
    基材薄膜(PET薄膜)的折射率係依據JIS K7105(1981)，並以阿貝折射率計作測定。 (3)折射率之測定其3(透明導電膜及SiO2膜的折射率)
    以與實際的積層條件相同的條件，分別使透明導電膜或SiO2膜積層在已知折射率的PET薄膜上，並使其厚度成為30nm，而製作出折射率測定用樣品。接下來分別測定折射率測定用樣品之透明導電膜薄或SiO2膜之反射率與厚度。從以這種方式所得到的反射率、膜厚度、及PET薄膜的折射率，計算出透明導電膜或SiO2膜的折射率。
    關於上述反射率，係以#320~400的耐水砂紙對於與積層有透明導電膜或SiO2膜的一面相反側的PET薄膜面均勻地擦傷之後，塗布黑色塗料(黑Magic Ink(註冊商標)液)，使其成為由相反側表面所產生的反射已完全消失的狀態，使用島津製作所股份有限公司之分光光度計UV-3150，測定550nm之反射率。
    透明導電膜或SiO2膜的厚度係藉下述(4)之方法作測定。 (4)各層以及各膜的厚度之測定
    從樣品剖面切出超薄切片，藉由穿透式電子顯微鏡(日立製H-7100FA型)，以加速電壓100kV並以5萬倍~30萬倍的倍率觀察樣品的剖面，並測定各層以及各膜的厚度。此外，在各層的邊界不明確的情況，可因應必要實施染色處理。 (5)透明導電膜圖型的目視辨認性
    將樣品置於黑色板上，對於圖型部是否能夠藉由目視辨認，採用以下的基準作評估。僅在基材薄膜的其中一面積層有透明導電膜的樣品的情況，使透明導電膜朝上放置而作評估。基材薄膜的兩面積層有透明導電膜的樣品的情況，使各面的透明導電膜朝上放置，並分別作評估。
    A：圖型部無法以目視辨認。
    B：圖型部稍微能夠以目視辨認。
    C：圖型部以目視能夠明確辨認。 <第1層之塗布組成物> (第1層之塗布組成物1a)
    此組成物係含下述成分之水系分散物：含有萘環之聚酯樹脂100質量份、三聚氰胺系交聯劑(羥甲基型三聚氰胺系交聯劑(三和化學股份有限公司製的「NIKALAC MW12LF」))5質量份、膠狀二氧化矽(日產化學工業股份有限公司製的「SNOWTEX OL」)1質量份。此塗布組成物的折射率為1.58。 (第1層之塗布組成物1b)
    此組成物係含下述成分之水系分散物：丙烯酸樹脂100質量份、三聚氰胺系交聯劑(羥甲基型三聚氰胺系交聯劑(三和化學股份有限公司製的「NIKALAC MW12LF」))5質量份、膠狀二氧化矽(日產化學工業股份有限公司製的「SNOWTEX OL」)1質量份。此塗布組成物的折射率為1.52。 <第2層之塗布組成物> (第2層之塗布組成物2a)
    此塗布組成物係使活性能量射線硬化性樹脂(二季戊四醇六丙烯酸酯10質量份與胺基甲酸酯丙烯酸酯27質量份)37質量份、氧化鋯60質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.70。 (第2層之塗布組成物2b)
    此塗布組成物係使活性能量射線硬化性樹脂(二季戊四醇六丙烯酸酯10質量份與胺基甲酸酯丙烯酸酯27質量份)37質量份、氧化鈦60質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.75。 (第2層之塗布組成物2c)
    此塗布組成物係使活性能量射線硬化性樹脂(二季戊四醇六丙烯酸酯10質量份與胺基甲酸酯丙烯酸酯17質量份)27質量份、五氧化銻70質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.64。 (第2層之塗布組成物2d)
    此塗布組成物係使活性能量線硬化性樹脂(二季戊四醇六丙烯酸酯20質量份與胺基甲酸酯丙烯酸酯57質量份)77質量份、ATO(氧化銻錫)20質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.54。 <第3層之塗布組成物> (第3層之塗布組成物3a)
    此塗布組成物係使活性能量射線硬化性樹脂(以質量比1：3含有二季戊四醇六丙烯酸酯與胺基甲酸酯丙烯酸酯)47質量份、中空二氧化矽50質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.35。 (第3層之塗布組成物3b)
    此塗布組成物係使活性能量射線硬化性樹脂(以質量比1：3含有二季戊四醇六丙烯酸酯與胺基甲酸酯丙烯酸酯)57質量份、中空二氧化矽40質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.37。 (第3層之塗布組成物3c)
    此塗布組成物係使活性能量射線硬化性樹脂(以質量比1：3含有二季戊四醇六丙烯酸酯與胺基甲酸酯丙烯酸酯)82質量份、中空二氧化矽15質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.43。 (第3層之塗布組成物3d)
    此塗布組成物係使二-(α-氟丙烯酸)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-十七氟壬基乙二醇100質量份、聚(丙烯酸-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-十七氟癸基)10質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)1質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.36。 (第3層之塗布組成物3e)
    此塗布組成物係使活性能量線硬化性樹脂(二季戊四醇六丙烯酸酯20質量份與胺基甲酸酯丙烯酸酯62質量份)82質量份、ATO(氧化銻錫)15質量份、及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)3質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.53。 (第3層之塗布組成物3f)
    此塗布組成物係使(甲基)丙烯酸-β-(全氟辛基)乙酯30質量份、季戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物3質量份、及光聚合起始劑(2-甲基-1[4-(甲基硫)苯基]-2-嗎啉丙-1-酮)2質量份分散或溶解於有機溶劑而得。此塗布組成物的折射率為1.43。 [實施例1]
    依照下述要領製作透明導電性薄膜。此外，在使第1層積層於基材薄膜(PET薄膜)的雙面之後，分別製作出僅在基材薄膜(PET薄膜)的單面設置第2層、第3層及透明導電膜的物體(實施例1a)、及設置於雙面的物體(實施例1b)。 <第1層之積層>
    在PET薄膜的製膜步驟內(串聯式)，藉由濕式塗布法(棒塗布法)使第1層之塗布組成物1a積層在折射率為1.65且厚度為125μm之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜)的雙面，使其乾燥厚度成為90nm，而使第1層積層在PET薄膜上。 <第2層之積層>
    藉由濕式塗布法(凹版塗布法)將第2層之塗布組成物2a塗布在上述第1層之上，使其硬化後的厚度成為40nm，然後使其乾燥，並照射紫外線使其硬化，而形成第2層。 <第3層之積層>
    藉由濕式塗布法(凹版塗布法)將第3層之塗布組成物3a塗布在上述第2層之上，使其硬化後的厚度成為35nm，然後使其乾燥，並照射紫外線使其硬化，而形成第3層。 <透明導電膜之積層>
    在上述第3層之上，以濺鍍法積層作為透明導電膜的ITO膜，並使其厚度成為30nm。 <透明導電膜之圖型化>
    僅對藉由上述方式所得到的積層體之透明導電膜實施圖型加工(蝕刻處理)產生條狀圖型，而得到透明導電性薄膜。 [實施例2~16、比較例1~6]
    除了變更為如表1、2所示的構成以外，係以與實施例1同樣的方式製作透明導電性薄膜。將與實施例1同樣地僅在基材薄膜(PET薄膜)的單面設置第2層、第3層及透明導電膜的物體定為實施例2a~16a、比較例1a~6a，將設置於雙面的物體定為實施例2b~16b、比較例1b~6b。 <評估>
    針對藉由上述方式所製作出的各個透明導電性薄膜，評估透明導電膜圖型的目視辨認性。將其結果揭示於表1、2。此外，僅在基材薄膜(PET薄膜)的單面設置第2層、第3層及透明導電膜的物體(實施例1a~16a、比較例1a~6a)與設置於雙面的物體(實施例1b~16b、比較例1b~6b)有同樣的評估結果，因此整理在一起而記載。


    由表1~4的結果看來，明顯可知本發明之實施例的透明導電膜圖型無法以目視辨認，而比較例的透明導電膜圖型能夠以目視辨認。 [實施例17]
    依照下述要領製作透明導電性薄膜。此外，將第1層積層在基材薄膜(PET薄膜)的雙面之後，分別製作出僅在基材薄膜(PET薄膜)的單面設置第2層、第3層、SiO2膜及透明導電膜的物體(17a)與設置於雙面的物體(17b)。 <第1層之積層>
    在PET薄膜的製膜步驟內(串聯式)，藉由濕式塗布法(棒塗布法)將第1層之塗布組成物1a積層在折射率為1.65且厚度為125μm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜)的雙面，使其乾燥厚度成為90nm，而將第1層積層在PET薄膜上。第1層的光學厚度為142nm。 <第2層之積層>
    藉由濕式塗布法(凹版塗布法)將第2層之塗布組成物2a塗布在上述第1層之上，然後使其乾燥，並照射紫外線使其硬化，使其硬化後的厚度成為45nm，而形成第2層。第2層的光學厚度為77nm。 <第3層之積層>
    藉由濕式塗布法(凹版塗布法)將第3層之塗布組成物3d塗布在上述第2層上，然後使其乾燥，並照射紫外線使其硬化，使其硬化後的厚度成為10nm，而形成第3層。第3層的光學厚度為14nm。 <SiO2膜之積層>
    藉由濺鍍法將厚度為30nm之SiO2膜(折射率1.46)積層在上述第3層之上。SiO2膜的光學厚度為44nm。 <透明導電膜之積層>
    以濺鍍法將作為透明導電膜的ITO膜積層在上述SiO2膜之上，並使其厚度成為30nm。 <透明導電膜之圖型化>
    僅對藉由上述方式所得到的積層體之透明導電膜實施圖型加工(蝕刻處理)成條狀，而得到透明導電性薄膜。 <實施例17之評估>
    在實施例17之透明導電性薄膜之中，每一基材薄膜單面之第2層的光學厚度、第3層的光學厚度及SiO2膜的光學厚度的合計為135nm。此透明導電性薄膜(僅設置於單面的物體與設置於雙面的物體)任一者的透明導電膜圖型的目視辨認性皆為「A」。 [實施例18]
    在實施例1a之中，除了在PET薄膜設置有第1層、第2層、第3層及透明導電膜側的一面的第1層與第2層之間，及其相反側的一面的第1層之上設置下述硬塗層以外，係以與實施例1a同樣的方式得到透明導電性薄膜。 <硬塗層之積層>
    藉由濕式塗布法(凹版塗布法)塗布含有活性能量射線硬化性樹脂(以質量比1：3含有二季戊四醇六丙烯酸酯與胺基甲酸酯丙烯酸酯)95質量份、光聚合起始劑(Ciba Specialty Chemicals股份有限公司製的「Irgacure(註冊商標)184」)5質量份的組成物，然後使其乾燥，並照射紫外線使其硬化，而形成厚度為2μm之硬塗層(折射率1.50)。 [實施例19]
    在實施例17a之中，除了在設置有PET薄膜之第1層、第2層、第3層、SiO2膜及透明導電膜側的一面的第1層與第2層之間、及其相反側的一面之第1層之上設置與實施例18同樣的硬塗層以外，係以與實施例17a同樣的方式得到透明導電性薄膜。 <實施例18、19之評估>
    實施例18之透明導電性薄膜之透明導電膜圖型的目視辨認性為「A」。
    實施例19之透明導電性薄膜之透明導電膜圖型的目視辨認性為「A」。 [實施例20]
    在實施例17b之中，除了在設置於PET薄膜兩面的第1層與第2層之間分別設置與實施例18同樣的硬塗層以外，係以與實施例17b同樣的方式得到透明導電性薄膜。 <實施例20之評估>
    實施例20之透明導電性薄膜之透明導電膜圖型的目視辨認性為「A」。
    权利要求:
    Claims (18)
    [1] 一種透明導電性薄膜，其係在折射率為1.61~1.70的基材薄膜的單面或雙面依序具有折射率為1.50~1.60，且每一基材薄膜單面的光學厚度為(1/4)λ之第1層、折射率為1.61~1.80之第2層、折射率為1.50以下的第3層、及折射率為1.81以上且經圖型化的透明導電膜，每一基材薄膜單面之該第2層的光學厚度與該第3層的光學厚度的合計為(1/4)λ，但是，λ為380~780nm。
    [2] 如申請專利範圍第1項之透明導電性薄膜，其中該第1層、該第2層及該第3層任一層皆含有樹脂。
    [3] 如申請專利範圍第1或2項之透明導電性薄膜，其中該第1層、該第2層及該第3層任一層皆藉由濕式塗布法塗布而積層。
    [4] 如申請專利範圍第1至3項中任一項之透明導電性薄膜，其中該第2層及該第3層係分別藉由濕式塗布法塗布活性能量射線硬化性組成物，並使其硬化而得之層。
    [5] 如申請專利範圍第1至4項中任一項之透明導電性薄膜，其中該第2層係藉由濕式塗布法塗布含有活性能量射線硬化性樹脂與金屬氧化物的活性能量射線硬化性組成物，並使其硬化而得之層。
    [6] 如申請專利範圍第1至5項中任一項之透明導電性薄膜，其中該第3層係藉由濕式塗布法塗布活性能量射線硬化性組成物，並使其硬化而得之層，該活性能量射線硬化性組成物相對於該組成物100質量%而言含有含氟化合物30質量%以上。
    [7] 如申請專利範圍第1至6項中任一項之透明導電性薄膜，其中該第2層的每一基材薄膜單面的厚度(d2)為30nm以上。
    [8] 如申請專利範圍第1至7項中任一項之透明導電性薄膜，其中該第3層的每一基材薄膜單面的厚度(d3)為5~50nm。
    [9] 如申請專利範圍第1至8項中任一項之透明導電性薄膜，其中每一基材薄膜單面之該第2層的光學厚度與該第3層的光學厚度的合計在95~163nm的範圍。
    [10] 如申請專利範圍第1至9項中任一項之透明導電性薄膜，其中該基材薄膜為聚酯薄膜。
    [11] 如申請專利範圍第1至10項中任一項之透明導電性薄膜，其中該基材薄膜的折射率(nf)、該第1層的折射率(n1)、該第2層的折射率(n2)、該第3層的折射率(n3)及該透明導電膜的折射率(nt)之關係滿足nt>n2≧nf>n1>n3。
    [12] 如申請專利範圍第1至11項中任一項之透明導電性薄膜，其中在該第1層與該第2層之間具有硬塗層。
    [13] 如申請專利範圍第12項之透明導電性薄膜，其中構成為下述(1)或(2)：(1)硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/透明導電膜(2)透明導電膜/第3層/第2層/硬塗層/第1層/基材薄膜/第1層/硬塗層/第2層/第3層/透明導電膜。
    [14] 如申請專利範圍第12或13項之透明導電性薄膜，其中該基材薄膜的折射率(nf)、該第1層的折射率(n1)及該硬塗層的折射率(nh)之關係滿足nf>n1>nh，且該基材薄膜與該第1層之折射率差(nf-n1)及該第1層與該硬塗層之折射率差(n1-nh)分別為0.1以下。
    [15] 如申請專利範圍第1至14項中任一項之透明導電性薄膜，其中在該第3層與該透明導電膜之間具有SiO2膜。
    [16] 如申請專利範圍第15項之透明導電性薄膜，其中每一基材薄膜單面之該第2層的光學厚度、該第3層的光學厚度及該SiO2膜的光學厚度的合計為(1/4)λ，但是，λ為380~780nm。
    [17] 一種觸控面板，其係具備如申請專利範圍第1至16項中任一項之透明導電性薄膜。
    [18] 如申請專利範圍第17項之觸控面板，其中該觸控面板為靜電容量式觸控面板。
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