目標の水素化・水素化分解

专利摘要:
本発明は、好ましくは水素化処理ユニットが前置された部分転化水素化分解（ＨＣＲ）ユニットが未転化油をＦＣＣ（流動接触分解）ユニットに供給するプロセススキームを対象にするものである。大部分の精油所は該ＦＣＣユニットを最適な資産活用のために全能力で運転している。ＦＣＣユニットに原料を送っている残油脱硫ユニットの運転停止の間、該ＦＣＣ供給原料水素化分解器における転化率を減少させることが望ましい。このようにして、ＦＣＣユニットへの供給原料は最大にされる。規格に適合するジェット及びディーゼル製品は、低転化率ＨＣＲ操作中に生成することが出来る。更に、ＦＣＣユニットに原料を送っているＨＣＲユニットからの未転化油（ＵＣＯ）の望ましくない過飽和は避けることが出来る。過剰の水素消費も避けることが出来る。普通、低転化率ＨＣＲからの中間留出生成物の更なる芳香族飽和は別個の後処理ユニットで達成される。
公开号:JP2011508018A
申请号:JP2010539680
申请日:2008-12-15
公开日:2011-03-10
发明作者:バッタチャリヤ、サバシス
申请人:シェブロン ユー．エス．エー． インコーポレイテッド；
IPC主号:C10G70-00

专利说明:

[0001] 本発明は、未転化油が流動接触分解（ＦＣＣ）ユニットに供給される、部分転化水素化分解（ＨＣＲ）ユニットを対象とするものである。]
背景技術

[0002] 原油の精製においては、該供給原料から硫黄、窒素及び金属のような不純物を除去するために減圧ガス油の水素化処理器及び水素化分解器が使用される。典型的に、ＶＧＯ（減圧ガス油）の水素化処理又は中厳密性水素化分解器からの中間留出物沸騰物質（２５０°Ｆ〜７３５°Ｆの範囲で沸騰する）は、必要とされる煙点、セタン価又は芳香族の規格を満たさない。]
[0003] その後のハイドロプロセシング段階におけるこれら不純物の除去（しばしば品質向上として知られている）は、より価値のある中間留出生成物を創る。ハイドロプロセシング技術（水素化処理、水素化分解及び水素化脱ろうの処理を包含する）は、基本的に分子を再編成することにより原油の価値を増加させることを目的とする。最終生成物は又より環境に優しくされる。]
[0004] ほとんどの場合、この中間留出物は中間留出物水素化処理器により別個に品質向上がされるか、或いは、該中間留出物は一般の燃料油プール中に混合されるか又は家庭暖房用の油として使用される。最近ハイドロプロセシング方式が発展し、該中間留出物が減圧ガス油水素化処理反応器又は中厳密性水素化分解反応器と同じ高圧ループで水素化処理されることを可能にしている。別個の中間留出物水素化処理器が必要ないので、投資費用節約及び（又は）付帯設備節約が顕著である。]
[0005] 単一の高圧水素ループ内で多段階ハイドロプロセシングを対象にしている米国特許が存在する。米国特許第６，７９７，１５４号では、異なる圧力及び転化のレベルで操作される反応段階を用いて単一の高圧ループで重質ガス油の高転化及び高品質中間留出生成物の製造が可能である。提供される融通性が大きいので、精油業者が製品品質の低下を避けることを可能にしながら、同時に投資費用を最小にしている。変化する沸点範囲を有する供給原料が該過程の異なる部分で導入され、それにより水素の消費を最小にし資本投資を減少させている。]
[0006] 米国特許第６，７８７，０２５号も中間留出物の生成のための多段階ハイドロプロセシングを開示している。この発明の主要な利点は、穏やかな水素化分解に必要な高圧環境を用いて、軽質循環油、軽質コーカー（Ｃｏｋｅｒ）ガス油、及びビスブロークン（Ｖｉｓｂｒｏｋｅｎ）ガス油又は直留常圧ガス油のような難しい分解原料油を同時に品質向上させる可能性である。]
[0007] 米国特許第７，２３８，２７７号は、複数の反応段階を用いて、単一の高圧ループで重油から製品への非常に高い転化率乃至完全転化率を提供している。第二段階又はその後の段階は、並流操作及び向流操作の組合せであっても良い。この発明の利点には、より低い触媒容量を用いた低下した操作圧力での供給原料から有用な製品への転化が含まれる。より低い水素消費量も生じている。最小量の装置が使用されている。利用消費量も最小にされている。]
[0008] 米国公開２００５０１０３６８２は、ガス油をハイドロプロセシングするための多段階方法に関する。好ましくは、各段階は少なくとも１個の水素化分解ゾーンを有する。第二段階及びその後のいかなる段階も異原子含量の低い環境を有する。ナフサ、灯油及びディーゼルのような軽質生成物は、ガソリン及びナフサのようなより軽質の製品をより大きな収量で生成するために、（他の源からの軽質生成物と一緒に）分留から第二段階（又はその後の段階）に再循環させることが出来る。最初のゾーンよりも後のゾーンにおける圧力は、費用を節約し過分解を最小にするために、最初のゾーンにおける圧力よりも５００〜１０００ｐｓｉｇ低い。]
[0009] ほとんどの精油所は、最適な資産活用のためにＦＣＣユニットを全能力で運転している。ＦＣＣユニットに原料を送っている残油脱硫ユニットの計画された及び（又は）計画されていない運転停止の間、ＦＣＣユニットへの供給原料を最大にするために、該ＦＣＣ供給原料水素化分解器における転化率を減少させることが望ましい。上記特許は以下の問題点に対処していない。
１． 低転化率ＨＣＲ操作中におけるジェット及びディーゼルの規格製品の製造。
２． ＦＣＣユニットに原料を送っているＨＣＲユニットからの未転化油（ＵＣＯ）の望ましくない過飽和を回避し水素消費量を減少させること。普通、低転化率ＨＣＲからの中間留出生成物の更なる芳香族飽和は、別個の後処理ユニットで達成される。]
先行技術

[0010] 米国特許第６，７９７，１５４号明細書
米国特許第６，７８７，０２５号明細書
米国特許第７，２３８，２７７号明細書
米国公開２００５０１０３６８２号公報]
課題を解決するための手段

[0011] 未転化油をＦＣＣユニットに供給している部分転化水素化分解（ＨＣＲ）ユニットを設計する新規なプロセススキームが開発された。本発明の諸工程は以下のように要約される。
炭化水素供給原料をハイドロプロセシングするための方法であって、該方法は単一の反応ループ内に複数のハイドロプロセシングゾーンを使用しており、各ゾーンは１又は複数の触媒床を有し、
（ａ）ハイドロプロセシング触媒を含有する１又は複数の床を有する第一ハイドロプロセシングゾーンに炭化水素質供給原料を送る工程であって、該ハイドロプロセシングゾーンはハイドロプロセシング条件に維持されており、ここで該炭化水素質供給原料は触媒及び水素と接触される、工程、
（ｂ）工程（ａ）の流出物を熱高圧分離器に直接に送る工程であって、ここで該流出物は分離され、蒸気流及び液体流を生成する工程であり、該蒸気流は水素、該炭化水素質供給原料の沸点範囲より下の温度で沸騰する炭化水素質化合物、硫化水素及びアンモニアを含み、該液体流はおおよそ前記炭化水素質供給原料の範囲で沸騰する炭化水素質化合物を含む、工程、
（ｃ）工程（ｂ）の該蒸気流を冷却及び部分凝縮後に熱高圧分離器に送る工程であって、そこでそれはフラッシュされ、それにより塔頂蒸気流及び液体流を生成する工程であり、ここで中間留出物範囲の水素化処理済み炭化水素を含む該液体流は第二ハイドロプロセシングゾーンに送られる、工程、
（ｄ）工程（ｃ）の該熱高圧分離器からの該塔頂蒸気流を冷却及び水との接触後に冷高圧分離器に送る工程であって、前記塔頂蒸気流は水素、アンモニア、硫化水素、軽質ガス及びナフサを含み、ここで水素、硫化水素、及び軽質炭化水素質ガスは塔頂に除去され、アンモニアはサワー水ストリッパーで該冷高圧分離器から重硫化アンモニウムとして除去され、並びに、ナフサ及び中間留出物は分留に送られる、工程、
（ｅ）工程（ｂ）の該熱高圧分離器からの該液体流を熱低圧分離器に送られる工程であって、そこでそれはフラッシュされ、ガスを含む塔頂流及び未変換油を含む液体流を生成する、工程、
（ｆ）未変換油を含む工程（ｅ）の該液体流を蒸気ストリッパーに送る工程であって、そこで軽質物質は蒸気流として塔頂に除去され、ストリップされた未変換油を含む液体流を回収する、工程、
を含む、方法。]
図面の簡単な説明

[0012] 本発明の流れ図を図解したものである。]
[0013] 供給原料
本発明では多種多様の炭化水素供給原料を使用することが出来る。典型的な供給原料には、３９２°Ｆ（２００°Ｃ）より上の沸点を有する任意の重質又は合成油留分又はプロセス流が含まれる。かかる供給原料には、減圧ガス油（ＶＧＯ）、重質コーカー（ｃｏｋｅｒ）ガス油（ＨＣＧＯ）、重質常圧ガス油（ＡＧＯ）、軽質コーカー（ｃｏｋｅｒ）ガス油（ＬＣＧＯ）、ビスブレーカー（ｖｉｓｂｒｅａｋｅｒ）ガス油（ＶＢＧＯ）、脱金属油（ＤＭＯ）、減圧残油、常圧残油、脱アスファルト油（ＤＡＯ）、フィッシャー・トロプシュ流、軽質循環油、軽質循環ガス油、及び他のＦＣＣ生成物流が含まれる。]
[0014] 生成物
本発明の方法は、約２５０〜７００°Ｆ（１２１〜３７１°Ｃ）の範囲で沸騰する中間留出分の生成に特に有用である。中間留出分は、約２５０〜７００°Ｆのおおよその沸点範囲を有すると定義される。該中間留出物の少なくとも７５容量％、好ましくは８５容量％の成分が２５０°Ｆより高い標準沸点を有する。該中間留出物の少なくとも約７５容量％、好ましくは８５容量％の成分が７００°Ｆより低い標準沸点を有する。「中間留出物」という用語には、ディーゼル、ジェット燃料及び灯油の沸点範囲留分が含まれる。灯油又はジェット燃料の沸点範囲とは、２８０〜５２５°Ｆ（１３８〜２７４°Ｃ）の範囲を言う。「ディーゼル沸点範囲」という用語は、２５０〜７００°Ｆ（１２１〜３７１°Ｃ）の範囲で沸騰する炭化水素のことを言う。]
[0015] ガソリン又はナフサも本発明の方法で生成することが出来る。ガソリン又はナフサは普通、４００°Ｆ（２０４°Ｃ）より下の、又はＣ５〜４００°Ｆの範囲で沸騰する。任意の特定の精油所で回収される種々の生成物留分の沸点範囲は、原油源の特性、特定の場所の精油所市場、及び製品価格のような因子で変化する。]
[0016] 条件
「ハイドロプロセシング条件」は、本願では主として水素化分解又は水素化処理のことを言う一般用語である。]
[0017] 水素化処理条件には、４００°Ｆ〜９５０°Ｆ（２０４°Ｃ〜４８２°Ｃ）、好ましくは６００°Ｆ〜８５０°Ｆ（３１５°Ｃ〜４６４°Ｃ）の反応温度、５００〜５０００ｐｓｉｇ（ポンド毎平方インチ・ゲージ圧）（３．５〜３４．６ＭＰａ）、好ましくは１０００〜３０００ｐｓｉｇ（７．０〜２０．８ＭＰａ）の圧力、０．３ｈｒ−１〜２０ｈｒ−１（ｖ／ｖ）、好ましくは０．５〜４．０の供給速度（ＬＨＳＶ）、及び３００〜２０００ＳＣＦ毎液体炭化水素供給原料１バレル（６３．４〜３５６ｍ３／ｍ３供給原料）の総水素消費量が含まれる。]
[0018] 典型的な水素化分解条件には、４００°Ｆ〜９５０°Ｆ（２０４°Ｃ〜５１０°Ｃ）、好ましくは６５０°Ｆ〜８５０°Ｆ（３１５°Ｃ〜４５４°Ｃ）の反応温度が含まれる。反応圧力は、５００〜５０００ｐｓｉｇ（３．５〜３４．５ＭＰａ）、好ましくは１０００〜３０００ｐｓｉｇ（７．０〜２０．８ＭＰａ）で変動する。ＬＨＳＶは、０．１〜１５ｈｒ−１（ｖ／ｖ）、好ましくは０．５〜５．０ｈｒ−１で変動する。水素消費量は、５００〜２５００ＳＣＦ毎液体炭化水素供給原料１バレル（８９．１〜４４５ｍ３Ｈ２／ｍ３供給原料）で変動する。]
[0019] 触媒
ハイドロプロセシングゾーンは、唯一つの触媒又はいくつかの触媒を組合せて、含有することが出来る。]
[0020] 水素化分解触媒は一般に、分解用成分、水素化用成分、及び結合剤を含む。かかる触媒は技術的に周知である。該分解用成分は、非晶質シリカ／アルミナ相及び（又は）Ｙ−タイプ又はＵＳＹゼオライトのようなゼオライトを含むことが出来る。高い分解活性を有する触媒は、しばしばＲＥＸ、ＲＥＹ及びＵＳＹゼオライトを使用している。該結合剤は一般にシリカ又はアルミナである。該水素化用成分はＶＩ族、ＶＩＩ族、又はＶＩＩＩ族金属、又はそれらの酸化物又は硫化物、好ましくは１種又は複数種の、モリブデン、タングステン、コバルト、又はニッケル、又はそれらの硫化物又は酸化物である。該触媒に存在する場合、これらの水素化用成分は一般に該触媒の重量で約５％〜約４０％を占める。或いは、白金族金属、特に白金及び（又は）パラジウムは、単独で又は水素化用成分基礎金属のモリブデン、タングステン、コバルト、又はニッケルとの組合せで、水素化用成分として存在することが出来る。存在する場合、該白金族金属は一般に該触媒の重量で約０．１％〜約２％を占める。]
[0021] 水素化処理触媒は典型的に、アルミナのような多孔性耐火性基剤上に支持されたＶＩ族金属又はその化合物及びＶＩＩＩ族金属又はその化合物の複合体である。水素化処理触媒の例は、アルミナに支持されたコバルト−モリブデン、硫化ニッケル、ニッケル−タングステン、コバルト−タングステン、及びニッケル−モリブデンである。典型的に、かかる水素化処理触媒は予め硫化されている。]
[0022] ある場合には、高水準の水素化に適した高活性水素化処理触媒が使用される。かかる触媒は、高表面積（１４０ｍ２／ｇｍより大きい）及び高密度（０．７〜０．９５ｇｍ／ｃｃ）を有する。該高表面積は、活性成分の分散を一般に増加させるので、反応速度を増加させる。触媒の密度がより高いと、商業的に重要な因子である、反応器容積当たりの活性金属及び助触媒、をより大量に装填することが可能となる。コークスの沈着は大部分の触媒失活を引起こすと考えられるので、触媒の細孔容積は適度の水準（０．４〜０．６）に維持されるべきである。必要な操作温度を減少させるために、時々高活性触媒が望まれる。高温度はコークス化の増加をもたらす。]
[0023] （好ましい態様の説明）
図面を参照して頂きたい。
本プロセススキームにおいて、新鮮な供給原料（流れ９）を固定床水素化処理反応器１０の頂上に送る。水素は流れ１を通過する。流れ２９は流れ１からの側流である。流れ２９から、流れ３及び４は、反応器１０の第一と第二床の間、及び第二と第三床の間に、夫々水素を添加する。水素化処理器１０は高活性水素化処理触媒で装填され、ここで窒素、硫黄、等のような供給原料不純物（ヘテロ原子）の大部分が除去され、ある程度の芳香族飽和が成し遂げられる。]
[0024] 水素化処理された反応器流出液（流れ１２）は、交換器５で反応器供給原料（該交換器５に入る前の流れ２及び該交換器５を離れた直後の流れ９）と熱を交換する。流れ１２は高い温度及び圧力条件において熱高圧分離器４０でフラッシュされ、液相の未転化油（ＵＣＯ）成分の大部分（流れ１３）を回収する。蒸気は分離器４０から塔頂のライン２２へと離れ、交換器２５で水素流３１と熱が交換される。８５重量％より多いディーゼル及びより軽質の物質から構成されている流れ２２は、分留器供給原料（図面には示されていない）を予熱し、高圧蒸気を発生する。流れ２２は、熱高圧分離器蒸気／循環ガス交換器２５で最終的に約２００°Ｃに冷却される。次に流れ２２は、熱高圧分離器５０でフラッシュされる。これらの比較的高い圧力及び低い温度条件で、水素化処理されたジェット及びディーゼル範囲物質の大部分が高圧で液体流２７として回収され、それが供給流（流れ１１）へポンピングされ（ポンプ３５）、それが更なる処理のために水素化分解反応器２０に送られる。該熱高圧分離器５０からの塔頂蒸気、流れ２３は次に、冷高圧分離器（示されていない）に入る前に、空気冷却器（示されていない）で冷却される。該塔頂蒸気流、流れ２３は、軽質ガス及びナフサと一緒に、水素、アンモニア、及び硫化水素を含む。該冷高圧分離器（示されていない）で、水素、硫化水素、及び軽質炭化水素質ガスは塔頂で除去され、アンモニアは該冷高圧分離器からサワー水ストリッパーで重硫化アンモニウムとして除去される。ナフサ及び中間留出物は分留に送られる。]
[0025] 流れ１３は熱低圧分離器６０に送られ、そこでそれはフラッシュされる。蒸気は流れ２８として除去される。該熱低圧分離器の底留分は流れ７３として除去され、ＵＣＯ（未転化油）ストリッパー３０に送られる。流れ７３の物質は、該ＵＣＯ流の任意のより軽質の物質を回収するためにストリッパー３０でストリップされる流れである。より軽質の物質は流れ２６として除去される。ジェット及びディーゼル範囲物質は該塔から抜取側流１７とし回収される。抜取側流１７はストリッパー底留分１６（ＵＣＯ）を流れ１９と合わせて流れ１９となる。側流１８は底留分流１６から取り出しても良い。流れ１９、循環油はポンプ４５を経由して貯蔵ドラム７０にポンピングされる。該循環油は貯蔵ドラム７０を出て流れ２１を通り、ポンプ５５により流れ１１にポンピングされる。流れ１１は、更なる芳香族の飽和のために水素化分解反応器２０に入る前に、交換器１５で加熱される。ＵＣＯストリッパー３０からの塔頂液体流２６は、主生成物ストリッパーに送られ、その排ガスは燃料ガス（示されていない）に送られる。]
[0026] ＵＣＯストリッパーの底部からの水素化処理されストリップされたＵＣＯ（流れ１６）は、優れた品質のＦＣＣ供給原料である。この点で、ストリップされた未転化油の一部（流れ１８）はＦＣＣ供給原料として送り出される。このようにして、ＦＣＣ供給原料の更なる飽和は避けられる。（流れ１９と混合された）ＵＣＯの限られた部分のみが、芳香族成分の更なる飽和及び留出生成物への転化のために水素化分解器２０に送られる。再循環される量は、所望の総転化水準に基づいている。]
[0027] 第二段階の水素化分解反応器２０は、水素化分解触媒が装填されてきれいな環境（ヘテロ原子なし）下で作動し、理想的には、ＵＣＯを所望の生成物に選択的に転化し、芳香族成分を更に飽和して必要なジェット及びディーゼル性能を異なる転化水準で達成する。流れ３２は流れ１からの側流である。流れ３２から、流れ７及び８は、反応器２０の第一と第二床の間、及び第二と第三床の間に、夫々水素を添加する。]
[0028] 水素化処理反応器１０及び水素化分解反応器２０は両方とも、所望の最大転化率が得られるように設計されている。比較的低い転化率操作の間、水素化処理反応は、目標の脱窒及び脱硫を達成するために、最大転化率の場合と同じ温度に維持される。水素化分解反応器の温度は、比較的低い転化率に低下させる。]
[0029] 第二段階の水素化分解反応器２０の流出液（流れ７２）は、第二段階の反応器供給原料（流れ１１）、分留器供給原料及び冷低圧分離器液体流を予熱するために、（交換器１５で）冷却される。流れ７２、今番号が付け替えられた流れ７４は、更なる冷却及び高圧循環ガスの除去のために、熱高圧分離器蒸気流２３と一緒になる。冷高圧分離器（示されていない）からの炭化水素液体は、生成物回収用の分留区域（示されていない）に送られる。]
[0030] 以下の表は、６５，０００ＢＰＯＤ（バレル毎運転日）水素化分解ユニットに関して、従来のプロセススキームに優る本発明のプロセススキームの利点を強調している。該表は、本発明では所望の製品規格に到達するために後処理の必要が全くないことを示している。更に、本発明の方式では従来の場合よりも消費される水素が少ないのである。]
実施例

[0031] ]

权利要求:

請求項1
炭化水素供給原料をハイドロプロセシングするための方法であって、該方法は単一の反応ループ内に複数のハイドロプロセシングゾーンを使用しており、各ゾーンは１又は複数の触媒床を有し、（ａ）ハイドロプロセシング触媒を含有する１又は複数の床を有する第一ハイドロプロセシングゾーンに炭化水素質供給原料を送る工程であって、該ハイドロプロセシングゾーンはハイドロプロセシング条件に維持されており、ここで該炭化水素質供給原料は触媒及び水素と接触される、工程、（ｂ）工程（ａ）の流出物を熱高圧分離器に直接に送る工程であって、ここで該流出物は分離され、蒸気流及び液体流を生成する工程であり、該蒸気流は水素、該炭化水素質供給原料の沸点範囲より下の温度で沸騰する炭化水素質化合物、硫化水素及びアンモニアを含み、該液体流はおおよそ前記炭化水素質供給原料の範囲で沸騰する炭化水素質化合物を含む、工程、（ｃ）工程（ｂ）の該蒸気流を冷却及び部分凝縮後に第二熱高圧分離器に送る工程であって、そこでそれはフラッシュされ、それにより塔頂蒸気流及び液体流を生成する工程であり、ここで中間留出物範囲の水素化処理済み炭化水素を含む該液体流は第二ハイドロプロセシングゾーンに送られる、工程、（ｄ）工程（ｃ）の該熱高圧分離器からの該塔頂蒸気流を冷却及び水との接触後に冷高圧分離器に送る工程であって、前記塔頂蒸気流は水素、アンモニア、硫化水素、軽質ガス及びナフサを含み、ここで水素、硫化水素、及び軽質炭化水素質ガスは塔頂に除去され、アンモニアはサワー水ストリッパーで該冷高圧分離器から重硫化アンモニウムとして除去され、並びに、ナフサ及び中間留出物は分留に送られる、工程、（ｅ）工程（ｂ）の該熱高圧分離器からの該液体流を熱低圧分離器に送る工程であって、そこでそれはフラッシュされ、ガスを含む塔頂流及び未変換油を含む液体流を生成する、工程、（ｆ）未変換油を含む工程（ｅ）の該液体流を蒸気ストリッパーに送る工程であって、そこで蒸気流は塔頂に除去され、ストリップされた未変換油を含む液体流を回収する、工程、を含む、方法。
請求項2
工程（ｆ）の該ストリップされた未変換油の少なくとも一部分が供給原料として流動接触分解ユニットに送られる、請求項１に記載の方法。
請求項3
工程（ｆ）の該ストリップされた未変換油の少なくとも一部分が工程（ｃ）の該液体流出液と合わされて、液体流を形成し、それが該第二ハイドロプロセシングゾーンに送られる、請求項１に記載の方法。
請求項4
該第二ハイドロプロセシングゾーンが芳香族の飽和及び開環に適したハイドロプロセシング触媒の少なくとも１つの床を備える、請求項１に記載の方法。
請求項5
該液体流を水素の存在下でハイドロプロセシング条件下で該ハイドロプロセシング触媒と接触させ、中間留出生成物を生成する、請求項４に記載の方法。
請求項6
工程（ａ）の該ハイドロプロセシング条件が４００°Ｆ〜９５０°Ｆ（２０４°Ｃ〜５１０°Ｃ）の反応温度、５００〜５０００ｐｓｉｇ（３．５〜３４．５ＭＰａ）の範囲の反応圧力、０．１〜１５ｈｒ−１（ｖ／ｖ）の範囲のＬＨＳＶ、及び５００〜２５００ｓｃｆ毎液体炭化水素供給原料１バレルの範囲の水素消費量（８９．１〜４４５ｍ３Ｈ２／ｍ３供給原料）を含む、請求項１に記載の方法。
請求項7
工程（ａ）の該ハイドロプロセシング条件が、好ましくは、６５０°Ｆ〜８５０°Ｆ（３４３°Ｃ〜４５４°Ｃ）の範囲の温度、１５００〜３５００ｐｓｉｇ（１０．４〜２４．２ＭＰａ）の範囲の反応圧力、０．２５〜２．５ｈｒ−１の範囲のＬＨＳＶ、及び５００〜２５００ｓｃｆ毎液体炭化水素供給原料１バレルの範囲の水素消費量（８９．１〜４４５ｍ３Ｈ２／ｍ３供給原料）を含む、請求項６に記載の方法。
請求項8
工程（ｅ）の該ハイドロプロセシング条件が４００°Ｆ〜９５０°Ｆ（２０４°Ｃ〜５１０°Ｃ）の反応温度、５００〜５０００ｐｓｉｇ（３．５〜３４．５ＭＰａ）の範囲の反応圧力、０．１〜１５ｈｒ−１（ｖ／ｖ）の範囲のＬＨＳＶ、及び５００〜２５００ｓｃｆ毎液体炭化水素供給原料バレルの範囲の水素消費量（８９．１〜４４５ｍ３Ｈ２／ｍ３供給原料）を含む、請求項１に記載の方法。
請求項9
工程（ｅ）の該ハイドロプロセシング条件が、好ましくは、６５０°Ｆ〜８５０°Ｆ（３４３°Ｃ〜４５４°Ｃ）の範囲の温度、１５００〜３５００ｐｓｉｇ（１０．４〜２４．２ＭＰａ）の範囲の反応圧力、０．２５〜２．５ｈｒ−１の範囲のＬＨＳＶ、及び５００〜２５００ｓｃｆ毎液体炭化水素供給原料１バレルの範囲の水素消費量（８９．１〜４４５ｍ３Ｈ２／ｍ３供給原料）を含む、請求項８に記載の方法。
請求項10
工程（ａ）への該炭化水素質供給原料が５００°Ｆ〜１５００°Ｆの範囲で沸騰する炭化水素を含む、請求項１に記載の方法。
請求項11
該炭化水素質供給原料が減圧ガス油、重質常圧ガス油、熱分解装置（ｄｅｌａｙｅｄｃｏｋｅｒ）ガス油、ビスブレーカー（ｖｉｓｂｒｅａｋｅｒ）ガス油、ＦＣＣ軽質循環油、及び脱アスファルト油から成る群から選択される、請求項１に記載の方法。
請求項12
該ハイドロプロセシング触媒が分解用成分及び水素化用成分の両方を含む、請求項１に記載の方法。
請求項13
該水素化用成分がＮｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｐｔ及びＰｄ又はそれらの組合せから成る群から選択される、請求項１２に記載の方法。
請求項14
該分解用成分が非晶質成分又はゼオライト質成分であっても良い、請求項１２に記載の方法。
請求項15
該ゼオライト質成分がＹ、ＵＳＹ、ＲＥＸ、及びＲＥＹゼオライトから成る群から選択される、請求項１４に記載の方法。
請求項16
生成した中間留出生成物が製品規格を満たすために更なる処理を必要としない、請求項１に記載の方法。
請求項17
ジェット燃料の硫黄含量が１０ｐｐｍ未満であり、煙点が２４ｍｍより大きく、ディーゼルの硫黄含量が１０ｐｐｍ未満であり、及びセタン指数が５０よりも大きい、請求項１６に記載の方法。
請求項18
単段階貫流水素化分解におけるよりも少量の水素が使用される、請求項１に記載の方法。
請求項19
使用される水素の量が、６０％転化率での単段階貫流水素化分解において使用される量よりも１６０ＳＣＦ毎バレル低く、４０％転化率での単段階貫流水素化分解において使用される量よりも１００ＳＣＦ毎バレル低く、及び３０％転化率での単段階貫流水素化分解において使用される量よりも５０ＳＣＦ毎バレル低い、請求項１８に記載の方法。
請求項20
第一反応ゾーンで水素化処理が起こり、及び第二反応ゾーンで水素化分解が起こる、請求項１に記載の方法。