专利摘要:
ここでは、非フッ素化結合剤前駆体(例えば、ハードコート組成物の)及び少なくとも1種の重合性ペルフルオロポリエーテルポリマーを含む混合物の反応生成物を含む表面層を有する(例えば、光透過性)基材を含む、光学ディスプレイ及び保護膜などの物品について述べる。得られた硬化表面層は、有利には、低表面エネルギーと組み合わされた低埃引力を示すことができる。重合性エチレン系不飽和基を有するペルフルオロポリエーテルポリマーの合成するための1段階及び2段階法もまた記載されている。
公开号:JP2011508251A
申请号:JP2010538104
申请日:2008-12-10
公开日:2011-03-10
发明作者:キウ,ツァイ−ミン;ピー. クルン,トーマス;ハオ,エンカイ;ヤン,ユ
申请人:スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー;
IPC主号:G09F9-00
专利说明:

[0001] ハードコートは光学ディスプレイの表面を保護するために使用されてきている。ハードコートは典型的には、バインダー前駆体樹脂マトリックスの中に分散しているナノメートル寸法の無機酸化物粒子(例えば、シリカ)を含有しており、「セラマー」と呼ばれる場合もある。]
[0002] 表面エネルギーを低減して、表面インク撥水性及び/又は洗浄容易性を付与するために、フッ素化材料がハードコート中に組み込まれてきた。]
発明が解決しようとする課題

[0003] 本出願人は、フッ素化添加剤をハードコート組成物中に包含することで、有利には、表面エネルギーを低減して、表面インク撥水性及び/又は洗浄容易性を付与することを見出した。しかしながら、このような添加剤を包含することで、不都合なことに、埃をひきつけ易くなる。]
課題を解決するための手段

[0004] 一実施形態では、(例えば、光学ディスプレイ又は保護)物品は、10%以下のセルロース表面引力を示す表面層を有する(例えば、光学)基材を含むものとして記載される。表面層は、A)i)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルモノマー;ii)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)モノマー;及びiii)所望により、ペルフルオロポリエーテル基及びアルキレンオキシド反復単位を欠く少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマー;の反応生成物を含む少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルポリマー;並びにB)少なくとも50質量%の非フッ素化結合剤前駆体の反応生成物を含む。]
[0005] 別の実施形態では、次の一般式によって表すことが可能な重合性ペルフルオロポリエーテルポリマーが記載されている。]
[0006] ]
[0007] 式中、
MFPEは、ペルフルオロポリエーテル基及び少なくとも600g/モルの分子量を有する1種以上のモノエチレン系不飽和モノマーに由来する反復単位を表し;
MAOは、アルキレンオキシド反復単位を有する1種以上のエチレン系不飽和モノマーに由来する反復単位を表し;
MMAは、ペルフルオロポリエーテル基及びアルキレンオキシド反復単位を欠いているエチレン系不飽和モノマーに由来する単位を表し;
各Xは独立してエチレン系不飽和基を含み、
n及びmは各々独立して、1〜100の値を表し、ここでn+mの合計は少なくとも3であり、
qは0〜100の値を表し、かつ
r及びsは各々独立して、r+sの合計が少なくとも1であるという条件で0〜6の値を表す。]
[0008] 得られた硬化表面層は、有利には、低表面エネルギーと組み合わされた低埃引力を示すことができる。]
[0009] 重合性エチレン系不飽和基を有するペルフルオロポリエーテルポリマーを合成するための1段階及び2段階法もまた記載されている。]
実施例

[0010] 本発明で使用する場合、「エチレン系不飽和基」とは、重合性炭素−炭素二重結合を意味する。ペルフルオロポリエーテルポリマーは典型的には、耐久性を改良するためのペンダントエチレン系不飽和基を含む。]
[0011] ペルフルオロポリエーテルポリマーの好ましいエチレン系不飽和基、及びペルフルオロポリエーテルポリマーの合成において用いられるモノマー類は、好適なラジカル供給源にさらした際の、架橋反応に関与する「ラジカル重合性基」である。ラジカル重合性基としては、例えば、(メタ)アクリル基、−SH基、アリル基、又はビニル基及びこれらの組み合わせが挙げられる。]
[0012] 好ましいラジカル重合性基は、(メタ)アクリルアミド、並びに例えば、−C(O)CF=CH2などの場合、フッ素及びイオウにて任意的に置換された(メタ)アクリレートを含む「(メタ)アクリル」基である。]
[0013] 好ましい(メタ)アクリル基としては、メタクリレート及びアクリレートが挙げられる。マルチ(メタ)アクリレート材料には、少なくとも2つの重合性(メタ)アクリレート基が含まれているが、これに対して、モノ(メタ)アクリレート材料には、単一の(メタ)アクリレート基が含まれている。]
[0014] 本明細書に記載される本発明は、少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を含むモノマーに関する。しかしながら、その他の(メタ)アクリル、ラジカル重合性、及びエチレン系不飽和官能基を、記載した(メタ)アクリレート基に代えて用いることが可能であると理解されている。]
[0015] ここでは、A)ペルフルオロアルコキシ反復単位及びポリ(アルキレンオキシド)反復単位、並びに好ましくは少なくとも1つのラジカル重合性基を有する少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルポリマーを含む(例えば、紫外線硬化性)混合物の反応生成物を含む表面層を有する基材からなる、各種(例えば、光学ディスプレイ及び保護フィルム)物品について述べる。ペルフルオロポリエーテルポリマーは、B)少なくとも50質量%の非フッ素化結合剤前駆体(例えば、ハードコート組成物)中に分散されている。]
[0016] ペルフルオロポリエーテルポリマーは、i)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルモノマー;ii)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)モノマー;及びiii)所望により、少なくとも1種のその他のエチレン系不飽和モノマーを含む重合性組成物の反応生成物を含む。本発明で使用する場合、「その他」とは、ペルフルオロポリエーテル基を欠きかつポリ(アルキレンオキシド)基を欠くモノマーを意味する。]
[0017] ペルフルオロポリエーテルポリマーは、単独で又は場合により、その他のフッ素化(例えば、ペルフルオロポリエーテル)添加剤と組み合わされて、低表面エネルギーに寄与する。表面エネルギーは、接触角及びインク忌避性などの各種方法によって特定を決定することができる。好ましくは、表面層は、少なくとも80度の水との静止接触角を示す。より好ましくは、接触角は少なくとも約90度である。最も好ましくは、接触角は少なくとも約100度である。あるいは、又はそれに加えて、ヘキサデカンの後退接触角は少なくとも50度である。より好ましくは、ヘキサデカンの後退接触角は少なくとも60度である。低い表面エネルギーは、露出面を洗浄しやすくすると同時に、防汚性及び染み忌避性をもたらす。]
[0018] 低表面エネルギーの別の指標は、露出面に適用されたときに、ペン又はマーカーからのインクが玉状化する程度に関する。表面層及び物品は、ペン及びマーカーからのインクが玉状化して分離性の液滴になり、キンバリー・クラーク社(Kimberly Clark Corporation)(ジョージア州ロズウェル(Roswell))から「サーパス・フェイシャル・ティッシュ(SURPASSFACIAL TISSUE)」という商標名で入手可能なティッシュなどの、ティッシュ又は紙タオルで露出面を拭くことにより容易に除去することができるとき、「防インク性」を呈する。]
[0019] エチレン系不飽和基を欠くペルフルオロポリエーテルポリマーは、表面層に埃を引きつける力を低減させるが、このアプローチは、ハードコート組成物の重合性結合剤前駆体と共重合させられるエチレン系不飽和基を含むペルフルオロポリエーテルポリマーを用いる場合よりも、耐久性が劣る。]
[0020] 耐久性のあるハードコートは、インク忌避性などのその低表面エネルギー性を保持する。耐久性は、スチールウールでふき取った(実施例にて記載した試験方法に従う)後の表面特性の維持の観点から定義することができる。耐久性のあるハードコートは、50%以下の、好ましくは25%以下の、より好ましくは10%以下のインク忌避性の損失を示し、最も好ましくは実質的に損失が無い。]
[0021] 低表面エネルギーに加えて、本明細書で記載される表面層は、ポリ(アルキレンオキシド)の存在の影響により、埃を引き寄せる力が弱い。本明細書で記載される表面層は、セルロース表面引力試験(Cellulose Surface Attraction Test)(実施例にて更に詳細に記載するような試験)にしたがって、好ましくは20%未満の、より好ましくは10%未満、更により好ましくは5%未満の曇価を有する。]
[0022] ある種の重合性ペルフルオロポリエーテルポリマー及び合成方法もまた本明細書で記載される。]
[0023] ペルフルオロポリエーテルポリマーは、次の一般式によって表すことが可能である。]
[0024] ]
[0025] 式中、
MFPEは、ペルフルオロポリエーテル基及び少なくとも600g/モルの分子量を有する1種以上のモノエチレン系不飽和モノマーに由来する反復単位を表し;
MAOは、アルキレンオキシド反復単位を有する1種以上のエチレン系不飽和モノマーに由来する反復単位を表し;
MMAは、ペルフルオロポリエーテル基及びアルキレンオキシド反復単位を欠いているエチレン系不飽和モノマーに由来する単位を表し;
各Xは独立してエチレン系不飽和基を含み、
n及びmは各々独立して、1〜100の値を表し、ここでn+mの合計は少なくとも3であり;
qは0〜100の値を表し;かつ
r及びsは各々独立して、0〜6の値を表わし、ここでr+sの合計は少なくとも1である。]
[0026] 幾つかの実施形態では、nは少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9又は10であるとともに、典型的には50以下(no greater)であり、mは少なくとも2、5、10、20、40又は100であるとともに、典型的には400以下である。更に、MFPE反復単位数対MAO反復単位数の比は、約1:1〜約1:30の範囲であることができる。一実施形態では、nは1〜10の範囲であり、mは4〜50の範囲である。]
[0027] 式1には示されていないが、ペルフルオロポリエーテルポリマーは、少なくとも1種の(a least one)開始剤の残基及び従来技術で公知な末端基を更に含む。幾つかの実施形態では、ペルフルオロポリエーテルポリマーは、以下で記載されるように連鎖移動剤の残基を更に含む。]
[0028] 幾つかの実施形態では、ペルフルオロポリエーテルポリマーは、ペルフルオロポリエーテル基、MFPEを有する1種以上のモノエチレン系不飽和モノマーを、アルキレンオキシド反復単位、MAOを有する(即ち、MMAを含まない)1種以上のエチレン系不飽和モノマーと重合させることにより調製される。本実施形態では、r(即ち、エチレン系不飽和(メタ)アクリレート基の数)は、少なくとも1であり、幾つかの実施形態では、少なくとも2又は3である。]
[0029] その他の実施形態では、少なくとも1つの他のモノマーMMAが、重合に含まれる。本実施形態では、sは少なくとも1であるとともに、rはゼロであり得る(may by)。あるいは、r及びsがそれぞれ、少なくとも1であってよい。]
[0030] 総モノマー単位に対するペルフルオロポリエーテルモノマー反復単位の総量は通常、少なくとも5、10、20、30、40又は50質量%である。ペルフルオロポリエーテルモノマー反復単位の量が不十分である場合には、ポリマー又はハードコートのインク忌避性が貧弱となる。ペルフルオロポリエーテルモノマー反復単位が多すぎる場合は、有機溶剤中のポリマーの溶解度が低下し、非フッ素化結合剤前駆体とのその相溶性が低下する場合がある。]
[0031] 総モノマー単位に対するポリ(アルキレンオキシド)モノマー反復単位の総量は通常、少なくとも10、20、30、40、50、60又は70質量%である。ポリ(アルキレンオキシド)モノマー反復単位の量が不十分な場合、埃を引き寄せる力がより強くなる(例えば、ヘイズ値がより大きくなる)。]
[0032] その他の(メタ)アクリレートモノマー類がペルフルオロポリエーテルポリマーの重合に含まれる実施形態では、モノマー単位の総量に対するその他の(メタ)アクリレートモノマー単位の総量は、5、10、20、30、又は40質量%である。MMAは、ハードコートの多エチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)結合剤前駆体のうち任意のものであることができる。その他の(メタ)アクリレートモノマー類、MMAが存在することで、ハードコート組成物の結合剤前駆体などのその他の重合性モノマー類とのペルフルオロポリエーテルの相溶性を増大させることができる。幾つかの実施形態(emboidments)では、MMAは、CH2=CMeCO2CH2CH2OH、CH2=CHCO2CH2CH2OH、CH2=CHCO2(CH2)4OH、CH2=CMeCO2(CH2)4OH、HOCH2C(OC(O)CH=CH2)2−CH2OC(O)CH=CH2、CH2=CHC(O)Cl、CH2=CMeC(O)Cl及びCH2=CMeCO2CH2CH2NCOなどの単官能性エチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)モノマーである。]
[0033] エチレン系不飽和を有する各種ペルフルオロポリエーテルモノマーは、ペルフルオロポリエーテルポリマーの重合中で用いるのに好適である。好ましいMFPEペルフルオロポリエーテルモノマーは、次式(2)によって表すことが可能である。]
[0034] (Rf)−[(L1)−(Xf)d]e (式2)
式中、Rfは(ペル)フルオロポリエーテル基であり;L1は連結基であり;Xfは(メタ)アクリル基、−SH基、アリル基、又はビニル基などのラジカル重合性基であり、好ましくは(メタ)アクリレート基又は−C(O)CF=CH2基であり;dは1〜6の範囲であり;eは1又は2である。]
[0035] ペルフルオロポリエーテル基Rfは、直鎖、分岐鎖、環状、又はこれらの組み合わせであることができ、かつ飽和又は不飽和であることができる。ペルフルオロポリエーテルは、鎖中に少なくとも4つの酸素ヘテロ原子を有する。代表的なペルフルオロポリエーテルには、(CpF2p)−、−(CpF2pO)−、−(CF(Z))−、−(CF(Z)O)−、−(CF(Z)CpF2pO)−、−(CpF2pCF(Z)O)−、−(CF2CF(Z)O)−、又はこれらの組み合わせからなる群から選択されるペルフルオロ化反復単位を有するものが挙げられるがこれらに限定されない。これらの繰返し単位において、pは典型的には1〜10の整数である。幾つかの実施形態において、pは1〜8、1〜6、1〜4又は1〜3の整数である。基Zはペルフルオロアルキル基、ペルフルオロエーテル基、ペルフルオロポリエーテル基又はペルフルオロアルコキシ基であり、それらの全ては、線状、分枝状、環状であることが可能である。Z基は、典型的には12以下の炭素原子、10以下の炭素原子、9つ以下の炭素原子、4つ以下の炭素原子、3つ以下の炭素原子、2つ以下の炭素原子又は1つ以下の炭素原子を有する。幾つかの実施形態において、Z基は、4つ以下、3つ以下、2つ以下、1つ以下、又は0の酸素原子を有し得る。これらのペルフルオロポリエーテル構造において、異なる反復単位は鎖に沿って無秩序に分布することが可能である。]
[0036] Rfは一価又は二価であり得る。Rfが一価の幾つかの化合物において、末端基は(CpF2p+1)−、(CpF2p+1O)−、(X’CpF2pO)−、又は(X’CpF2p)−であることができ、式中、X’は水素、塩素、又は臭素であり、pは1〜10の整数である。一価Rf基の幾つかの実施形態において、末端基はペルフルオロ化されており、pは1〜10、1〜8、1〜6、1〜4又は1〜3の整数である。代表的な一価のRf基には、CF3O(C2F4O)aCF2−、C3F7O(CF2CF2CF2O)aCF2CF2−、及びC3F7O(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)−が挙げられ、式中、「a」の平均値は0〜50、1〜50、3〜30、3〜15、又は3〜10である。]
[0037] 二価のRf基の好ましい構造としては、CF2O(CF2O)b(C2F4O)aCF2−、−CF2CF2O(C3F6O)aCF2CF2−、−(CF2)3O(C4F8O)a(CF2)3−、−CF2O(C2F4O)aCF2−、及び−CF(CF3)(OCF2CF(CF3))bOCtF2tO(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)−が挙げられるが、これらに限定されず、式中、a及びbは独立して、0〜50、1〜50、3〜30、3〜15、又は3〜10の平均値を有し;(a+b)の合計は、0〜50又は4〜40の平均値を有し;かつtは、2〜6の整数である。]
[0038] 式(1)の化合物は、合成された場合、典型的にはRf基の混合物を含む。平均的な構造体は、混合物構成成分について平均した構造体である。これらの平均的な構造体におけるq、n、及びsの値は、化合物が少なくとも約600の数平均分子量を有する限り、変化し得る。好ましくは、式(1)の化合物は、700、800、1,000、1100、1200、1300、1400、1500、1600、1700、1800、1900、又は2000及び約5,000、4,000、又は3,000以下の分子量(数平均)を有する。]
[0039] ペルフルオロポリエーテルセグメントとエチレン系不飽和末端基との間の連結基L1としては、アルキレン、アリーレン、ヘテロアルキレン又はそれらの組み合わせから選択される二価基以上の基、及びカルボニル、エステル、アミド、スルホンアミド又はそれらの組み合わせから選択される任意の二価基が挙げられる。L1は非置換であるか、あるいは、アルキル、アリール、ハロ、又はそれらの組み合わせにて置換されることができる。L1基は、通常、30以下の炭素原子を有する。幾つかの化合物では、L1基は、20以下の炭素原子、10以下の炭素原子、6つ以下の炭素原子、又は4つ以下の炭素原子を有する。例えば、L1は、アリーレン若しくはアルキルエーテル又はアルキルチオエーテル連結基と組み合わされた、アルキレン、アリール基で置換されているアルキレン、又はアルキレンであることができる。]
[0040] ペルフルオロポリエーテルアクリレート化合物は、米国特許第3,553,179号及び同第3,544,537号、並びに米国特許公開公報第2004/0077775号に記載されているものなど、公知の技法で合成することができる。]
[0041] フルオロポリエーテル(メタ)アクリレート化合物は、末端ヒドロキシル基を有するフルオロポリエーテル化合物のヒドロキシル基に(メタ)アクリル基を導入することによって製造してよい。このようなヒドロキシル基含有フルオロポリエーテル化合物の好適例としては、以下のものが挙げられる。]
[0042] HOCH2−CF2O−[CF2CF2O]1−[CF2O]m−CF2CH2OH、
F−[CF2CF2CF2O]1−CF2CF2CH2OH、
F−[CF(CF3)CF2O]1−CF(CF3)CH2OH、
HO(CH2CH2O)n−CH2−CF2O−[CF2CF2O]1−[CF2O]m−CF2CH2(OCH2CH2)nOH、及び
HOCH2CH(OH)CH2O−CH2−CF2O−[CF2CF−2O]1−[CF2O]m−CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH。]
[0043] 幾つかの実施形態では、ペルフルオロポリエーテル基は、「HFPO−」末端基、即ち、末端基F(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)−(メチルエステルF(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)C(O)OCH3)を含み、式中、「a」の平均は2〜15である。幾つかの実施形態では、「a」は平均値で少なくとも3又は4である。典型的には、「a」は10以下又は8である。このような化合物は、一般にaの値の範囲のオリゴマーの分散物又は混合物として存在し、その結果aの平均値は非整数であり得る。一実施形態において、aは平均して約6となる。]
[0044] 供給者によって1.341の屈折率を有するものとして報告される、1つの好適なペルフルオロポリエーテルジアクリレートオリゴマーは、サルトマー(Sartomer)から「CN4000」の商標名で市販されている。低屈折率の観点から、本材料は、少なくとも約50質量%のフッ素含有量を有しているものと考えられる。NMR分析に基づく、CN4000の分子量(Mn)は約1300g/モルである。]
[0045] 重合法は特に制限されていないが、通常、ペルフルオロポリエーテルポリマーは、有機溶媒による(例えば、非フッ素化)希釈溶液中での溶液重合によって調製される。]
[0046] ペルフルオロポリエーテルポリマーの調製においては、単一有機溶媒又は溶媒ブレンドを用いることができる。用いるラジカル重合可能物質によるが、適切な溶媒としては、アルコール(イソプロピルアルコール(IPA)又はエタノールなど)、ケトン(メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、ジイソブチルケトン(DIBK)など)、シクロヘキサノン又はアセトン、芳香族炭化水素(トルエンなど)、イソホロン、ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、エステル(ラクテート、アセテート、例えば3Mから「3Mスコッチカルシンナー(3M Scotchcal Thinner)CGS10(「CGS10」)」という商標名で市販されているようなプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3Mから「3Mスコッチカルシンナー(3M Scotchcal Thinner)CGS50(「CGS50」)」という商標名で市販されているような2−ブトキシメチルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート(DEアセテート)、エチレングリコールブチルエーテルアセテート(EBアセテート)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(DPMA)、イソ−アルキルエステル、例えばイソヘキシルアセテート、イソヘプチルアセテート、イソオクチルアセテート、イソノニルアセテート、イソデシルアセテート、イソドデシルアセテート、イソトリデシルアセテート、又は、その他のイソ−アルキルエステル)、これらの混合物などが挙げられる。しかしながら、以下で記載されるように2段階工程中にウレタン結合が形成される場合、一般に−OH基を持つ溶媒は避ける。]
[0047] 典型的には、少なくとも1種のラジカル反応開始剤が、ペルフルオロポリエーテルポリマーの調製のために利用される。有用なラジカル熱反応開始剤としては、例えばアゾ、過酸化物、過硫酸塩、酸化還元反応開始剤類及びこれらの組み合わせが挙げられる。有用なラジカル光開始剤としては、例えば、アクリレートポリマー類のUV硬化において有用として知られているものが挙げられる。幾つかの実施形態では、ポリマーは熱反応開始剤を使用して溶液重合させられ、次に、結合剤前駆体と組み合わされた後に光重合させられる。これに加えて、その他の添加剤を最終組成物に加えてもよい。この添加剤としては、樹脂性流動助剤、光安定剤、高沸点溶媒、及び当業者に公知の他の相溶化剤などが挙げられるがそれらに限定されない。]
[0048] 一実施形態では、i)少なくとも1つのエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)基を含む少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルモノマー;ii)少なくとも1つのエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)基を含む少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)モノマー;及びiii)所望により、少なくとも1つのエチレン系不飽和を含む少なくとも1種の他のモノマーが、1段階工程にて同時に重合させられる。出発材料たるモノマー(即ち、ii)及び/又はiii))のうち少なくとも1つは、少なくとも2つの重合性エチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)基を含む。少なくとも1種の多官能性モノマー及びコントロールされた反応条件を用いることによって、これにより形成されたペルフルオロポリエーテルポリマーが典型的には、結合剤前駆体と組み合わされた後に紫外線エネルギーにさらすなどによって架橋可能な未反応(メタ)アクリレートエチレン系不飽和基を含む。]
[0049] 幾つかの実施形態では、ペルフルオロポリエーテルモノ−(メタ)アクリレートモノマーは、ポリ(アルキレンオキシド)マルチ−(メタ)アクリレートモノマーと共重合する。他の態様では、ペルフルオロポリエーテルマルチ−(メタ)アクリレートモノマーは、ポリ(アルキレンオキシド)モノ−(メタ)アクリレートモノマーと共重合する。更に他の態様では、ペルフルオロポリエーテルマルチ−(メタ)アクリレートモノマーは、ポリ(アルキレンオキシド)マルチ−(メタ)アクリレートモノマーと共重合する。ペルフルオロポリエーテルポリマーはまた、ペルフルオロポリエーテルモノ−(メタ)アクリレートモノマー、ポリ(アルキレンオキシド)モノ−(メタ)アクリレートモノマー、及び少なくとも1種の他のマルチ−(メタ)アクリレートモノマーを反応させることによって形成することもできる。]
[0050] 反応生成物は、未反応モノマー出発物質、オリゴマー種、及び超分岐構造を有するペルフルオロポリエーテル高分子種の混合物を含むと推測される。超分岐ポリマーは、構造繰返し単位が3以上の連結性を有する任意のポリマーであると定義され、この定義は超架橋ポリマーに拡大されてもよい(大員環は存在するが、はしご型ポリマー及びスピロポリマーには拡大されない)。上記の超分岐ポリマーは、可溶性又は分散性を維持した状態で高分子量を有していると推測される。]
[0051] 形成されたペルフルオロポリエーテルポリマーは、相溶性(例えば、非フッ素化)有機溶剤中に溶解させ又は分散させることができる。典型的には、ペルフルオロポリエーテルポリマーは、少なくとも5質量%固体の濃度で存在する。幾つかの実施形態では、濃度は少なくとも約10質量%である。約15質量%の濃度で、組成物はゲル化し得る。ペルフルオロポリエーテルポリマーの分子量を最大にするために、ポリマーの濃度は、ゲル転移を引き起こす濃度にほぼ等しいが、より低いことが典型的には好ましい。]
[0052] 1段階法のため、ポリ(アルキレンオキシド)エチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)モノマー、MAOは、次の一般式によって表すことが可能である。]
[0053] R1L4(CiH2iO)jL2Xk
(式3)
式中、
R1は、H又は1〜18の炭素原子を有する低級アルキル基又はXであり;
iは、2〜4の範囲であり;
jは、4〜250の範囲であり;
Xは、(メタ)アクリレートなどのエチレン系不飽和基を含み;
kは1〜4の範囲であり、1〜2が好ましく;
L2は共有結合又はL1(即ち、上述したように二価又はより高い価数の連結基)を表し;かつ
L4はヘテロ原子又はL2を表す。]
[0054] 幾つかの実施形態では、iは好ましくは2若しくは3、又は少なくとも1種のポリ(エチレンオキシド)エチレン系不飽和モノマー及び少なくとも1種のポリ(プロピレンオキシド)エチレン系不飽和モノマーの混合物である。典型的には、ポリ(アルキレンオキシド)モノマーは、少なくとも200g/モル、250g/モル、又は300g/モルの分子量を有する。更に、分子量は通常、約5000g/モル以下であり、好ましくは約3000g/モル未満である。]
[0055] あるいは、ペルフルオロポリエーテルポリマーは、以下のものをラジカル重合させることによってペルフルオロポリエーテル(例えば、(メタ)アクリレート)ポリマー中間体を形成することを含む2段階工程にて調製可能である。]
[0056] i)少なくとも1つのエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)基を含む少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルモノマー;
ii)少なくとも1つのエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)基を含む少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)モノマー;及び
iii)所望により、少なくとも1つのエチレン系不飽和を含む少なくとも1種の他のモノマー。]
[0057] 2段階法では、i)、ii)又はiii)のうち少なくとも1つは、エチレン系不飽和を含まず、したがってラジカル重合を受けず、その後に反応してエチレン系不飽和を導入可能な反応性基、−RAを更に含む。]
[0058] 2段階法のため、ポリ(アルキレンオキシド)エチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)モノマー、MAOは、上述したように式3によって表すことが可能である。他の実施形態では、あるいは、R1は反応性基、RAを含む。RAは典型的には、−OH又は−NR1Hであり、ここでR1はH又は1〜4つの炭素原子を持つ低級アルキルである。]
[0059] 反応のこの第1段階は、重合したエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)連結によってポリ(アルキレンオキシド)に結合したペルフルオロポリエーテル単位を含むランダムコポリマーを生成する場合がある。あるいは、他の反応順序を用いて、このようなモノマーからブロックコポリマーを製造することもできる。ランダム又はブロックコポリマーは、1つ以上の非ラジカル重合性反応性−RA基(類)を更に含む。出発物質たるモノマーの選択によって、反応の第1段階は以下の式4A〜4Cのいずれかによって表すことが可能である。]
[0060] ]
[0061] ペルフルオロポリエーテル(例えば、(メタ)アクリレート)ポリマー中間体が形成された後、少なくとも一部、好ましくはほぼ全部の未反応−RA基(類)は、iv)−RA基(類)と反応するRB−基及び少なくとも1つのエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)基、−Xを含むモノマーRB−Xと反応する。反応のこの第2段階では、非ラジカル反応機構によるため、モノマーiv)のエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)基(類)は、RB−の−RAとの反応によって、ペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリレート((meth)acrylate))ポリマー主鎖内へと導入される。出発物質たるモノマーの選択によって、反応の第2段階は以下の式5A〜5Cのいずれかによって表すことが可能である。]
[0062] ]
[0063] 幾つかの好ましい実施形態では、重合性(メタ)アクリレート基は、ウレタン結合の形成を介して、ペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリレートポリマー主鎖上へと反応させられる。このため、反応性基−RAはイソシアネート(即ち、−NCO)基を含み、RB−はヒドロキシル基、又はアミン基などのイソシアネート反応性基を含み、あるいはこの逆の場合もある。]
[0064] 一選好実施形態では、ペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリレートモノマーは、反応性ヒドロキシ基を含むポリ(アルキレンオキシド)(メタ)アクリレートモノマーと最初に重合させられる。得られたヒドロキシ基を備えるペルフルオロポリエーテルポリマーは、ウレタン結合を介した付加反応によってOCNC2H4OC(O)CMe=CH2などのRB−(X)rと更に反応させる。PEOが少なくとも4つの反復単位を含むポリエチレンオキシドであるとともに、HFPO−が式F(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)−を有するペルフルオロポリエーテル部分を含み、かつ「a」が4〜15の範囲である代表的反応順序を以下に示す。]
[0065] ]
[0066] 反応性RA基、MAO−RAを備えた有用なポリ(アルキレンオキシド)(メタ)アクリレートモノマー類としては、CH2=CHC(O)−(OC2H4)e−OH、CH2=CMeC(O)−(OC2H4)e−OH、CH2=CHC(O)−(OC3H6)e−OH、CH2=CMeC(O)−(OC3H6)e−OH、CH2=CHC(O)−(OC4H8)e−OH、CH2=CMeC(O)−(OC4H8)e−OH、及びCH2=CHC(O)−NH(C2H4O)e−C2H4NHMe(式中、eは少なくとも4である)が挙げられるが、これらに限定されない。]
[0067] 別の選好実施形態では、ペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリレートモノマーは、ポリ(アルキレンオキシド)(メタ)アクリレートモノマー及び反応性ヒドロキシ基を含むその他の(メタ)アクリレートモノマーと最初に重合させられる。得られたヒドロキシ基を備えるペルフルオロポリエーテルポリマーは、ウレタン結合を介した付加反応によってOCNC2H4OC(O)CMe=CH2などのRB−(X)sと更に反応させる。代表的反応順序を以下に示す。]
[0068] ]
[0069] 有用なMMA−RAの例としては、CH2=CHC(O)−OC2H4−OH、CH2=CMeC(O)−OC2H4−OH、CH2=CHC(O)−OC3H6−OH、CH2=CMeC(O)−OC3H6−OH、CH2=CHC(O)−OC4H8−OH、CH2=CMeC(O)−OC4H8−OH、CH2=CHC(O)−NHC2H4NHCH3、CH2=CMeC(O)−NHC2H4NHCH3、CH2=CHC(O)−NHC3H6NHCH3、及びCH2=CMeC(O)−NHC3H6NHCH3が挙げられるが、これらに限定されない。]
[0070] 別の選好実施形態では、ペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリレートモノマーは、ポリ(アルキレンオキシド)(メタ)アクリレートモノマー及び反応性イソシアネート基を含むその他の(メタ)アクリレートモノマーMMAと最初に重合させられる。反応性イソシアネート基を備える得られたペルフルオロポリエーテルポリマーは、RB−(X)s(式中、RBはヒドロキシル基又はアミン基から選択されるイソシアネート反応性基である)と更に反応させる。]
[0071] ]
[0072] イソシアネート反応性基RB−Xを備えた有用なエチレン系化合物としては、CH2=CHC(O)−OC2H4−OH、CH2=CMeC(O)−OC2H4−OH、CH2=CHC(O)−OC3H6−OH、CH2=CMeC(O)−OC3H6−OH、CH2=CHC(O)−OC4H8−OH、CH2=CMeC(O)−OC4H8−OH、CH2=CHC(O)−NHC2H4NHCH3、CH2=CMeC(O)−NHC2H4NHCH3及びCH2=CMeC(O)−NHC3H6NHCH3、HOCH2C(OC(O)CH=CH2)2−CH2OC(O)CH=CH2、CH2=CHC(O)−(OC2H4)e−OH、CH2=CMeC(O)−(OC2H4)e−OH、CH2=CHC(O)−(OC3H6)e−OH、CH2=CMeC(O)−(OC3H6)e−OH、CH2=CHC(O)−(OC4H8)e−OH、CH2=CMeC(O)−(OC4H8)e−OH、及びCH2=CHC(O)−NH(C2H4O)e−C2H4NHMe、CH2=CHOCH2CH2OH、CH2=CHCH2OH、及びCH2=CH−Ph−CH2OHが挙げられるが、これらに限定されない。]
[0073] 他の代表的なこの種の反応順序は、コポリマーD及びJの合成などの下記実施例にて図示されている。]
[0074] 分子量は、反応条件例えば反応時間、反応温度、及び反応開始剤量等によってコントロールすることができる。2段階プロセスでは、i)ペルフルオロポリエーテルモノマー(類)、ii)ポリ(アルキレンオキシド)モノマー(類)、及びiii)任意のその他モノマー(類)が、モノエチレン系不飽和(例えば、(メタ)アクリレート)モノマー類であることが好ましい。RB−と−RAとの反応に関して、(メタ)アクリレートモノマー、RB−Xが単官能性であることも好ましい。しかし、RB−Xを介して組み込まれるエチレン系不飽和基の数(即ち、r及び/又はs)は、1より大きくてよく、これにより形成されたペルフルオロポリエーテルポリマーをマルチ−(メタ)アクリレートポリマーにしてよい。代表的合成は、コポリマーDに関して下記実施例で示されている。]
[0075] ペルフルオロポリエーテルポリマーの分子量は更に、好適な連鎖移動剤を添加することによってコントロールしてよい。連鎖移動剤を使用して、連鎖停止を促進して、ゲル形成を制限することができる。有用な連鎖移動剤としては、例えば、チオール、及びポリハロカーボンが挙げられる。市販の連鎖移動剤の例としては、テトラブロモメタン、1−ヘキサンチオール、1−ヘプタンチオール、1−オクタンチオール、1−ノナンチオール、1−デカンチオール、1−ドデカンチオール、1−オクタデシルメルカプタン、1−ペンタデカンチオール、1−ヘキサデシルメルカプタン、第3ノニルメルカプタン、第3ヘキサデシルメルカプタン、第3テトラデシルメルカプタン、1H,1H,2H,2H−ペルフルオロヘキサンチオール及び1H,1H,2H,2H−ペルフルオロドデシル−1−チオールが挙げられる。]
[0076] 具体的には、連鎖移動剤は、ペルフルオロポリエーテルポリマーの末端に硬化性エチレン系基を更に導入するのに有用であるイソシアネート反応性基などの追加の反応性基を含有してよい。イソシアネート反応性基を備えた連鎖移動剤は、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、2−メルカプトエチルトリエトキシ(mercaptoethyltriethoy)シラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、2−メルカプト−1−エタノール、6−メルカプト−1−ヘキサノール、11−メルカプト−1−ウンデカノール、2−メルカプトエチルメチルアミン、2−(ブチルアミノ)エタンチオール、n−ブチル−3−メルカプトプロピオネート、チオグリコール酸、3−メルカプトプロピオン酸、4−メルカプト酪酸、11−メルカプトウンデカン酸、及び2−エチルヘキシル(ethylehexyl)−3−メルカプトプロピオネートであるが、これらに限定されない。]
[0077] 連鎖移動剤は、必須アルキレンオキシド反復単位(repeat)を含有してよい。アルキレンオキシド反復単位を備えたメルカプタン連鎖移動剤の調製は、文献に記載された既知の手順、例えば、CH3O(CH2CH2O)e−HをHSCH2CO2Hとエステル化(estification)してCH3O(CH2CH2O)e−C(O)CH2SHを形成することにしたがって行なうことができる。]
[0078] 2段階法から調製されるペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリレートポリマーは、比較的低い多分散性を有することができる。幾つかの実施形態では、多分散性は5、4、3、2.5又は2未満である。ペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリレートポリマーの分子量(標準ポリスチレンを対照してGPCにて決定)は通常、少なくとも5,000g/モルである。典型的には、分子量は100,000g/モル以下である。幾つかの実施形態では、好ましくは分子量は約6,000g/モル〜約50,000g/モルの範囲である。]
[0079] 本明細書に記載されているペルフルオロポリエーテルポリマーは、1層又は2層のハードコート組成物の単一フッ素化構成成分として用いることができる。高い耐久性が望まれる実施形態に関して、1層のハードコート組成物は典型的には更に(例えば、表面改質されている)無機粒子を含む。あるいは、無機粒子含有ハードコートは、ペルフルオロポリエーテル含有表面層の真下に提供することができる。1層のハードコート表面層又は2層のハードコートからなる下層のハードコートの厚さは通常、少なくとも0.5マイクロメートル、好ましくは少なくとも1マイクロメートル、より好ましくは少なくとも2マイクロメートルである。ハードコート層の厚さは一般的に、25マイクロメートル以下である。好ましくは、厚みは3マイクロメートル〜5マイクロメートルの範囲である。2層構造の場合、硬化表面層は通常、少なくとも約10nm、好ましくは少なくとも約25nmの厚みを有する。典型的には、表面層は、約200nm、100nm、又は75nm未満の厚みを有する。]
[0080] 本明細書に記載されるペルフルオロポリエーテルポリマーは、単独で又は少なくとも1つのラジカル反応性基に連結されているフルオロポリエーテル、フルオロアルキル、及びフルオロアルキレンから選択される少なくとも1つの部分を有する様々な他のフルオロ化化合物と組み合わせて、使用されてよい。第2のフルオロ化化合物が使用されるとき、このような第2のフルオロ化化合物もHFPO−部分を含むことが典型的には好ましい。各種フッ素化材料は、国際公開特許第2006/102383号に記載されているようなペルフルオロポリエーテルポリマー材料と組み合わせて用いることができる(that can be employed)。]
[0081] ペルフルオロポリエーテルポリマーの総量は、ハードコート組成物の総固形分の、5質量%〜50質量%、好ましくは10質量%〜45質量%、より好ましくは20質量%〜40質量%の範囲である。ハードコートコーティング組成物は、少なくとも50質量%、60質量%、70質量%、80質量%、90質量%、又は99.5質量%の1種以上のエチレン系不飽和結合剤前駆体を含む。典型的には、結合剤前駆体は、ハードコート組成物を一旦コーティングしたら光硬化が可能な多官能性ラジカル重合性モノマー(類)及び/又はオリゴマー(類)である。有用なマルチ−(メタ)アクリレートモノマー類及びオリゴマー類としては、次のものが挙げられるが、これらに限定されない。]
[0082] (a)ジ(メタ)アクリル含有化合物、例えば1,3−ブチレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノアクリレートモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、アルコキシル化脂肪族ジアクリレート、アルコキシル化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、アルコキシル化ヘキサンジオールジアクリレート、アルコキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン修飾ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジアクリレート、カプロラクトン修飾ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド修飾トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールアクリレート;
(b)トリ(メタ)アクリル含有化合物、例えば、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリアクリレート(例えば、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート)、プロポキシル化トリアクリレート(例えば、プロポキシル化グリセリルトリアクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート;
(c)より高官能性の(メタ)アクリル含有化合物、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシル化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート。]
[0083] 例えば、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、及びエポキシアクリレートなどのオリゴマー(メタ)アクリル化合物もまた用いることができる。]
[0084] 結合剤前駆体は、上記の異なった種類のマルチ−(メタ)アクリレートモノマー類及びオリゴマー類の組み合わせであることができる。]
[0085] このような(メタ)アクリレート化合物は、例えば、ペンシルバニア州エクストン、サートマー社(Sartomer Company,Exton,Pennsylvania);ジョージア州スミルナ、UCBケミカルズ社(UCB Chemicals Corporation,Smyrna,Georgia);及びウィスコンシン州ミルウォーキー、アルドリッチ・ケミカル社(Aldrich Chemical Company,Milwaukee,Wisconsin)などの供給業者から広く入手可能である。]
[0086] 一実施形態では、ハードコートは、米国特許第5,677,050号(ビルカディ(Bilkadi)ら)に記載されているように、1つ以上のN,N−二置換アクリルアミド及び/又はN−置換−N−ビニル−アミドモノマーを含んでよい。ハードコートは、セラマー組成物中の固形分の総質量に基づいて、約20〜約80%のエチレン性不飽和モノマー及び約5〜約40%のN,N−二置換アクリルアミドモノマー又はN−置換−N−ビニル−アミドモノマーを含有するセラマー組成物に由来してよい。]
[0087] 幾つかの実施形態では、ハードコート表面層コーティング組成物は、少なくとも50質量%、60質量%、70質量%、80質量%、90質量%、又は99.8質量%の、少なくとも3つの(メタ)アクリレート、好ましくは少なくとも3つのアクリレート基を有するモノマーを含む。]
[0088] ハードコート表面層又は下層のハードコート層として使用するための(for use a)重合性組成物は、好ましくは、得られるコーティングに機械的な強度及び耐久性を加える、表面改質されている無機粒子を含有する。その粒子は、典型的には、その形状が実質的に球状であり、そのサイズが比較的均一である。その粒子は、実質的に単分散の粒径分布を有していてもよいし、あるいは、実質的に単分散分布のものを2つ以上ブレンドすることにより得られる多分散の分布を有していてもよい。その無機酸化物粒子は、典型的には非凝集(実質的に分散)であるが、それは、凝集が起きると、無機酸化物粒子が沈降したり、ハードコートのゲル化が起きたりする可能性があるからである。無機酸化物粒子は、典型的に約0.001〜約0.2マイクロメートル、約0.05マイクロメートル未満及び約0.03マイクロメートル未満の平均粒径を有するコロイドである。これらの範囲のサイズであると、バインダー樹脂の中に無機酸化物粒子を分散させるのが容易となり、所望の表面特性と光学的透明度を有するセラマーが得られる。無機酸化物粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡を使用して、所与の直径の無機酸化物粒子の数を数えて測定できる。無機酸化物粒子は、例えばシリカのような単一の酸化物から本質的になるか、又はなっていてもよく、あるいは例えばシリカと酸化アルミニウムのような酸化物の組み合わせを含んでよく、あるいは1つのタイプの酸化物のコア(又は金属酸化物以外の材料のコア)と、その上に他のタイプの酸化物を析出させたものであることができる。シリカが、一般的な無機粒子である。無機酸化物粒子は、液状媒体の中に無機酸化物粒子のコロイド状分散物を含むゾルの形態で供給されることも多い。例えば、米国特許第5,648,407号(ゴエッツ(Goetz)ら)、同第5,677,050号(ビルカディ(Bilkadi)ら)及び同第6,299,799号(クレイグ(Craig)ら)に記載されているように、ゾルは、様々な技術を使用し、水性ゾル(水が液体媒体として作用する)、有機ゾル(有機液体がそのように作用する)、及び混合ゾル(液体媒体が水と有機液体の両方を含有する)を包含する様々な形態に調製できる。(例えば、非晶質シリカの)水性ゾルを使用することも可能である。ゾルには一般に、ゾルの全質量を基準にして、少なくとも2質量%、少なくとも10質量%、少なくとも15質量%、少なくとも25質量%、そして多くの場合少なくとも35質量%のコロイド状無機酸化物粒子を含有する。コロイド状の無機酸化物粒子の量は典型的には50質量%以下である(例えば、45質量%)。無機粒子の表面は、ビルカディ(Bilkadi)らに記載されるように「アクリレート官能化」することができる。ゾルは、バインダーのpHに適合させることもでき、対イオン又は水溶性化合物(例えば、アルミン酸ナトリウム)を含有することができ、これらは全てカン(Kang)らによる’798号特許に記載されている。]
[0089] 例えばジルコニア(「ZrO2」)、チタニア(「TiO2」)、酸化アンチモン、アルミナ、酸化スズなどの様々な高屈折率無機酸化物粒子を、単独で又は組み合わせて使用することができる。混合金属酸化物が使用されてもよい。高屈折率層内で使用するためのジルコニア類は、「ナルコOOSSOO8(Nalco OOSSOO8)」の商標名で、ナルコ・ケミカル社(Nalco Chemical Co.)から、及び「ビューラー・ジルコニアZ−第ゾル(Buhler zirconia Z-WO sol)」の商標名で、ビューラーAG(Buhler AG)(スイス、ウッツヴィル)から、入手可能である。ジルコニアナノ粒子は、米国特許第6,376,590号及び同第7,241,437号に記載されているようにして調製することもできる。]
[0090] ハードコートの無機ナノ粒子は、好ましくは表面処理剤にて処理される。ナノサイズ粒子を表面処理することで、ポリマー樹脂中での安定した分散を提供することができる。好ましくは、粒子が重合性樹脂中に良好に分散されて、実質的に均一な組成物を生じるように、ナノ粒子を表面処理により安定化させる。更に、安定化させた粒子が硬化中に重合性樹脂と共重合又は反応できるように、ナノ粒子の表面の少なくとも一部分を表面処理剤により改質しうる。表面修飾無機粒子の導入は、粒子の共有結合がラジカル重合性有機構成成分の影響を受けやすくして、より丈夫かつより均質なポリマー/粒子ネットワークを提供しやすくする。]
[0091] 一般に、表面処理剤には、粒子表面に結合(共有結合、イオン結合、又は、強力な物理吸着による結合)することになる第1の末端部と、粒子に樹脂との相溶性をもたらすか、及び/又は、硬化中に樹脂と反応する、第2の末端部が備わっている。表面処理剤の例としては、アルコール類、アミン類、カルボン酸類、スルホン酸類、ホスホン酸類、シラン類、及びチタネート類が挙げられる。好ましいタイプの処理剤は、金属酸化物表面の化学的性質によりある程度は決定される。シリカに対してはシランが好ましく、ケイ酸質充填剤に対しては他のものが好ましい。ジルコニアのような金属オキシドに対しては、シラン及びカルボン酸が好ましい。表面改質は、モノマーとの混合に続いて又は混合後のいずれかで行うことができる。シランの場合、樹脂へ組み込む前にシランを粒子又はナノ粒子の表面と反応させるのが好ましい。表面変性剤の必要量は、粒子サイズ、粒子タイプ、変性剤の分子量、及び変性剤のタイプのようないくつかの要素に依存する。一般的には、おおむね単層の改質剤を粒子の表面に結合させることが好ましい。必要とされる結合手順又は反応条件もまた、使用する表面改質剤によって左右される。シランの場合、酸性又は塩基性の条件の下、高温で約1〜24時間表面処理することが好ましい。カルボン酸のような表面処理剤では、高温や長時間を必要としないこともある。]
[0092] 本組成物に適している表面処理剤の代表的な実施形態としては例えば、イソオクチルトリメトキシ−シラン、N−(3−トリエトキシシリルプロピル)メトキシエトキシエトキシエチルカルバメート、N−(3−トリエトキシシリルプロピル)メトキシエトキシエトキシエチルカルバメート、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリエトキシシラン、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルメチルジメトキシシラン、
3−(アクリロイルオキシプロピル)メチルジメトキシシラン、
3−(メタクリロイルオキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリ−t−ブトキシシラン、ビニルトリス−イソブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、スチリルエチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、ステアリン酸、ドデカン酸、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸(MEEAA)、β−カルボキシエチルアクリレート(BCEA)、2−(2−メトキシエトキシ)酢酸、メトキシフェニル酢酸、及び、これらの混合物のような化合物が挙げられる。]
[0093] コロイド状分散体における粒子の表面改質は、米国特許第6,376,590号及び同第7,241,437号に記載されているような様々な既知の方法で達成することができる。]
[0094] 開環重合を起こす環式官能基には一般的に、酸素、イオウ、又は、窒素のようなヘテロ原子が含まれており、好ましくは、エポキシドのように酸素を含有する3員環である。]
[0095] 表面改質剤の好ましい組み合わせは、重合性樹脂の有機構成成分(例えば、アクリレート、メタクリレート、又はビニル基を有する)と共重合可能である官能基を有する少なくとも1つの表面改質剤と、分散剤として作用し得る、ポリエーテルシランのような、第2の両親媒性改質剤とを含む。第2の改質剤は、好ましくは重合性組成物の有機構成成分と所望により共重合性である改質剤を含有するポリアルキレンオキシドである。]
[0096] 表面修飾コロイド状ナノ粒子は、実質的に完全に凝縮可能である。非シリカ含有完全凝縮ナノ粒子の結晶化度(独立金属酸化物粒子として測定した場合)は、典型的には55%超、好ましくは60%超、より好ましくは70%超である。例えば、結晶化度は、約86%までの範囲内又はそれ以上にすることができる。結晶化度は、X線回折法によって決定することができる。凝縮結晶性のナノ粒子(例えば、ジルコニアナノ粒子)は屈折率が高いが、非晶質ナノ粒子は典型的には屈折率がより低い。]
[0097] 硬化を促進するために、本明細書に記載されている重合性組成物は少なくとも1種のラジカル熱反応開始剤及び/又は光開始剤を更に含んでよい。このような開始剤及び/又は光開始剤が存在する場合、これは、重合性組成物の総質量に基づいて、典型的には、重合性組成物の約10質量%未満、より典型的には、約5質量%未満を含む。ラジカル硬化技術は当該技術分野において周知であり、そして例えば熱硬化法並びに電子ビーム又は紫外線等の放射線硬化法が挙げられる。ラジカル熱重合及び光重合技術に関する更なる詳細は、例えば、米国特許第4,654,233号(グラント(Grant)ら)、同第4,855,184号(クルン(Klun)ら)、及び同第6,224,949号(ライト(Wright)ら)に見い出してもよい。有用なラジカル熱反応開始剤としては、例えばアゾ、過酸化物、過硫酸塩、酸化還元反応開始剤類及びこれらの組み合わせが挙げられる。有用なラジカル光開始剤には、例えば、国際公開特許第2006/102383号に記載されているようなアクリレートポリマーのUV硬化において有用であると知られるものが挙げられる。]
[0098] ハードコート物品又はハードコート保護フィルムを形成する方法は、(例えば、光透過性)基材層を提供する工程及び(所望によりプライム化された)基材層上に組成物を提供する工程を含む。コーティング組成物は、乾燥させて溶媒を除去し、続いて、例えば、所望の波長で、好ましくは不活性雰囲気(酸素50ppm未満)内で(例えばHバルブ又はその他のランプを用いて)紫外線に、又は電子ビームに曝露することによって硬化させる。あるいは、転写可能なハードコートフィルムは、組成物を剥離ライナーにコーティングし、少なくとも部分的に硬化し、その後、熱転写適用法又は光照射適用法を用いて剥離層から基材へと転写することによって、形成される。]
[0099] 組成物は、単一層又は複数層として物品又はフィルム基材へと従来のフィルム適用法を使用して直接的に適用することができる。通常、フィルム基材は連続ウェブのロール形状であるのが好都合であるが、個々のシートにコーティングを塗布してよい。]
[0100] 薄いコーティング層は、ディップコーティング、フォワード及びリバースロールコーティング、巻線ロッドコーティング、並びにダイコーティングを包含する様々な技術を使用して光学基材に適用することができる。ダイコーターには、とりわけ、ナイフコーター、スロットコーター、スライドコーター、流体支持コーター、スライドカーテンコーター、ドロップダイカーテンコーター、及び押出コーターなどがある。エドワード・コーエン(Edward Cohen)及びエドガー・グトフ(Edgar Gutoff)の「現代のコーティング及び乾燥技術(Modern Coating and Drying Technology)」(VCHパブリッシャーズ(VCH Publishers)、ニューヨーク、1992年、ISBN 3−527−28246−7)、並びにグトフ(Gutoff)及びコーエン(Cohen)の「コーティング及び乾燥の欠陥:操作上の問題のトラブルシューティング(Coating and Drying Defects: Troubleshooting Operating Problems)」(ワイリーインターサイエンス(Wiley Interscience)、ニューヨーク、ISBN 0−471−59810−0)などの文献に、多くのタイプのダイコーティング機が記載されている。]
[0101] ハードコートコーティング組成物は、光沢のある表面又は光沢のない表面上に提供されることができる。つや消しフィルムは典型的には、典型的な光沢フィルムよりも透過率が低く、ヘイズ値が高い。例えば、ヘイズ値は、ASTMD1003にしたがって測定した場合、概して少なくとも5%、6%、7%、8%、9%、又は10%である。光沢表面が、60°においてASTM D 2457−04にしたがって測定した場合典型的には少なくとも130の光沢を有するのに対して、マットな表面は120未満の光沢を有する。]
[0102] マットな表面をもたらすために、表面を粗面化又は非平滑化することができる。これは、当該技術分野において既知のさまざまな方法で、例えば、ビードブラストしたかその他の方法で粗面化した適切なツールで低屈折率面をエンボス加工する方法で、並びに、米国特許第5,175,030号(ルー(Lu)ら)及び同第5,183,597号(ルー(Lu))に記載されているように、適切な粗いマスターに対して組成物を硬化させることによって実現することができる。]
[0103] 光沢のない低屈折率及び高屈折率コーティング類は、好適なサイズの粒子状充填剤、例えばシリカサンド又はガラスビーズを組成物へ添加することによっても調製可能である。このような光沢のない粒子は通常、表面修飾低屈折率粒子より相当大きい。例えば、その平均粒度は、典型的に約1〜10μmである。このようなマットな粒子の濃度は、少なくとも2質量%〜約10質量%以上にしてよい。2質量%未満(例えば1.8質量%、1.6質量%、1.4質量%、1.2質量%、1.0質量%、0.8質量%、0.6質量%)の濃度では、その濃度は通常、所望の光沢低下(即ちヘイズ)をもたらすには不十分である。]
[0104] 1つの代表的なつや消しフィルムは、米国キモトテック(U.S.A. Kimoto Tech)(ジョージア州シーダータウン(Cedartown))から「N4D2A」という商標名で市販されている。]
[0105] ハードコート表面による埃の引力は、帯電防止剤を包ませることにより更に減少させることができる。例えば、帯電防止コーティングが、ハードコートをコーティングするのに先立って(例えば、所望によりプライム化されている)基材に適用することができる。帯電防止層の厚さは、典型的には少なくとも20nmであり、一般的には400nm以下で、300nm、又は200nmである。]
[0106] 帯電防止コーティングは、帯電防止剤として少なくとも1つの導電性ポリマーを含んでもよい。各種の導電性ポリマーが知られている。有用な導電性ポリマーの例には、ポリアニリン及びその誘導体、ポリピロール、並びにポリチオフェン及びその誘導体が挙げられる。1つの特に好適なポリマーは、H.C.スタルク社(H.C. Starck)(マサチューセッツ州ニュートン(Newton))から「ベイトロン(BAYTRON)P」という商標名で市販されているポリ(スチレンスルホン酸)でドープされたポリ(エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT:PSS)などのポリ(エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)である。この導電性ポリマーは、低濃度でスルホポリエステル分散体へ添加して、良好な接着性を特にポリエステル及びセルロースアセテート基材へと提供すると共に、良好な帯電防止性能を提供する帯電防止組成物を提供することができる。]
[0107] 別の実施形態では、帯電防止コーティング又はハードコート組成物は、金属又は半導体金属酸化物などの導電性金属含有粒子を含んでよい。このような粒子はまた、1nm超過及び200nm未満の粒子サイズ又は会合粒子サイズを有するナノ粒子として記載されてもよい。様々な顆粒状の、名目上球形の、結晶性半導体金属オキシドの微粒子が既知である。このような導電性粒子は一般的に、適切なドナーへテロ原子でドープされているか又は酸素欠損である二元金属オキシドである。好ましいドープされている導電性金属オキシド顆粒状粒子には、Sbドープ酸化スズ、Alドープ酸化亜鉛、Inドープ酸化亜鉛、及びSbドープ酸化亜鉛が挙げられる。]
[0108] 様々な帯電防止粒子が水系及び溶媒系分散物として市販されている。使用することができる酸化アンチモンスズ(ATO)ナノ粒子分散物には、エアー・プロダクツ社(Air Products)から「ナノATO(Nano ATO)S44A」という商標名で入手可能な分散物(25質量%固形分、水)、アドバンスド・ナノ・プロダクツ社(Advanced Nano Products Co. Ltd.)(ANP)から入手可能な30nm及び100nm分散物(20質量%固形分、水)、同じくANPから入手可能な30nm及び100nmATO IPAゾル(30質量%)、キーリング&ウォーカー社(Keeling & Walker Ltd)から「CPM10C」という商標名で入手可能な分散物(19.1質量%固形分)、及び石原産業(Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd)から「SN−100D」という商標名で市販されている分散物(20質量%)が挙げられる。更に、酸化アンチモン亜鉛(AZO)IPAゾル(20nm、20.8質量%固形分)は、ニッサン・ケミカル・アメリカ(Nissan Chemical America)(テキサス州ヒューストン(Houston))から「CELNAX CX−Z210IP」、「CELNAX CX−Z300H」(水中)、「CELNAX CX−Z401M」(メタノール中)、及び「CELNAX CX−Z653M−F」(メタノール中)という商標名で入手可能である。]
[0109] ナノ粒子帯電防止剤に関しては、静電気防止剤が、少なくとも20質量%の量で存在する。導電性無機酸化物ナノ粒子に関しては、濃度は、屈折率改質のために80質量%までの固形分であることができる。導電性ポリマー帯電防止剤が使用されるとき、可視的な領域の中での帯電防止剤の強力な吸収のために、導電性ポリマー帯電防止剤は、できる限り少ない量を使用することが一般的に好ましい。したがって、濃度は一般的に20質量%固形分以下であり、好ましくは15質量%未満である。幾つかの実施形態では、導電性ポリマーの量は、乾燥している帯電防止層の2質量%〜5質量%固形分の範囲である。]
[0110] 様々な基材が、本発明の物品に利用できる。好適な基材材料には、ガラス、並びにポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート(例えば、ポリメチルメタクリレート又は「PMMA」)、ポリオレフィン(例えば、ポリプロピレン又は「PP」)、ポリウレタン、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート又は「PET」)、ポリアミド、ポリイミド、フェノール樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、及びエポキシなどのような熱硬化性又は熱可塑性ポリマーが挙げられる。典型的には、基材は部分的には意図された用途に望ましい光学特性及び機械特性に基づいて選択される。かかる機械特性としては典型的に、屈曲性、寸法安定性及び衝撃耐性が挙げられる。基材の厚さも典型的に、意図された用途次第である。大部分の用途に関しては、約0.5mm未満の基材の厚さが好ましく、より好ましくは約0.02〜約0.2mmである。自己支持形ポリマーフィルム類が好ましい。PETなどのポリエステルから又はPP(ポリプロピレン)、PE(ポリエチレン)及びPVC(ポリ塩化ビニル)などのポリオレフィンから作製されるフィルムが特に好ましい。ポリマー材料は、例えば押出成形及び押出加工フィルムの任意の1軸又は2軸配向などの従来のフィルム製造技術を使用してフィルムへと成形することができる。基材とハードコート層との間での接着を改善するために、例えば化学処置、コロナ処置、例えば空気若しくは窒素コロナ、プラズマ、火炎、又は化学放射線によって基材を処理することができる。所望であれば、中間層接着を増加させるため、任意の結合層又はプライマーを基材及び/又はハードコート層に適用することができる。]
[0111] 種々の光透過性光学フィルムが既知であり、多層光学フィルム、再帰反射性シーティング及び輝度増強フィルムなどのミクロ構造化フィルム、(例えば、反射又は吸収)偏光フィルム、拡散フィルム並びに米国特許出願公開第2004/0184150号に記載されているような(例えば、2軸)位相差板フィルム及び補償器フィルムが挙げられるがこれらに限定されない。]
[0112] このようなハードコートから製造されたハードコート又は保護フィルムは、光学ディスプレイ及びディスプレイパネルなどの各種物品と共に使用するのに適している。]
[0113] 用語「光学ディスプレイ」又は「ディスプレイパネル」は、限定されないが、液晶ディスプレイ(「LCD」)、プラズマディスプレイ、フロント及びリアプロジェクションディスプレイ、カソード線管(「CRT」)及び標識等のマルチキャラクターマルチラインディスプレイ、並びに発光ダイオード(「LED」)、信号ランプ及びスイッチ等のシングルキャラクター又はバイナリディスプレイを包含するいずれかの従来の光学ディスプレイを指し得る。前記ディスプレイパネルの暴露表面は、「レンズ」と呼ばれてもよい。本発明は、特にインクペン、マーカー及びその他のマーキング道具、ワイピング・クロス、紙用品並びにその類により触れられやすい又は接触されやすい表示表面を有する表示装置に有用である。]
[0114] 本発明の保護コーティングは、様々な携帯型及び非携帯型情報ディスプレイ物品において使用可能である。これらの物品としては、PDA、携帯電話(PDA/携帯電話の組み合せを包含)、LCDテレビ(ダイレクトライト及びエッジライト)、タッチスクリーン、リストウォッチ、カーナビゲーションシステム、グローバルポジショニング・システム、深度探知機、計算機、電子ブック、CD及びDVDプレイヤー、プロジェクションテレビ・スクリーン、コンピューターモニター、ノート型パソコンディスプレイ、機器計器、機器パネルカバー、標識、例えばグラフィックディスプレイ等が挙げられる。表示面はいずれかの従来の大きさ及び形状を有することができ、平面又は非平面であることができるが、フラットパネルディスプレイが好ましい。コーティング組成物又はコーティングされたフィルムを、例えばカメラレンズ、眼鏡レンズ、双眼鏡レンズ、鏡、再帰反射シート材、自動車窓ガラス、建築物窓ガラス、電車窓ガラス、ボート窓ガラス、航空機窓ガラス、車両ヘッドライト及びテールライト、ディスプレイケース、道路舗装マーカー(例えば隆起)及び舗装マーキングテープ、オーバーヘッドプロジェクター、ステレオキャビネットドア、ステレオカバー、ウォッチカバー、並びに光学及び光磁気録音ディスク等の様々な他の物品上で同様に使用することも可能である。]
[0115] 様々な永続的かつ取り外し可能なグレードの接着剤組成物が、(例えば、保護フィルム基材)の反対側(即ち、ハードコート)にコーティングされてよく、物品を(例えば、ディスプレイ)表面に容易に取り付けることができる。好適な接着剤組成物としては、テキサス州ウェストホロウ(Westhollow)のクラトンポリマーズ(Kraton Polymers)から商品表記「クラトン(Kraton)G−1657」として市販のもののような(例えば、水素添加)ブロックコポリマー、並びに他の(例えば、類似の)熱可塑性ゴムが挙げられる。他の代表的な接着剤としては、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、及びエポキシ系接着剤が挙げられる。光学ディスプレイの表示品質を低下させるように経時的に又は天候曝露時に接着剤が黄色化しないように、好ましい接着剤は十分な光学的品質及び光安定性を有するものである。トランスファーコーティング、ナイフコーティング、スピンコーティング、ダイコーティング等の様々な既知のコーティング技術を使用して接着剤を塗布することができる。代表的な接着剤が、米国特許出願公開第2003/0012936号に記載されている。このような接着剤類の幾つかは、3M社(ミネソタ州、セントポール)から8141、8142、及び8161の商標名にて市販されている。]
[0116] 用語
以下の定義された用語に関して、別の定義が特許請求の範囲又は本明細書の他の箇所において示されない限り、これらの定義が適用される。]
[0117] 本明細書で使用するとき、「質量%」は、溶媒を除いた固形分成分の合計を指す。特に別段の指定がない場合、物質の濃度は、典型的には有機組成物(即ち無機ナノ粒子の添加前)の固形分質量%に関して表される。]
[0118] 「一価のペルフルオロポリエーテル部分」とは、ペルフルオロアルキル基により終端する1つの末端を有するペルフルオロポリエーテル鎖を指す。]
[0119] 端点によって表される数値の範囲は、その範囲内に含まれる全ての数値を含む(例えば1〜10の範囲には、1、1.5、3.33、及び10が含まれる)。]
[0120] 本発明の目的及び利点は、下記の実施例によって更に例示されるが、これらの実施例において列挙された特定の材料及びその量は、他の諸条件及び詳細と同様に本発明を過度に制限するものと解釈すべきではない。]
[0121] ペルフルオロポリエーテルモノマー
「HFPO−」は、実施例で用いる場合、別段の断りがない限りは、メチルエステルF(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)C(O)OCH3(HFPO−C(O)CH3)の末端基F(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)を指し、式中、aは平均すると約6.84であり、平均分子量は1314g/モルである。米国特許第3,250,808号(ムーア(Moore)ら)に報告されている方法にしたがって調製し、分別蒸留で精製した。]
[0122] HFPO−アクリル酸ウレタン溶液を対照として、出願シリアル番号第11/277162号(63541US002HFPOウレタン1)にしたがって調製した。]
[0123] (HFPO)x−メタクリレートの合成のために、2002年5月24日に出願された「フッ素化重合体を含んだフルオロケミカル組成物及びそれを用いた繊維状基材の処理(Fluorochemical Composition Comprising a Fluorinated Polymer and Treatment of a Fibrous Substrate Therewith)」という名称の米国特許出願公開第2004/0077775号(代理人整理番号第57823号)に記載されている手順と類似した手順によって、HFPO−C(O)N(H)2CH2CHOC(O)CMe=CH2(「HFPO−MAr」)(平均分子量1344)を調製した。]
[0124] CN4000、フッ素化アクリレートオリゴマー、サルトマー(Sartomer)(ペンシルベニア州エクストン)
アルキレンオキシド反復単位を含むモノマー
MeO−PEO−MAr−1100、CH3O−(C2H4O)n−C(O)CMe=CH2、質量分子量約1100、アルドリッチ(Aldich);
MeO−PEO−Ar−454、CH3O−(C2H4O)n−C(O)CH=CH2、質量平均分子量約454、アルドリッチ(Aldich);
HO−PEO−MAr−360、ポリ(エチレングリコール)メタクリレート、数平均分子量=約360、アルドリッチ(Aldich);
SR604、プロピレングリコールモノメタクリレート、サルトマー(Sartomer)(ペンシルベニア州エクストン)
PEGDA:ポリ(エチレングリコール)ジアクリレート、質量平均分子量約700、アルドリッチ;
(メタ)アクリレートモノマー類
IEM、OCNC2H4OC(O)CMe=CH2、アルドリッチ(Aldich);
HEMA、CH2=CMeCO2C2H4OH、アルドリッチ;
HEA、CH2=CHCO2C2H4OH、アルドリッチ;
SR399、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、サルトマー(Sartomer)(ペンシルベニア州エクストン);
SR444、ペンタエリスリトールトリアクリレート、サルトマー(Sartomer)(ペンシルベニア州エクストン);
共重合性シリコーンモノマー
メタアリールオキシプロピル(Metharyloxypropyl)で末端処理したポリジメチルシロキサン、質量平均分子量約500〜700、ゲレスト(Gelest);
A−189、HSC3H6Si(OMe)3、シルクエスト(Silquest)から入手可能な連鎖移動剤;
2−メルカプトエタノール、HSCH2CH2OH、アルドリッチから入手可能;
バゾ52、及びバゾ67、熱反応開始剤、デュポン(DuPont)(デラウエア州)
重合性ペルフルオロポリエーテルポリマーの調製
1.コポリマーA(重合性(メタ)アクリレート基を欠く)攪拌棒を取り付けた118ml(4オンス)ボトル内に、4.377gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、7.0gのMeO−PEO−MAr(質量平均分子量約1100、アルドリッチ)、1.0gのシルクエスト(Silquest)A−189、0.35gのバゾ(Vazo)67、及び40gのMEKを充填した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を70℃にて24時間一定速度で撹拌させながら重合させて、23.6質量%の透明溶液を得た。]
[0125] ]
[0126] 2.(メタ)アクリレートコポリマーB攪拌棒を取り付けた118ml(4オンス)ボトル内に、4.0gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、6.0gのHO−PEO−MAr(数平均分子量約360、アルドリッチ)、0.5gのシルクエスト(Silquest)A−189、0.29gのバゾ(Vazo)67、及び40gのエチルアセテートを充填した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を70℃にて24時間一定速度で撹拌させながら重合させた。温度を室温まで下げた後、2.5gのIEM(質量平均分子=155、アルドリッチ)及び0.11gのジブチルスズジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を70℃にて更に2時間攪拌し、25質量%の透明溶液を得た。GPC分析は、質量平均分子量=16,800、数平均分子量=8,610、及びP=1.95であることを示した。]
[0127] 3.(メタ)アクリレートコポリマーC攪拌棒を取り付けた118ml(4オンス)ボトル内に、8.0gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、8.0gのMeO−PEO−Ar(質量平均分子量約454、アルドリッチ)、4gの2−ヒドロキシエチルメタクリレート、0.216gのシルクエスト(Silquest)A−189、0.765gのバゾ(Vazo)67、及び60gのエチルアセテートを充填した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を70℃にて24時間一定速度で撹拌させながら重合させた。温度を室温まで下げた後、4.76gのIEM(質量平均分子量=155、アルドリッチ)、14.3gのエチルアセテート及び0.11gのジブチルスズジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を70℃にて更に2時間攪拌し、25質量%の透明溶液を得た。GPC分析は、質量平均分子量=22,800、数平均分子量=8,500、及びP=2.68であることを示した。]
[0128] 4.(メタ)アクリレートコポリマーD攪拌棒を取り付けた118ml(4オンス)ボトル内に、4.0gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、4.06gのMeO−PEO−Ar(質量平均分子量約454、アルドリッチ)、2.0gのIEM、0.5gのシルクエスト(Silquest)A−189、0.2gのバゾ(Vazo)67、及び40gのエチルアセテートを充填した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を70℃にて24時間一定速度で撹拌させながら重合させた。温度を室温まで下げた後、4.6gのSR444(サルトマー(Sartomer)(ペンシルベニア州エクストン))及び0.1g(0.1)のジブチルスズ(IV)ジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を70℃にて更に2時間攪拌し、27質量%の透明溶液を得た。]
[0129] ]
[0130] 5.(メタ)アクリレートコポリマーE攪拌棒を取り付けた118ml(4オンス)ボトル内に、4gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、4.06gのMeO−PEO−Ar(数平均分子量約454、アルドリッチ)、2gのIEM、0.5gのシルクエスト(Silquest)A−189、0.2gのバゾ(Vazo)67、及び40gのエチルアセテートを充填した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を70℃にて24時間一定速度で撹拌させながら重合させた。温度を室温まで下げた後、1.49gの2−ヒドロキシエチルアクリレート(アルドリッチ)及び0.1gのジブチルスズ(IV)ジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を70℃にて更に2時間攪拌し、22質量%の透明溶液を得た。]
[0131] 6.(メタ)アクリレートコポリマーF攪拌棒を取り付けた118ml(4オンス)ボトル内に、4.0gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、4.0gのSR604、2.0gの2−ヒドロキシエチルメタクリレート、0.1gのシルクエスト(Silquest)A−189、0.235gのバゾ(Vazo)67、及び30gのエチルアセテートを充填した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を70℃にて24時間一定速度で撹拌させながら重合させた。温度を室温まで下げた後、2.38gのIEM(アルドリッチ)、7.16gのエチルアセテート、及び0.1gのジブチルスズ(IV)ジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を70℃にて更に2時間攪拌し、25質量%の透明溶液を得た。]
[0132] 7.(メタ)アクリレートコポリマーG 355ml(12オンス)のガラスジャー内にて、4.2gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、6.5gのポリ(エチレングリコール)ジアクリレート(質量平均分子量約700、アルドリッチ)、1.1gのジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR399、サルトマー(Sartomer)、ペンシルベニア州)、1.0gのバゾ52(デュポン(DuPont)、デラウエア州)、及び88gのエチルアセテートを共に混合した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を80℃にて1時間一定速度で撹拌させながら重合させて、11.8質量%の透明溶液を得た。次に、溶液を冷蔵庫(4℃)内で保管した。]
[0133] 9.(メタ)アクリレートコポリマーH 355ml(12オンス)のガラスジャー内にて、4.0gのCN4000(サルトマー(Sartomer)、ペンシルバニア州)、6.0gのポリ(エチレングリコール)ジアクリレート(質量平均分子量約700、アルドリッチ)、1.0gのジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR399、サルトマー(Sartomer)、ペンシルベニア州)、1.0gのバゾ52(デュポン(DuPont)、デラウエア州)、及び88gのエチルアセテートを共に混合した。溶液は、窒素で2分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を80℃にて2.5時間一定速度で撹拌させながら重合させて、11質量%の透明溶液を得た。次に、溶液を冷蔵庫(4℃)内で保管した。]
[0134] 10.(メタ)アクリレートコポリマーI 355ml(12オンス)のガラスジャー内にて、3.7gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、6.4gのポリ(エチレングリコール)ジアクリレート(質量平均分子量約700、アルドリッチ)、1.28gの2−ヒドロキシエチル(hydroethyl)メタクリレート(アルドリッチ)、1.0gのバゾ52(デュポン(DuPont)、デラウエア州)、及び87.8gのエチルアセテートを共に混合した。溶液は、窒素で2分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を80℃にて3時間一定速度で撹拌させながら重合させて、透明溶液を得た。温度を下げた後、1.526gのIEM(質量平均分子量=155、アルドリッチ)、及び数滴のジブチルスズジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を室温にて更に2時間攪拌し、13.6質量%の透明溶液を得た。次に、溶液を冷蔵庫(4℃)内で保管した。]
[0135] 11.(メタ)アクリレートコポリマーJ 355ml(12オンス)のガラスジャー内にて、4gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、5gのポリ(エチレングリコール)ジアクリレート(質量平均分子量約700、アルドリッチ)、2.4gのHO−PEO−MAr(数平均分子量約360、アルドリッチ)、1.0gのバゾ52(デュポン(DuPont)、デラウエア州)、及び87.8gのエチルアセテートを共に混合した。溶液は、窒素で2分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を80℃にて3時間一定速度で撹拌させながら重合させて、透明溶液を得た。温度を下げた後、1.03gのIEM(質量平均分子量=155、アルドリッチ)、及び数滴のジブチルスズジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を室温にて更に2時間攪拌し、12.4質量%の透明溶液を得た。次に、溶液を冷蔵庫(4℃)内で保管した。]
[0136] ]
[0137] 12.(メタ)アクリレートコポリマーK]
[0138] ]
[0139] 攪拌棒を取り付けた118ml(4オンス)ボトル内に、4.0gのHFPO−MAr(質量平均分子量約1344)、6.0gのHO−PEO−MAr(数平均分子量約360、アルドリッチ)、0.3gのHSCH2CH2OH、0.30gのバゾ(Vazo)67、及び40gのエチルアセテートを充填した。溶液は、窒素で1分間バブリングした。ボトルを密閉し、溶液を70℃にて24時間一定速度で撹拌させながら重合させた。温度を室温まで下げた後、2.5gのIEM(質量平均分子量=155、アルドリッチ)、及び0.10g(0.10)のジブチルスズジラウレートを添加した。次に、得られた溶液を70℃にて更に2時間攪拌し、23.8質量%の透明溶液を得た。]
[0140] 3M 906ハードコートの作製
実施例で使用するセラマー(ceramer)ハードコート系組成物は、米国特許第5,677,050号(ビルカディ(Bilkadi)ら)の10列、25〜39行及び実施例1に記載されているようにして製造した。]
[0141] 試験方法:
光学特性測定:ヘイズ(%H)及び透過率(%T)は、ヘイズ−ガードプラス(Haze-Gard Plus)(BYK−ガードナー(BYK-Gardner)(米国、メリーランド州コロンビア))を使用して測定した。]
[0142] スチールウール(SW)試験:硬化させたフィルムの摩耗耐性は、(ゴムガスケットにより)スタイラスに固定したスチールウールをフィルムの表面を横断して揺動できる機械装置を使用することにより、コーティング方向に対してクロスウェブ方向に試験した。スタイラスは3.5回の拭き/秒の速度において幅10cmの掃引幅にわたって振動し、そこで「拭き」は10cmの単一移動として定義される。スタイラスは、平坦で円筒状の幾何学的形状を有し、直径1.25インチ(3.2cm)であった。その装置にはプラットホームが備え付けられていて、その上におもりを載せて、フィルムの表面に対して直角のスタイラスにより加わる力を増やした。スチールウールは、ワシントン州ベリンハム(Bellingham)のホマックスプロダクツ(Homax Products)の部門、ローデス−アメリカン(Rhodes-American)から商品表記「#0000スーパーファイン(#0000-Super-Fine)」として得られ、標準として使用した。それぞれの実施例では1つの試料について試験したが、スタイラスに加えた質量(g)及び試験の際の拭取り数を報告する。次に、フィルムを目視検査し、以下の尺度を使用して引掻抵抗を格付けした。]
[0143] 試験の品質評価は、表面に存在する引っ掻き線の数によって決定した。4種の品質評価が割り当てられた。それぞれ、NSは、引っ掻き線が見当たらない場合であり、SSは少数の(1〜3)引っ掻き線がある場合であり、Sは、より多くの引っ掻き線(3〜10)がある場合であり、HSは、明確な連続した引っ掻き線がある場合である。]
[0144] 各サンプルは、1kg及び100回の拭き取りを使用して、耐久性を試験した。]
[0145] 接触角(CA):水及びヘキサデカンの接触角を測定をする前に、基材上にて硬化させたコーティングをIPA中で手による振動によって1分間すすいだ。マサチューセッツ州ビルリカ(Billerica, MA)のミリポア・コーポレーション(Millipore Corporation)から得られた濾過システムを通して濾過した、受け取ったままの状態での試薬グレードのヘキサデカン(アルドリッチ(Aldrich))及び脱イオン水を用い、マサチューセッツ州ビルリカ(Billerica, MA)のASTプロダクツ(AST Products)から商品番号VCA−2500XEとして入手可能なビデオ接触角分析計により、測定を行った。報告される値は、滴の右側及び左側で測定された少なくとも3滴の測定値の平均である。液滴容積は静的測定に関して5μLであり、前進及び後退に関して1〜3μLであった。ヘキサデカンの場合には、前進接触角及び後退接触角のみを報告しているが、その理由は、静止接触角と前進接触角がほぼ同じであることが見出されたからである。]
[0146] インク忌避性試験:本試験は、基材上の硬化コーティングのインク忌避性を測定するために使用した。コーティングされたポリカーボネート製プラークの表面に、シャーピー(Sharpie)マーカー(イリノイ州ベルウッド(Bellwood)のサンフォード(Sanford)から市販されている)で1本の線を引く。外観と、黒のシャービーマーカーをはじく能力について、サンプルを評価した。]
[0147] ]
[0148] セルロースヘイズ試験:コーティングされたPETフィルムは調製された後、周囲温度及び50%±10%の相対湿度の条件で24時間おかれ、帯電させられた。調整後、それぞれのコーティングされたPET試料は、シムコ(Simco)「バイパー(Viper)」静電気中和ガン(static neutralizing gun)で洗浄されて、あらゆる塵埃を除去した。次に、0.35gのα−セルロース(C−8002)(シグマ・ケミカル(Sigma Chemical Company)(ミズーリ州セントルイス)から)をコーティング最上部へ7cm直径領域にて適用した。コーティングされたフィルムは前後に複数回傾斜され、セルロースが7cm直径試験領域を均一にコーティングするようにされた。次に、余分なセルロースは振り落とされ、コーティング・プラス・セルロースのヘイズ値が、ASTMD1003にしたがって測定された。]
[0149] 表面抵抗測定値は、PRF−911コンセントリック・リング固定治具を備えたプロスタット(ProStat)(イリノイ州ベンセンヴィル)、PRS−801抵抗システムを使用して実施した。オームで表した出力値は、機器に同梱されている説明書にしたがって測定値に10を乗じることによってオーム/スクエアに変換した。実験室での周囲湿度である30〜40%にて、表面抵抗率を測定した。単一のフィルム基材上にて3つの測定値を得て、平均測定値を報告した。]
[0150] 重合性ペルフルオロポリエーテルポリマー添加剤を含むハードコートコーティング組成物
処方#1−ガラスジャー内で、50gのハードコートコーティング溶液(50%固体)、2.0gのコポリマーA(MEK中23.6質量%)、及び28gのエチルアセテートを撹拌しながら共に混合した。]
[0151] 処方#2〜5−2.0gのコポリマーB〜E(エチルアセテート中に20〜25質量%固体)を添加した以外は、コーティング溶液は、処方1にしたがって調製した。]
[0152] 比較実施例1及び2
比較用処方#1(CF−1):
小さなガラスジャー内で、5gのハードコートコーティング溶液(50質量%固体)及び3.0gのエチルアセテートを共に混合した。]
[0153] 比較用処方#2(CF−2):
小さなガラスジャー内で、100gのハードコート溶液(50質量%固体)、0.45gのHFPO−ウレタンアクリレート(MEK中30%固体)、及び3.0gのエチルアセテートを共に混合した。]
[0154] コーティング溶液は、デュポンから「メリネックス(Melinex)618」の商標名で入手したPETフィルムのプライム化した面上へと、#12線巻ロッド(RDスペシャルティーズ(RD Specialties)(ニューヨーク州ウェブスター)から入手)を使用して適用した。次に、得られたフィルムを90℃オーブン内にて1分間乾燥し、次にフュージョンUVシステムズ(Fusion UV Systems Inc.)製ライト−ハンマー(Light-Hammer)6UV(メリーランド州ゲーサーズバーグ)プロセッサ(窒素雰囲気下、ランプ出力100%にて稼動するH−バルブを装着した9メートル/分(30フィート/分)のラインスピード)にて2回通過させて硬化させた。]
[0155] ]
[0156] 表1に示すように、ペルフルオロポリエーテルポリマー添加剤を有する全てのハードコートは、フルオロケミカル添加剤を有しないものと比較して、水、油及びインクに対する優れた忌避性を示した。処方#1以外の全ての処方は、優れたスチールウール(steel wood)(SW)試験耐久性を示したが、これは、添加剤中の架橋性(メタ)アクリレート基が良好な耐久性を得るために重要であることを示している。]
[0157] 「AS PET」フィルムの作製ハードコートは、次のようにしてPET上に形成された帯電防止層上にコーティングされた。コーティング溶液は、970.6gの脱イオン水、19.23gのPEDOT/PSS(H.C.スターク(Starck)からのベイトロン(Baytron)(登録商標)P、1.3質量%固体)、7.5gの界面活性剤(トマ・プロダクツ(Tomah Products)からのトマドール(Tomadol)(登録商標)25−9、脱イオン水中10質量%)、及び2.5gのN−メチルピロリドンを混ぜ合わせることにより調製した。この濃青色溶液(0.025質量%PEDOT/PSS)は、プライム化された5ミルPETフィルム(米国特許第6,893,731(B2)号の実施例29にしたがって調製された)上にコーティングした。]
[0158] セルロース表面引力試験(Cellulose Surface Attraction Test)のために、コーティング溶液は、#12線巻ロッド(RDスペシャルティーズ(RD Specialties)(ニューヨーク州ウェブスター)から入手)を使用して、メリネックス(Melinex)618 PET及び「AS PET」フィルムの両方の上へ適用した。次に、得られたフィルムを90℃オーブン内にて1分間乾燥し、次に上記のようにして硬化した。]
[0159] ]
[0160] 表2に示すように、アルキレンオキシド反復単位を欠くペルフルオロポリエーテルポリマー添加剤を有するハードコート(CF2)は、任意のペルフルオロポリエーテルポリマー添加剤を含まないハードコート(CF1)と比較して、大幅に増加したヘイズを示した。しかし、ポリ(アルキレンオキシド)反復単位を含むペルフルオロポリエーテルポリマー、即ち処方#1〜6から作製したハードコートは、弱い埃ひきつけ力を示した。]
[0161] 処方#7−ガラスジャー内で、50gの3M 906ハードコート溶液(50質量%)、3.0gのHFPO/PEGコポリマーF溶液(エチルアセテート中、11.8質量%)、及び27gのエチルアセテートを撹拌しながら共に混合した。]
[0162] 処方#8〜10−エチルアセテート中で調製した3.0gのコポリマーG〜J溶液を添加した以外は、処方6にしたがって処方を調製した。]
[0163] コーティング溶液処方7〜11は、#12線巻ロッドを使用して、PETのプライム化した面上へと適用し、次に上記のように乾燥させ、かつ硬化させた。]
[0164] ]
[0165] セルロース試験のために、コーティング溶液処方#7〜11は、#12線巻ロッド(RDスペシャルティーズ(RD Specialties)(ニューヨーク州ウェブスター)から入手)を使用して、メリネックス(Melinex)618 PET及び「AS PET」フィルムの両方の上へ適用し、次に上記のようにして乾燥させかつ硬化させた。]
[0166] ]
[0167] 処方#11〜13
TM−CH−1帯電防止性ハードコート溶液は、住友・大阪セメント(Sumitomo Osaka Cement)から市販されている。本材料は、アンチモンドープド酸化スズ(ATO)ナノ粒子及び紫外線硬化性樹脂を、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコール、及び水を含む混合溶媒系中に総固体30質量%にて含む。]
[0168] 処方は、コポリマーB、コポリマーD、及びコポリマーHをTM−CH−1コーティングの総固体の1.1質量%の濃度で添加することによって調製した。]
[0169] 一例として、8.5gのTM−CH−1帯電防止性ハードコート溶液を小さなジャーに添加し、次に、0.275gのコポリマーB溶液(エチルアセテート中で11.8質量%)を添加した。溶液は、撹拌しながら均質に混合した。]
[0170] 次に、得られた溶液は、#12線巻ロッド(RDスペシャルティーズ(RD Specialties)(ニューヨーク州ウェブスター)から入手)を使用して、「メリネックス(Melinex)618」プライム化PETフィルムの最上部へと適用した。次に、得られたフィルムを70℃オーブン内にて2分間乾燥し、次にフュージョンUVシステムズ(Fusion UV Systems Inc.)製ライト−ハンマー(Light-Hammer)6UV(メリーランド州ゲーサーズバーグ)プロセッサ(窒素雰囲気下、ランプ出力100%にて稼動するH−バルブを装着した9メートル/分(30フィート/分)のラインスピード)にて2回通過させて硬化させた。]
[0171] 比較実施例3及び4
比較用処方#3(CF3)
TM−CH−1溶液は供給されたまま使用した。]
[0172] 比較用処方#4(CF4):
小さなガラス(galls)ジャー内で、8.5gのTM−CH−1ハードコート溶液、0.45gのHFPO−ウレタンアクリレート(MEK中30%固体)、を共に混合した。]
[0173] コーティング溶液は、上記のように適用し、かつ硬化した。]
[0174] ]
[0175] ]
权利要求:

請求項1
10%以下のセルロース表面引力を示す表面層を有する光学基材を含む、光学ディスプレイであって、当該表面層がA)i)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む、少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルモノマー、ii)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む、少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)モノマー、及びiii)所望により、ペルフルオロポリエーテル基及びアルキレンオキシド反復単位を欠く、少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマー、の反応生成物を含む、少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルポリマーと、B)少なくとも50質量%の非フッ素化結合剤前駆体との反応生成物を含む、光学ディスプレイ。
請求項2
前記表面層が5%未満のセルロース表面引力を示す、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項3
前記表面層が少なくとも80度の水との静止接触角を示す、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項4
前記表面層が少なくとも90度の水との静止接触角を示す、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項5
前記表面層が少なくとも50度のヘキサデカンとの後退接触角を示す、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項6
i)が少なくとも600g/モルの分子量を有する、単官能性ペルフルオロポリエーテルモノマーを含む、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項7
i)が少なくとも600g/モルの分子量を有する、二官能性ペルフルオロポリエーテルモノマーを含む、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項8
前記ペルフルオロポリエーテルが、鎖中に少なくとも4つの酸素ヘテロ原子を有する、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項9
ii)がアルキレンオキシド反復単位を含む単官能性モノマーを有する、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項10
ii)がアルキレンオキシド反復単位を含む二官能性モノマーを有する、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項11
ii)が少なくとも4つのアルキレンオキシド反復単位を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項12
ii)が少なくとも4つのエチレンオキシド反復単位を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項13
ii)が少なくとも6つのエチレンオキシド反復単位を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項14
前記ペルフルオロポリエーテルポリマーが、少なくとも1つの重合性エチレン系不飽和基を含む、請求項1〜13のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項15
i)、ii)、及びiii)が1種以上のモノエチレン系不飽和モノマーからなる、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項16
前記重合性エチレン系不飽和基がラジカル重合性基である、請求項1〜15のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項17
前記重合性エチレン系不飽和基が(メタ)アクリル基である、請求項1〜16のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項18
前記ペルフルオロポリエーテルポリマーが、約5,000g/モル〜50,000g/モルの範囲の分子量を有する、請求項1〜17のいずれか一項に記載の光学ディスプレイ。
請求項19
i)が式F(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)−(式中、aは4〜15の範囲)を有する、ペルフルオロポリエーテル部分を含む、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項20
前記非フッ素化結合剤前駆体が、少なくとも2つのラジカル重合性基を有する、少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーを含む、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項21
前記基材が、ポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セルロースアセテート、及びセルローストリアセテートから選択される、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項22
前記表面層が無機酸化物粒子を更に含む、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項23
無機酸化物粒子を含むハードコート層が前記基材と前記表面層との間に配置されている、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項24
前記ディスプレイが、前記光学基材と前記表面層との間に帯電防止層を更に含む、請求項1に記載の光学ディスプレイ。
請求項25
10%以下のセルロース表面引力を示す表面層を有する基材であって、当該表面層が、A)i)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む、少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルモノマー、ii)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む、少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)モノマー、及びiii)所望により、少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む、少なくとも1種の他のモノマー、の反応生成物を含む、少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルポリマーと、B)少なくとも50質量%の非フッ素化結合剤前駆体とを含む重合性混合物の反応生成物を含む、基材。
請求項26
次の一般式で表されるペルフルオロポリエーテルポリマーであって、式中、MFPEは、ペルフルオロポリエーテル基及び少なくとも600g/モルの分子量を有する、1種以上のモノエチレン系不飽和モノマーに由来する反復単位を表し、MAOは、アルキレンオキシド反復単位を有する1種以上のエチレン系不飽和モノマーに由来する反復単位を表し、MMAは、ペルフルオロポリエーテル基及びアルキレンオキシド反復単位を欠く、エチレン系不飽和モノマーに由来する単位を表し、各Xは個別に各々独立して、エチレン系不飽和基を含み、n及びmは各々独立して、1〜100の値を表し、ここでn+mの合計は少なくとも3であり、qは0〜100の値を表し、かつr及びsは各々独立して、r+sの合計が少なくとも1であるという条件で0〜6の値を表す、ペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項27
前記ポリマーが約5〜50質量%のMFPEを含む、請求項26に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項28
MAOが少なくとも4つのエチレンオキシド反復単位を含む、請求項26に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項29
前記重合性エチレン系不飽和基がラジカル重合性基である、請求項26〜28のいずれか一項に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項30
前記重合性エチレン系不飽和基が(メタ)アクリル基である、請求項29に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項31
MAO、MMA、又はこれらの組み合わせが、ウレタン結合によってXに結合している、請求項26に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項32
MFPEが式F(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)−(式中、aは4〜15の範囲)を有する、HFPO−部分を含む、請求項26に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項33
前記ポリマーが次の一般的構造を有し、式中、PEOが少なくとも4つの反復単位を有する、ポリエチレンオキシドであるとともに、R’が独立してH又はMeである、請求項32に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項34
前記ポリマーが次の一般的構造を有し、式中、PEOが少なくとも4つの反復単位を有する、ポリエチレンオキシドであるとともに、R’が独立してH又はMeである、請求項32に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項35
前記ポリマーが次の一般的構造を有し、式中、PEOが少なくとも4つの反復単位を有する、ポリエチレンオキシドであるとともに、R’が独立してH又はMeである、請求項32に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項36
前記ポリマーが次の一般的構造を有し、式中、PEOが少なくとも4つの反復単位を有する、ポリエチレンオキシドであるとともに、R’が独立してH又はMeである、請求項32に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項37
前記ポリマーが次の一般的構造を有し、超分岐されており、式中、PEOが少なくとも4つの反復単位を含むポリエチレンオキシドであり、R’が独立してH又はMeであるとともに、pが別の繰り返されたポリマー鎖を表す、請求項32に記載のペルフルオロポリエーテルポリマー。
請求項38
i)少なくとも600g/モルの分子量を有する、少なくとも1種のペルフルオロポリエーテルモノエチレン系不飽和モノマー、ii)少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)エチレン系不飽和モノマー、及びiii)所望により、ペルフルオロポリエーテル基及びアルキレンオキシド反復単位を欠く、少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマー又は連鎖移動剤を重合させることによって、ポリマー中間体を形成すること、ここで、i)、ii)、又はiii)のうち少なくとも1つが、エチレン系不飽和ではない反応性基−RAを更に含み;前記ポリマー中間体の−RA基を、iv)−RAと反応する−RB基及び少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む少なくとも1種のモノマーと反応させること、を含む、少なくとも1つの重合性エチレン系不飽和基を含むペルフルオロポリエーテルポリマーの調製方法。
請求項39
−RAの−RBとの反応によりウレタン結合が生じる、請求項38に記載の方法。
請求項40
−RAがイソシアネート反応性基を含み、かつ−RBがイソシアネート基である、請求項38に記載の方法。
請求項41
−RAがイソシアネート基を含み、かつ−RBがイソシアネート反応性基である、請求項38に記載の方法。
請求項42
前記イソシアネート反応性基が−OH及びアミン基から独立して選択される、請求項38〜41のいずれか一項に記載の方法。
請求項43
ii)、iii)及びiv)のうち少なくとも1つが反応性基−RAを更に含む、請求項38に記載の方法。
請求項44
i)、ii)、iii)及びiv)が1種以上のモノエチレン系不飽和モノマーからなる、請求項38に記載の方法。
請求項45
前記方法が反応性基−RAを欠く連鎖移動剤を更に含む、請求項38に記載の方法。
請求項46
前記ペルフルオロポリエーテルポリマーが次の一般的構造:を有する、請求項38に記載の方法。
請求項47
i)少なくとも600g/モルの分子量を有する、少なくとも1種のペルフルオロポリエーテル単官能性エチレン系不飽和モノマー、ii)少なくとも1つのエチレン系不飽和基を含む、少なくとも1種のポリ(アルキレンオキシド)モノマー、及びiii)所望により、ペルフルオロポリエーテル基及びアルキレンオキシド反復単位を欠く、少なくとも1種のエチレン系不飽和モノマーを同時に重合させることを含む、少なくとも1つの重合性エチレン系不飽和基を含むペルフルオロポリエーテルポリマーの調製方法であって、ii)又はiii)のうち少なくとも1つが、少なくとも2つのエチレン系不飽和基を含む、方法。
請求項48
ii)が単官能性エチレン系不飽和モノマーを含む、請求項47に記載の方法。
請求項49
ii)がジ−エチレン系不飽和モノマーを含む、請求項47に記載の方法。
請求項50
iii)が少なくとも2つのエチレン系不飽和基を有する非フッ素化モノマーを含む、請求項47に記載の方法。
請求項51
iii)が少なくとも3つのエチレン系不飽和基を有する非フッ素化モノマーを含む、請求項47に記載の方法。
請求項52
前記重合性エチレン系不飽和基がラジカル重合性基である、請求項47〜51のいずれか一項に記載の方法。
請求項53
前記重合性エチレン系不飽和基が(メタ)アクリル基である、請求項52に記載の方法。
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SG186644A1|2013-01-30|
WO2009076389A1|2009-06-18|
CN101910247B|2014-10-22|
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法律状态:
2011-11-02| A521| Written amendment|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111101 |
2011-11-02| A621| Written request for application examination|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111101 |
2013-10-28| A977| Report on retrieval|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131028 |
2013-11-06| A131| Notification of reasons for refusal|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131105 |
2014-02-01| A521| Written amendment|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140131 |
2014-07-23| TRDD| Decision of grant or rejection written|
2014-07-30| A01| Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140729 |
2014-09-04| A61| First payment of annual fees (during grant procedure)|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140828 |
2014-09-05| R150| Certificate of patent or registration of utility model|Ref document number: 5607540 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
2017-09-05| R250| Receipt of annual fees|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
2018-09-05| LAPS| Cancellation because of no payment of annual fees|
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